[發(fā)明專利]透鏡、鏡頭、攝像頭模組及電子設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110859592.2
• 申請日: 2021-07-28
• 公開（公告）號: CN115685412A
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發(fā)明（設計）人: 葉海水;鄒海良;陳辰
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00;G02B1/11;G02B7/02;H04M1/02;G03B30/00;H04N23/57;H04N23/50;H04N23/55;H04N23/54
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強;李稷芳

本申請公開了一種透鏡、鏡頭、攝像頭模組及電子設備。透鏡包括襯底和包裹襯底的抗?jié)駥樱節(jié)駥影ㄍㄟ^原子層沉積工藝制成的一層或多層金屬氧化物膜層，抗?jié)駥拥脑用芏仍?atm/cm³至20×10²²atm/cm³的范圍內(nèi)，抗?jié)駥拥乃魵馔高^率小于10^?2g/(m²·day)。上述透鏡在高溫高濕或常溫高濕環(huán)境下的使用壽命長而不發(fā)生形變或形變量很小，有利于改善攝像頭模組在高溫高濕或常溫高濕環(huán)境下持續(xù)使用的成像清晰度。

技術領域

本申請涉及拍攝設備技術領域，尤其涉及一種透鏡、鏡頭、攝像頭模組及電子設備。

背景技術

在智能終端市場，攝像頭模組逐漸朝著多焦段、大成像靶面、極致小型化的緊湊型設計等方向發(fā)展，主要價值是攝影功能覆蓋全焦段(從超廣角到超長焦)、圖像效果高清、顏色還原接近真實、超薄或者極致小型化等適配終端設備有限的空間。

光學鏡頭是攝像頭模組的必備元件，光學鏡頭一般稱為攝像鏡頭或攝影鏡頭，簡稱鏡頭，其功能是將物空間的物體聚焦成像在電子感光元件上，直接決定成像質(zhì)量的優(yōu)劣，同時后期的圖像處理算法也依賴于鏡頭質(zhì)量。鏡頭的成像質(zhì)量與諸多因素相關，其中，在濕度較高的環(huán)境下，設計敏感鏡頭的透鏡容易因水汽滲入而發(fā)生形變，這會明顯影響到鏡頭的成像品質(zhì)，導致圖像變得模糊，部分攝像頭模組甚至存在功能失效的風險。

發(fā)明內(nèi)容

本申請?zhí)峁┝艘环N透鏡、鏡頭、攝像頭模組及電子設備，透鏡在常溫高濕、高溫高濕環(huán)境下使用的壽命更長而不發(fā)生形變或形變量很小，以改善攝像頭模組在常溫高濕、高溫高濕環(huán)境下持續(xù)使用的成像清晰度。

第一方面，本申請?zhí)峁┮环N透鏡，應用于攝像頭模組的鏡頭。透鏡包括襯底和包裹襯底的抗?jié)駥樱節(jié)駥影ㄍㄟ^原子層沉積工藝制成的一層或多層金屬氧化物膜層，抗?jié)駥拥脑用芏仍?atm/cm³至20×10²²atm/cm³的范圍內(nèi)，水蒸氣透過率小于10^-2g/(m²·day)。

在本申請中，抗?jié)駥佑糜谧韪羲M入襯底材料，以延緩襯底發(fā)生形變而失效的時間，使得透鏡在濕度較高的環(huán)境中能工作更長的時間而不發(fā)生形變或者形變較小。

由于抗?jié)駥邮峭ㄟ^原子層沉積工藝形成的致密氧化物結構，具有高的原子密度和低的水蒸氣透過率，使得抗?jié)駥釉跐穸雀叩沫h(huán)境中，依然能夠有效阻隔水分子進入襯底，使得透鏡在高濕環(huán)境下使用的壽命更長而不發(fā)生形變或形變量很小，以改善攝像頭模組在高溫高濕環(huán)境下持續(xù)使用的成像清晰度。其中，抗?jié)駥釉诟邷馗邼竦沫h(huán)境(例如85％濕度和85℃)和常溫高濕環(huán)境(例如85％濕度和30℃)都具有良好的水汽阻隔效果，透鏡不發(fā)生形變或形變量很小。

此外，通過原子層沉積工藝形成的抗?jié)駥雍穸染鶆颍疫m用于復雜面型的鍍膜，可以有效避免襯底上存在未沉積的空白區(qū)域?qū)е滤M入、而影響抗水汽滲透性能，使得透鏡的抗?jié)裥阅芸煽俊?/p>

一些可能的實現(xiàn)方式中，抗?jié)駥拥暮穸仍?nm至500nm的范圍內(nèi)。

在本實現(xiàn)方式中，抗?jié)駥幽軌蛟跐M足水蒸氣透過率的情況下，具有較薄的厚度，以避免膜層過厚而導致透鏡的透光率衰減、鍍膜應力集中等問題。此外，抗?jié)駥拥暮穸容^薄也有利于縮減其沉積成型的時間，以提高加工效率。

一些可能的實現(xiàn)方式中，抗?jié)駥拥拇植诙仍?.5nm至5nm的范圍內(nèi)。此時，抗?jié)駥拥某尚推焚|(zhì)較高，能夠有效確保其原子密度和水蒸氣透過率，可靠性高。

一些可能的實現(xiàn)方式中，抗?jié)駥拥慕饘傺趸锬影ㄤX、鈦、鋯、鉿或硅。例如，抗?jié)駥涌梢园ㄑ趸X膜層、氧化鈦膜層、氧化硅膜層、氧化鉿膜層和/或氧化鋯膜層。

一些可能的實現(xiàn)方式中，抗?jié)駥影ㄒ粚咏饘傺趸锬印４藭r，抗?jié)駥拥墓に嚭唵巍⒁讓崿F(xiàn)、成本低。