[發明專利]一種光學濾光片鍍膜方法

有效

• 申請號: 202110851765.6
• 申請日: 2021-07-27
• 公開（公告）號: CN113584448B
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 王鵬濤;崔戶丹
• 申請（專利權）人: 華天慧創科技（西安）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/02
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 馬貴香

1.一種光學濾光片鍍膜方法，其特征在于，采用雙面磁控濺射鍍膜設備，在鍍膜支架上沿周向安裝多個基片，在鍍膜支架上方和下方分別設置上靶材和下靶材，在上靶材與鍍膜支架之間和下靶材與鍍膜支架之間均設置膜厚補償結構以對上靶材和下靶材部分遮擋，旋轉鍍膜支架，利用上靶材和下靶材在基片兩面同時進行鍍膜，得到光學濾光片；

基片兩面所鍍膜的膜厚差值小于100nm；

自鍍膜支架中心至外圍的方向上，膜厚補償結構對上靶材和下靶材的遮擋面積逐漸減?。?/p>

鍍膜時，兩面均采用高折射率材料靶材和低折射率材料靶材交替進行濺射，高折射率材料靶材濺射時的功率小于低折射率材料靶材濺射時的功率；

高折射率材料靶材采用單靶模式進行濺射，低折射率材料靶材采用雙靶模式進行濺射。

2.根據權利要求1所述的光學濾光片鍍膜方法，其特征在于，基片為超薄基片。

3.根據權利要求2所述的光學濾光片鍍膜方法，其特征在于，基片厚度在0.2mm以下。

4.根據權利要求1所述的光學濾光片鍍膜方法，其特征在于，鍍膜前，對靶材進行表面處理：采用遮擋板對基片進行遮擋保護，按照設定的鍍膜工藝進行濺射操作。

5.根據權利要求1所述的光學濾光片鍍膜方法，其特征在于，基片在使用前采用超聲波清洗處理。