[發明專利]缺陷忽視區域的自計算方法及裝置

在審

• 申請號: 202110865251.6
• 申請日: 2021-07-29
• 公開（公告）號: CN113591038A
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發明（設計）人: 葉林
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G06F17/18
• 分類號: G06F17/18
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 周耀君

1.一種缺陷忽視區域的自計算方法，其特征在于，包括：

在晶圓上定義包含已知缺陷的缺陷放寬區域，所述缺陷放寬區域包括陣列排布的子區域；

沿所述晶圓的邊緣至中心的方向逐行或逐列掃描所述子區域，每掃描一行或一列所述子區域，獲取該行或該列的所有所述子區域的缺陷值的平均值，并判斷所述平均值是否在一預設的缺陷閾值范圍內，當掃描到平均值不在所述缺陷預設閾值范圍內的一行或一列所述子區域時，停止掃描，并將平均值在所述缺陷預設閾值范圍內的所有行或所有列的子區域定義為缺陷忽視區域。

2.如權利要求1所述的缺陷忽視區域的自計算方法，其特征在于，所述缺陷值用于表征所述子區域中的缺陷的面積。

3.如權利要求1所述的缺陷忽視區域的自計算方法，其特征在于，所述已知缺陷為顯影液殘留而導致的缺陷，所述缺陷放寬區域包括所述晶圓的邊緣所在的區域。

4.如權利要求1所述的缺陷忽視區域的自計算方法，其特征在于，所述缺陷放寬區域的數量至少為兩個。

5.如權利要求1所述的缺陷忽視區域的自計算方法，其特征在于，利用掃描電子顯微鏡掃描所述子區域，所述子區域在掃描方向上的寬度等于所述掃描電子顯微鏡的最小分辨率。

6.如權利要求1所述的缺陷忽視區域的自計算方法，其特征在于，若所述缺陷放寬區域的子區域的列數大于行數時，逐行掃描所述子區域并計算每行的所有所述子區域的缺陷值的平均值；若所述缺陷放寬區域的子區域的列數小于行數時，逐列掃描所述子區域并計算每列的所有所述子區域的缺陷值的平均值；若所述缺陷放寬區域的子區域的列數等于行數時，逐列掃描所述子區域并計算每列的所有所述子區域的缺陷值的平均值，或者逐行掃描所述子區域并計算每行的所有所述子區域的缺陷值的平均值。

7.如權利要求1所述的缺陷忽視區域的自計算方法，其特征在于，所述缺陷預設閾值范圍為(60％P，140％P)，P為缺陷放寬區域中缺陷值最大的10個子區域的缺陷值的平均值。

8.如權利要求1所述的缺陷忽視區域的自計算方法，其特征在于，掃描第一行子區域或者第一列子區域的缺陷值時，從最遠離所述晶圓的中心的一行或一列開始掃描。

9.一種缺陷忽視區域的自計算裝置，其特征在于，包括：

缺陷放寬區域定義單元，用于在晶圓上定義包含已知缺陷的缺陷放寬區域，所述缺陷放寬區域包括陣列排布的子區域；

掃描計算單元，用于沿所述晶圓的邊緣至中心的方向逐行或逐列掃描所述子區域，每掃描一行或一列所述子區域，獲取該行或該列的所有所述子區域的缺陷值的平均值；

判斷單元，用于判斷所述平均值是否在一預設的缺陷閾值范圍內，當掃描到平均值不在所述缺陷預設閾值范圍內的一行或一列所述子區域時，停止掃描，并將平均值在所述缺陷預設閾值范圍內的所有行或所有列的子區域定義為缺陷忽視區域。

10.如權利要求1所述的缺陷忽視區域的自計算裝置，其特征在于，所述掃描單元為掃描電子顯微鏡。