[發(fā)明專利]一種雙重曝光的對(duì)位方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110863323.3
• 申請(qǐng)日: 2021-07-29
• 公開（公告）號(hào): CN113448181A
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王緒勝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州工業(yè)園區(qū)納米產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 蘇州謹(jǐn)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32295
• 代理人: 唐靜芳

1.一種雙重曝光的對(duì)位方法，其特征在于，所述方法包括：

對(duì)目標(biāo)物進(jìn)行一次曝光，以在所述目標(biāo)物上形成第一曝光圖形，所述第一曝光圖形具有第一對(duì)位點(diǎn)；

對(duì)所述目標(biāo)物進(jìn)行二次曝光，所述二次曝光基于所述第一對(duì)位點(diǎn)，以在所述目標(biāo)物上形成第二曝光圖形，所述第二曝光圖形與所述第一曝光圖形重合。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述“所述二次曝光基于所述第一對(duì)位點(diǎn)，以在所述目標(biāo)物上形成第二曝光圖形”具體為：

在所述二次曝光中，曝光機(jī)的透鏡上具有第二對(duì)位點(diǎn)，曝光機(jī)的光源通過所述第二對(duì)位點(diǎn)形成的投影與所述第一對(duì)位點(diǎn)重合；

在所述目標(biāo)物上形成所述第二曝光圖形。

3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

在所述一次曝光中，所述曝光機(jī)的透鏡與所述目標(biāo)物之間具有制圖格網(wǎng)，所述曝光機(jī)的光源通過所述透鏡和所述制圖格網(wǎng)，在所述目標(biāo)物上形成格網(wǎng)，所述第一曝光圖形基于所述格網(wǎng)排序。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述“所述二次曝光基于所述第一對(duì)位點(diǎn)，以在所述目標(biāo)物上形成第二曝光圖形”具體為：

在所述二次曝光中，曝光機(jī)識(shí)別所述第一對(duì)位點(diǎn)，以使得所述曝光機(jī)的光源通過所述透鏡形成的第二曝光圖形與所述第一曝光圖形重合。

5.如權(quán)利要求2-4中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

在所述一次曝光中，所述透鏡上設(shè)置有形成所述第一對(duì)位點(diǎn)的標(biāo)記點(diǎn)。

6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

所述第一對(duì)位點(diǎn)形成在所述第一曝光圖形的邊側(cè)。