[發明專利]用于模擬細胞形變損傷的細胞培養裝置

在審

• 申請號: 202110864900.0
• 申請日: 2021-07-29
• 公開（公告）號: CN113462567A
• 公開（公告）日: 2021-10-01
• 發明（設計）人: 武明媚;鄺芳;游思維
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍空軍軍醫大學
• 主分類號: C12M3/00
• 分類號: C12M3/00;C12M1/42;C12M1/36;C12M1/34
• 代理公司: 西安銘澤知識產權代理事務所(普通合伙) 61223
• 代理人: 崔瑞迎

1.一種用于模擬細胞形變損傷的細胞培養裝置，其特征在于，包括，

細胞培養槽(2)，用于盛放培養基和細胞；

第一電磁裝置，其設置于所述細胞培養槽(2)一側，所述第一電磁裝置包括串聯的第一電源(3)、第一螺線管(31)和第一開關(32)，所述第一螺線管(31)靠近所述細胞培養槽(2)設置；

第二電磁裝置，與所述第一電磁裝置的結構相同，包括第二電源、第二螺線管和第二開關，所述第二電磁裝置設置在所述細胞培養槽(2)的另一側；所述第二電磁裝置與所述第一電磁裝置中電流方向相同或相反。

2.根據權利要求1所述的用于模擬細胞形變損傷的細胞培養裝置，其特征在于，還包括空腔的底座(1)，所述細胞培養槽(2)、第一電磁裝置、第二電磁裝置均設于所述底座(1)上，所述第一電源(3)和所述第二電源均設置在所述底座(1)的空腔內，所述第一開關(32)和所述第二開關均設置在所述底座(1)側壁，所述第一螺線管(31)和所述第二螺線管均安裝在所述底座(1)上方。

3.根據權利要求2所述的用于模擬細胞形變損傷的細胞培養裝置，其特征在于，所述第一螺線管(31)內部是空心，或者設置有金屬芯。

4.根據權利要求2所述的用于模擬細胞形變損傷的細胞培養裝置，其特征在于，所述第一螺線管(31)與所述細胞培養槽(2)之間的距離為0.1-3cm。

5.根據權利要求2所述的用于模擬細胞形變損傷的細胞培養裝置，其特征在于，所述第一電磁裝置和所述第二電磁裝置的串聯電路上均安裝有可變電阻，所述可變電阻的開關均安裝在所述底座(1)的外壁。

6.根據權利要求2所述的用于模擬細胞形變損傷的細胞培養裝置，其特征在于，還包括，

滑軌(4)，其安裝在所述底座(1)上、沿所述細胞培養槽(2)長度方向的兩側延伸；

兩個滑塊(5)，每個所述滑軌(4)上均連接有所述滑塊(5)，其中一個所述滑塊(5)上安裝有第一螺線管(31)，另一個所述滑塊(5)上安裝有第二螺線管；

兩個限位裝置，分別安裝在每個所述滑塊(5)上。

7.根據權利要求6所述的用于模擬細胞形變損傷的細胞培養裝置，其特征在于，所述限位裝置為步進電機或者帶自鎖的滾輪。

8.根據權利要求6所述的用于模擬細胞形變損傷的細胞培養裝置，其特征在于，沿每個所述滑軌(4)的兩側分別設有通槽(6)。

9.根據權利要求1所述的用于模擬細胞形變損傷的細胞培養裝置，其特征在于，所述第一電磁裝置還包括，

第一顯示器(33)，安裝在所述底座(1)外壁；

第一電流傳感器，安裝在所述底座(1)內部，與所述第一螺線管(31)連接；

第一控制器，分別與所述第一顯示器(33)和所述第一電流傳感器連接。

10.根據權利要求1所述的用于模擬細胞形變損傷的細胞培養裝置，其特征在于，所述細胞培養槽(2)包括，

淺槽體(21)，安裝在所述底座(1)上；

框架(22)，安裝在所述淺槽體(21)頂部，其與所述第一螺線管(31)和所述第二螺線管相鄰的側面開口，所述第一螺線管(31)和所述第二螺線管的管口分別正對著與其相鄰的框架(22)開口；

多個擋板(23)，安裝在淺槽體(21)上、沿所述淺槽體(21)長度方向分布。