[發明專利]透鏡、鏡頭、攝像頭模組及電子設備

在審

• 申請號: 202110859592.2
• 申請日: 2021-07-28
• 公開（公告）號: CN115685412A
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發明（設計）人: 葉海水;鄒海良;陳辰
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00;G02B1/11;G02B7/02;H04M1/02;G03B30/00;H04N23/57;H04N23/50;H04N23/55;H04N23/54
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強;李稷芳

1.一種透鏡，應用于攝像頭模組的鏡頭，其特征在于，所述透鏡包括襯底和包裹所述襯底的抗濕層，所述抗濕層包括通過原子層沉積工藝制成的一層或多層金屬氧化物膜層，所述抗濕層的原子密度在1atm/cm³至20×10²²atm/cm³的范圍內，水蒸氣透過率小于10^-2g/(m²·day)。

2.根據權利要求1所述的透鏡，其特征在于，所述抗濕層的厚度在1nm至500nm的范圍內。

3.根據權利要求1或2所述的透鏡，其特征在于，所述抗濕層的粗糙度在0.5nm至5nm的范圍內。

4.根據權利要求1所述的透鏡，其特征在于，所述抗濕層的金屬氧化物膜層包括鋁、鈦、鋯、鉿或硅。

5.根據權利要求1所述的透鏡，其特征在于，所述抗濕層包括一層氧化鋁膜層或氧化硅膜層，所述抗濕層的厚度在20nm至200nm的范圍內；

或者，所述抗濕層包括至少一層氧化鋁膜層和至少一層氧化硅膜層，所述氧化鋁膜層和所述氧化硅膜層交替地層疊設置，所述抗濕層的厚度在50nm至500nm的范圍內。

6.根據權利要求1所述的透鏡，其特征在于，所述襯底包括相背設置的第一光學有效面和第二光學有效面；

所述透鏡還包括第一接觸層和第二接觸層，所述第一接觸層位于所述第一光學有效面與所述抗濕層之間且覆蓋所述第一光學有效面，所述第二接觸層位于所述第二光學有效面與所述抗濕層之間且覆蓋所述第二光學有效面，所述第一接觸層和所述第二接觸層的折射率介于所述襯底的折射率與所述抗濕層的折射率之間。

7.根據權利要求6所述的透鏡，其特征在于，所述襯底的折射率在1.4至1.85的范圍內，所述抗濕層的折射率在1.4至1.8的范圍內。

8.根據權利要求6或7所述的透鏡，其特征在于，所述第一接觸層為有機物膜層；

或者，所述第一接觸層包括一層或多層金屬氧化物膜層。

9.根據權利要求1或6所述的透鏡，其特征在于，所述襯底包括相背設置的第一光學有效面和第二光學有效面；

所述透鏡還包括第一減反層和第二減反層，所述第一減反層位于所述抗濕層背向所述第一光學有效面的一側，且覆蓋所述第一光學有效面，所述第二減反層位于所述抗濕層背向所述第二光學有效面的一側，且覆蓋所述第二光學有效面，所述第一減反層和所述第二減反層用于降低所述透鏡的反射率。

10.根據權利要求9所述的透鏡，其特征在于，所述第一減反層包括多層第一膜層和多層第二膜層，所述第一膜層和所述第二膜層交替地層疊設置，所述第一膜層的折射率高于所述第二膜層的折射率；

或者，所述第一減反層包括層疊設置多層膜層，多層所述膜層的折射率漸變；

或者，所述第一減反層具有亞波長結構。

11.根據權利要求1所述的透鏡，其特征在于，所述襯底包括相背設置的第一光學有效面和第二光學有效面；

所述透鏡還包括第一減反層和第二減反層，所述第一減反層位于所述抗濕層與所述第一光學有效面之間且覆蓋所述第一光學有效面，所述第二減反層位于所述抗濕層與所述第二光學有效面之間且覆蓋所述第二光學有效面，所述第一減反層和所述第二減反層用于降低所述透鏡的反射率。

12.根據權利要求11所述的透鏡，其特征在于，所述第一減反層包括多層第一膜層和多層第二膜層，所述第一膜層和所述第二膜層交替地層疊設置，所述第一膜層的折射率高于所述第二膜層的折射率；

或者，所述第一減反層包括層疊設置多層膜層，多層所述膜層的折射率漸變。