[發(fā)明專利]一種雙重曝光的對位方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110863323.3
• 申請日: 2021-07-29
• 公開（公告）號: CN113448181A
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王緒勝
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州工業(yè)園區(qū)納米產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 蘇州謹(jǐn)和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32295
• 代理人: 唐靜芳

本發(fā)明涉及一種雙重曝光的對位方法，該方法包括：對目標(biāo)物進(jìn)行一次曝光，以在目標(biāo)物上形成第一曝光圖形，第一曝光圖形具有第一對位點(diǎn)；對目標(biāo)物進(jìn)行二次曝光，二次曝光基于第一對位點(diǎn)，以在目標(biāo)物上形成第二曝光圖形，第二曝光圖形與第一曝光圖形重合。通過對目標(biāo)物進(jìn)行一次曝光以形成第一曝光圖形，在第一曝光圖形上設(shè)置第一對位點(diǎn)，基于該第一對位點(diǎn)對該目標(biāo)進(jìn)行二次曝光并形成第二曝光圖形，以使得第二曝光圖形與第一曝光圖形重合。該對位方法快速準(zhǔn)確。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及一種雙重曝光的對位方法。

背景技術(shù)

目前的顯示技術(shù)中，對制備工藝的精確度越來越高，光刻是顯示技術(shù)工藝過程中的必須環(huán)節(jié)。該環(huán)節(jié)中通常會結(jié)合有多重曝光方式進(jìn)行曝光，而多重曝光中最重要的則是使得多重曝光的圖形重合。目前的彩膜基板，在玻璃基板內(nèi)側(cè)設(shè)置有對位標(biāo)記，如BM Mark，則在玻璃基板兩側(cè)形成圖案時(shí)，通過外部曝光的方式，將內(nèi)側(cè)設(shè)置的BM Mark作為曝光機(jī)識別的對準(zhǔn)點(diǎn)進(jìn)行曝光，但由于玻璃基板較厚，曝光機(jī)的對焦形成小于玻璃基板的厚度，使得較難對焦該內(nèi)側(cè)的對位標(biāo)記，導(dǎo)致對準(zhǔn)失敗。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種快速、準(zhǔn)確的雙重曝光的對位方法。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種雙重曝光的對位方法，所述方法包括：

對目標(biāo)物進(jìn)行一次曝光，以在所述目標(biāo)物上形成第一曝光圖形，所述第一曝光圖形具有第一對位點(diǎn)；

對所述目標(biāo)物進(jìn)行二次曝光，所述二次曝光基于所述第一對位點(diǎn)，以在所述目標(biāo)物上形成第二曝光圖形，所述第二曝光圖形與所述第一曝光圖形重合。

進(jìn)一步地，所述“所述二次曝光基于所述第一對位點(diǎn)，以在所述目標(biāo)物上形成第二曝光圖形”具體為：

在所述二次曝光中，曝光機(jī)的透鏡上具有第二對位點(diǎn)，曝光機(jī)的光源通過所述第二對位點(diǎn)形成的投影與所述第一對位點(diǎn)重合；

在所述目標(biāo)物上形成所述第二曝光圖形。

進(jìn)一步地，所述方法還包括：

在所述一次曝光中，所述曝光機(jī)的透鏡與所述目標(biāo)物之間具有制圖格網(wǎng)，所述曝光機(jī)的光源通過所述透鏡和所述制圖格網(wǎng)，在所述目標(biāo)物上形成格網(wǎng)，所述第一曝光圖形基于所述格網(wǎng)排序。

進(jìn)一步地，所述“所述二次曝光基于所述第一對位點(diǎn)，以在所述目標(biāo)物上形成第二曝光圖形”具體為：

在所述二次曝光中，曝光機(jī)識別所述第一對位點(diǎn)，以使得所述曝光機(jī)的光源通過所述透鏡形成的第二曝光圖形與所述第一曝光圖形重合。

進(jìn)一步地，所述方法還包括：

在所述一次曝光中，所述透鏡上設(shè)置有形成所述第一對位點(diǎn)的標(biāo)記點(diǎn)。

進(jìn)一步地，所述方法還包括：

所述第一對位點(diǎn)形成在所述第一曝光圖形的邊側(cè)。

本發(fā)明的有益效果在于：通過對目標(biāo)物進(jìn)行一次曝光以形成第一曝光圖形，在第一曝光圖形上設(shè)置第一對位點(diǎn)，基于該第一對位點(diǎn)對該目標(biāo)進(jìn)行二次曝光并形成第二曝光圖形，以使得第二曝光圖形與第一曝光圖形重合。該對位方法快速準(zhǔn)確。

上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，并可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本發(fā)明的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說明如后。

附圖說明

圖1為本發(fā)明所示的Stepper曝光機(jī)的曝光方式的示意圖；

圖2為圖1所示的Stepper曝光機(jī)在目標(biāo)物上依次曝光的示意圖；

圖3為本發(fā)明所示的Aligner曝光機(jī)的曝光方式的示意圖；