[發明專利]陶瓷裝飾膜及其制備方法、殼體組件和電子設備

有效

• 申請號: 202110869212.3
• 申請日: 2021-07-29
• 公開（公告）號: CN113602035B
• 公開（公告）日: 2022-08-09
• 發明（設計）人: 廖奕翔
• 申請（專利權）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: B44C5/00
• 分類號: B44C5/00;H05K5/00
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強

1.一種陶瓷裝飾膜，其特征在于，所述陶瓷裝飾膜包括氧化鋁層和著色劑，所述氧化鋁層具有相對設置的第一表面和第二表面并開設有多個通孔，所述通孔貫穿所述第一表面和所述第二表面，所述著色劑填充在所述通孔中，其中所述陶瓷裝飾膜的光學透過率大于或等于20％。

2.如權利要求1所述的陶瓷裝飾膜，其特征在于，所述通孔的孔徑為10nm-40nm，所述氧化鋁層的孔容為1ml/g-5ml/g。

3.如權利要求1所述的陶瓷裝飾膜，其特征在于，還包括封孔劑，所述封孔劑填充并封閉所述通孔端部的開口處。

4.如權利要求3所述的陶瓷裝飾膜，其特征在于，所述著色劑的填充厚度為3μm-8μm，所述封孔劑的填充厚度為2μm-3μm。

5.如權利要求1所述的陶瓷裝飾膜，其特征在于，所述氧化鋁層的厚度為20μm-50μm，所述氧化鋁層的光學透過率大于或等于60％。

6.一種陶瓷裝飾膜的制備方法，其特征在于，包括：

將鋁基材進行陽極氧化處理，形成氧化層，所述氧化層包括氧化鋁層和無孔阻擋層，所述氧化鋁層具有相對設置的第一表面和第二表面并開設有多個通孔，所述通孔貫穿所述第一表面和所述第二表面；

通過加熱和化學刻蝕中的至少一種方法，將所述鋁基材、所述無孔阻擋層與所述氧化鋁層分離，并對所述氧化鋁層進行著色處理，使所述通孔內填充有著色劑，得到陶瓷裝飾膜，所述陶瓷裝飾膜的光學透過率大于或等于20％。

7.如權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括：在所述著色處理后進行封孔處理，使封孔劑填充并封閉所述通孔端部的開口處。

8.一種殼體組件，其特征在于，所述殼體組件包括殼體以及權利要求1-5任一項所述的陶瓷裝飾膜，所述陶瓷裝飾膜設置在所述殼體的表面。

9.如權利要求8所述的殼體組件，其特征在于，所述殼體組件還包括光學膜層、不導電金屬層和紋理層中的至少一種。

10.如權利要求9所述的殼體組件，其特征在于，所述光學膜層包括至少一層高折射率光學薄膜以及至少一層低折射率光學薄膜，所述高折射率光學薄膜和所述低折射率光學薄膜交替層疊設置；所述高折射率光學薄膜的折射率為2-3，所述低折射率光學薄膜的折射率為1.1-1.7；所述高折射率光學薄膜的材質包括二氧化鈦、五氧化二鉭、五氧化二鈮、硫化鋅和二氧化鋯中的至少一種，所述低折射率光學薄膜的材質包括一氧化硅、二氧化硅和氟化鎂中的至少一種。

11.如權利要求8所述的殼體組件，其特征在于，所述殼體組件還包括防爆膜，所述防爆膜設置在所述殼體的表面。

12.一種電子設備，其特征在于，所述電子設備包括權利要求8-11中任一項所述的殼體組件。