[發明專利]指紋識別模組及指紋識別方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 202110854065.2
• 申請日: 2021-07-27
• 公開（公告）號: CN113505749A
• 公開（公告）日: 2021-10-15
• 發明（設計）人: 韓城;李鑫;關新興;吳淞全;吳啟曉;張智輝;樊星;李彥松
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 北京風雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 李弘

1.一種指紋識別模組，包括：

襯底基板；

光線會聚層，設置于所述襯底基板上，被配置為將指紋反射的雜散反射光線進行全反射會聚；

感光層，設置于所述襯底基板及所述光線匯聚層之間，被配置為接收所述光線會聚層會聚后的所述雜散反射光線以及經指紋反射的主反射光線以生成指紋信號。

2.根據權利要求1所述的指紋識別模組，其中，所述光線會聚層包括：

第一電極層，設置于所述感光層上；

多個第一微結構單元，設置于所述第一電極層上；

多個第二微結構單元，設置于所述第一電極層上，與所述第一微結構單元間隔設置，且所述第二微結構單元與第一微結構單元的交界處形成斜坡面，所述斜坡面與第一電極層之間為銳角；

第二電極層，設置于第二微結構單元遠離所述感光層的一側；

其中，所述第一電極層和所述第二電極層被配置為：在所述第一電極層與所述第二電極層之間形成電場，使所述第二微結構單元的折射率升高至大于所述第一微結構單元的折射率，以將入射至所述斜坡面的所述雜散反射光線反射至所述感光層。

3.根據權利要求2所述的指紋識別模組，其中，所述第二微結構單元的折射率升高至為所述第一微結構單元的折射率的1.1～1.2倍。

4.根據權利要求2所述的指紋識別模組，其中，所述斜坡面與所述第一電極層之間的銳角θ滿足：

arcsin(n1/n2)≤θ＜90°

其中，n1表示第一微結構單元的折射率，n2表示第二微結構單元的折射率。

5.根據權利要求2所述的指紋識別模組，其中，所述第一微結構單元為截面為倒梯形的條形結構，所述第二微結構單元為截面為正梯形的條形結構。

6.根據權利要求2所述的指紋識別模組，其中，所述第一微結構單元為截面為倒梯形的塊狀結構，所述第二微結構單元為截面為正梯形的塊狀結構，且多個所述第一微結構單元與多個所述第二微結構單元間隔陣列排布。

7.根據權利要求5或6所述的指紋識別模組，還包括：

平坦層，設置于所述第一微結構單元及所述第二微結構單元上，且與所述第二微結構單元一體成型。

8.根據權利要求5或6所述的指紋識別模組，其中，所述第一電極層包括多個第一電極單元，且所述第一電極單元在所述襯底基板上的正投影與所述第二微結構單元靠近所述感光層的底面在所述襯底基板上的正投影重合。

9.根據權利要求8所述的指紋識別模組，其中，所述第二電極層包括面狀電極層結構；或者，所述第二電極層包括多個第二電極單元，且所述第二電極單元在所述襯底基板上的正投影與所述第一電極單元在所述襯底基板上的正投影重合。

10.根據權利要求2所述的指紋識別模組，還包括：

觸控傳感器，被配置為采集指紋位置的壓力信息，基于所述壓力信息生成電信號用以形成所述第一電極層及所述第二電極層之間的電場。

11.一種顯示裝置，包括如權利要求1-10任一項所述的指紋識別模組。

12.根據權利要求11所述的顯示裝置，其中，所述顯示裝置還包括顯示面板，所述指紋識別模組包括光線會聚層、感光層、襯底基板以及觸控傳感器，所述光線會聚層、所述感光層以及所述襯底基板沿遠離所述顯示面板的方向依次層疊設置于所述顯示面板的背光面，所述觸控傳感器設置于所述顯示面板的出光面。

13.一種指紋識別方法，應用于指紋識別模組，所述指紋識別模組包括依次層疊設置的襯底基板、感光層以及光線會聚層；所述方法包括：

通過所述光線會聚層將指紋反射的雜散反射光線進行全反射會聚；

通過所述感光層接收所述光線會聚層會聚后的所述雜散反射光線以及經指紋反射的主反射光線以生成指紋信號。