[發(fā)明專利]陶瓷裝飾膜及其制備方法、殼體組件和電子設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110869212.3 | 申請(qǐng)日： | 2021-07-29 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN113602035B | 公開（公告）日： | 2022-08-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 廖奕翔 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | OPPO廣東移動(dòng)通信有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B44C5/00 | 分類號(hào)： | B44C5/00;H05K5/00 |
| 代理公司： | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人： | 熊永強(qiáng) |
| 地址： | 523860 廣東*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 陶瓷 裝飾 及其 制備 方法 殼體 組件 電子設(shè)備 | ||
本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N陶瓷裝飾膜，所述陶瓷裝飾膜包括氧化鋁層和著色劑，所述氧化鋁層具有相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面并開設(shè)有多個(gè)通孔，所述通孔貫穿所述第一表面和所述第二表面，所述著色劑填充在所述通孔中，其中所述陶瓷裝飾膜的光學(xué)透過率大于或等于20％。該陶瓷裝飾膜具有著色劑，能夠賦予陶瓷裝飾膜豐富的顏色外觀，同時(shí)陶瓷裝飾膜具有透光性，能夠更好地與其他膜層配合使用，并且陶瓷裝飾膜為陶瓷材質(zhì)，不會(huì)阻擋電磁波的傳輸，有利于陶瓷裝飾膜的應(yīng)用。本申請(qǐng)還提供了陶瓷裝飾膜的制備方法、殼體組件和電子設(shè)備。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)屬于電子產(chǎn)品技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及陶瓷裝飾膜及其制備方法、殼體組件和電子設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著電子設(shè)備的不斷發(fā)展，用戶對(duì)殼體外觀效果的要求也越來越高，單調(diào)的外觀已經(jīng)無(wú)法滿足用戶需求。因此，越來越多的殼體的外觀效果朝向多樣化發(fā)展。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于此，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N陶瓷裝飾膜及其制備方法、殼體組件和電子設(shè)備。
第一方面，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N陶瓷裝飾膜，所述陶瓷裝飾膜包括氧化鋁層和著色劑，所述氧化鋁層具有相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面并開設(shè)有多個(gè)通孔，所述通孔貫穿所述第一表面和所述第二表面，所述著色劑填充在所述通孔中，其中所述陶瓷裝飾膜的光學(xué)透過率大于或等于20％。
第二方面，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N陶瓷裝飾膜的制備方法，包括：
將鋁基材進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理，形成氧化層，所述氧化層包括氧化鋁層，所述氧化鋁層具有相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面并開設(shè)有多個(gè)通孔，所述通孔貫穿所述第一表面和所述第二表面；
分離所述氧化鋁層，并對(duì)所述氧化鋁層進(jìn)行著色處理，使所述通孔內(nèi)填充有著色劑，得到陶瓷裝飾膜，所述陶瓷裝飾膜的光學(xué)透過率大于或等于20％。
第三方面，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N殼體組件，所述殼體組件包括殼體以及第一方面所述的陶瓷裝飾膜，所述陶瓷裝飾膜設(shè)置在所述殼體的表面。
第四方面，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N電子設(shè)備，所述電子設(shè)備包括第三方面所述的殼體組件。
本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N陶瓷裝飾膜及其制備方法，該陶瓷裝飾膜具有著色劑，能夠賦予陶瓷裝飾膜豐富的顏色外觀，同時(shí)陶瓷裝飾膜具有透光性，能夠更好地與其他膜層配合使用，并且陶瓷裝飾膜為陶瓷材質(zhì)，不會(huì)阻擋電磁波的傳輸，有利于陶瓷裝飾膜的應(yīng)用；該陶瓷裝飾膜的制備方法簡(jiǎn)單，操作方便，能夠?qū)崿F(xiàn)大規(guī)模的生產(chǎn)；具有該陶瓷裝飾膜的殼體組件和電子設(shè)備的外觀效果豐富多樣，產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力強(qiáng)。
附圖說明
為了更清楚地說明本申請(qǐng)實(shí)施方式中的技術(shù)方案，下面將對(duì)本申請(qǐng)實(shí)施方式中所需要使用的附圖進(jìn)行說明。
圖1為本申請(qǐng)一實(shí)施方式提供的陶瓷裝飾膜的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本申請(qǐng)一實(shí)施方式提供的氧化鋁層的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本申請(qǐng)一實(shí)施方式提供的氧化鋁層的照片。
圖4為圖3中氧化鋁層的電鏡圖。
圖5為本申請(qǐng)一實(shí)施方式提供的圖1中虛線區(qū)域的放大示意圖。
圖6為本申請(qǐng)另一實(shí)施方式提供的圖1中虛線區(qū)域的放大示意圖。
圖7本申請(qǐng)另一實(shí)施方式提供的陶瓷裝飾膜的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖8為本申請(qǐng)一實(shí)施方式提供的圖7中虛線區(qū)域的放大示意圖。
圖9為本申請(qǐng)一實(shí)施方式提供的陶瓷裝飾膜的制備方法流程圖。
圖10為本申請(qǐng)一實(shí)施方式提供的陽(yáng)極氧化的過程示意圖。
圖11為本申請(qǐng)一實(shí)施例制得的陶瓷裝飾膜的照片。
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