[發明專利]場效應管的測試方法在審
| 申請號: | 202110852071.4 | 申請日: | 2021-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN113740691A | 公開(公告)日: | 2021-12-03 |
| 發明(設計)人: | 葛偉坡;潘建峰;章志強;劉春勝;王麗高 | 申請(專利權)人: | 杭州士蘭集成電路有限公司;杭州士蘭集昕微電子有限公司 |
| 主分類號: | G01R31/26 | 分類號: | G01R31/26 |
| 代理公司: | 北京成創同維知識產權代理有限公司 11449 | 代理人: | 蔡純;甄丹鳳 |
| 地址: | 310018 浙江省杭州市杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 場效應 測試 方法 | ||
1.一種場效應管的測試方法,其特征在于,包括:
在所述場效應管的源極和漏極之間施加第一電流,以釋放溝道區的電荷;
在所述場效應管的源極和漏極之間施加第二電流,以測試源極和漏極之間的電壓,
其中,所述第一電流大于所述第二電流;場效應管的源極和漏極之間具有寄生二極管,所述第二電流反向流過寄生二極管時,源極和漏極的電壓表征所述場效應管的漏源擊穿電壓。
2.根據權利要求1所述的場效應管的測試方法,其特征在于,在所述場效應管的擊穿狀態下施加所述第一電流和所述第二電流。
3.根據權利要求2所述的場效應管的測試方法,其特征在于,所述擊穿狀態為所述場效應管的源極和柵極短接的情況下,源極和漏極間有較大的電流通過。
4.根據權利要求1所述的場效應管的測試方法,其特征在于,所述第二電流為250uA。
5.根據權利要求1或4所述的場效應管的測試方法,其特征在于,所述第一電流為1mA~2A。
6.根據權利要求1所述的場效應管的測試方法,其特征在于,所述場效應管為P溝道MOSFET或者N溝道MOSFET。
7.根據權利要求1所述的場效應管的測試方法,其特征在于,所述場效應管包括LVTMOS、HVTMOS以及SVTMOS中的一種。
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