[發明專利]缺陷忽視區域的自計算方法及裝置

在審

• 申請號: 202110865251.6
• 申請日: 2021-07-29
• 公開（公告）號: CN113591038A
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發明（設計）人: 葉林
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G06F17/18
• 分類號: G06F17/18
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 周耀君

本發明提供了一種缺陷忽視區域的自計算方法及裝置，在晶圓上定義包含已知缺陷的缺陷放寬區域，所述缺陷放寬區域包括陣列排布的子區域；沿所述晶圓的邊緣至中心的方向逐行或逐列掃描所述子區域，每掃描一行或一列所述子區域，獲取該行或該列的所有所述子區域的缺陷值的平均值，并判斷所述平均值是否在一預設的缺陷閾值范圍內，當掃描到平均值不在所述缺陷預設閾值范圍內的一行或一列所述子區域時，停止掃描，并將平均值在所述缺陷預設閾值范圍內的所有行或所有列的子區域定義為缺陷忽視區域，實現自計算缺陷忽視區域的邊界，從而能夠解決所述缺陷忽視區域過大漏掉關鍵性的缺陷或者所述缺陷忽視區域過小干擾信號過多的問題。

技術領域

本發明涉及半導體制造技術領域，特別涉及一種缺陷忽視區域的自計算方法及其裝置。

背景技術

半導體新工藝研發工程中，特殊區域發現特定缺陷，尤其是光罩相關問題導致的固定區域問題。此類工藝問題，一般通過光照改版即可解決(即此類缺陷已有應對措施)，而由于光罩改版或者其他工藝修改時間周期長，因此該缺陷會在一定的周期時間內存在，并且影響其他缺陷的判定，即該已知缺陷數量過大，導致晶圓面內缺陷掃描超過設定值，或者觀測過程中自動選擇了大量該已知缺陷。

現有方法一般是通過掃描機臺的定義缺陷忽視區域，將這些特定的固定區域通過設定邊界的方式直接取出，在之后的掃描過程中則不會被計算進入掃描結果統計。

現有方法有兩個缺陷：第一，定義區域的手法過緊：即缺陷忽視區域的邊界剛好卡在缺陷的邊界線上，則晶圓在載物臺(stage)上稍有偏差時，會導致大量的缺陷忽視區域內干擾信號掃描到，影響整體缺陷判斷。第二，定義區域的手法過松：即缺陷忽視區域的邊界存留一定的缺陷放寬區域(spec datal)。但缺陷放寬區域(detal)的值過大則會導致可能存在關鍵性缺陷的丟失(miss)。

發明內容

本發明的目的在于提供一種缺陷忽視區域的自計算方法及其裝置，以解決缺陷忽視區域過大漏掉關鍵性的缺陷或者缺陷忽視區域過小干擾信號過多的問題。

為解決上述技術問題，本發明提供一種缺陷忽視區域的自計算方法，包括，

在晶圓上定義包含已知缺陷的缺陷放寬區域，所述缺陷放寬區域包括陣列排布的子區域；

沿所述晶圓的邊緣至中心的方向逐行或逐列掃描所述子區域，每掃描一行或一列所述子區域，獲取該行或該列的所有所述子區域的缺陷值的平均值，并判斷所述平均值是否在一預設的缺陷閾值范圍內，當掃描到平均值不在所述缺陷預設閾值范圍內的一行或一列所述子區域時，停止掃描，并將平均值在所述缺陷預設閾值范圍內的所有行或所有列的子區域定義為缺陷忽視區域。

可選的，所述缺陷值用于表征所述子區域中的缺陷的面積。

可選的，所述已知缺陷為顯影液殘留而導致的缺陷，所述缺陷放寬區域包括所述晶圓的邊緣所在的區域。

可選的，所述缺陷放寬區域的數量至少為兩個。

可選的，利用掃描電子顯微鏡掃描所述子區域，所述子區域在掃描方向上的寬度等于所述掃描電子顯微鏡的最小分辨率。

可選的，若所述缺陷放寬區域的子區域的列數大于行數時，逐行掃描所述子區域并計算每行的所有所述子區域的缺陷值的平均值；若所述缺陷放寬區域的子區域的列數小于行數時，逐列掃描所述子區域并計算每列的所有所述子區域的缺陷值的平均值；若所述缺陷放寬區域的子區域的列數等于行數時，逐列掃描所述子區域并計算每列的所有所述子區域的缺陷值的平均值，或者逐行掃描所述子區域并計算每行的所有所述子區域的缺陷值的平均值。

可選的，所述缺陷預設閾值范圍為(60％P,140％P)，P為缺陷放寬區域中缺陷值最大的10個子區域的缺陷值的平均值。

可選的，掃描第一行子區域或者第一列子區域的缺陷值時，從最遠離所述晶圓的中心的一行或一列開始掃描。