[發(fā)明專利]極紫外光光刻方法和系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110843435.2
• 申請(qǐng)日: 2021-07-26
• 公開（公告）號(hào): CN113433805B
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳寒;聞錦程;馬修泉;王力波;孫克雄;馬新敏;陸培祥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東省智能機(jī)器人研究院
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 劉羚

1.一種極紫外光光刻方法，所述方法包括：

獲取極紫外光光刻請(qǐng)求；

根據(jù)所述極紫外光光刻請(qǐng)求生成液滴靶材，并生成所述液滴靶材對(duì)應(yīng)的高功率激光；

將所述高功率激光作用于所述液滴靶材，以使所述液滴靶材等離子體化，獲取激光等離子體；

將所述高功率激光和預(yù)設(shè)電磁場同時(shí)作用于所述激光等離子體，以穩(wěn)定所述激光等離子體的幾何形態(tài)和激發(fā)狀態(tài)；

采集穩(wěn)定后的所述激光等離子體發(fā)射的符合預(yù)設(shè)要求的光作為光刻光源，基于所述光刻光源完成所述極紫外光光刻請(qǐng)求對(duì)應(yīng)的光刻任務(wù)；

所述將所述高功率激光作用于所述液滴靶材，以使所述液滴靶材等離子體化，獲取激光等離子體包括：

將多路所述高功率激光聚焦作用于所述液滴靶材，以使所述液滴靶材等離子體化，獲取激光等離子體；

所述將多路所述高功率激光聚焦作用于所述液滴靶材，以使所述液滴靶材等離子體化，獲取激光等離子體包括：

通過對(duì)各路高功率激光光源進(jìn)行時(shí)序控制，使各路高功率激光同時(shí)達(dá)到空間固定點(diǎn)處；

對(duì)靶材液滴串的起始時(shí)間進(jìn)行設(shè)置，使靶材液滴在經(jīng)過所述空間固定點(diǎn)時(shí)，高功率激光也到達(dá)所述空間固定點(diǎn)，從而使所述高功率激光作用于靶材液滴而使所述靶材液滴等離子體化；

所述采集穩(wěn)定后的所述激光等離子體發(fā)射的符合預(yù)設(shè)要求的光作為光刻光源之前，還包括：

獲取所述激光等離子體的漂移數(shù)據(jù)以及擴(kuò)散數(shù)據(jù)；

根據(jù)所述漂移數(shù)據(jù)以及擴(kuò)散數(shù)據(jù)確定液滴靶材的形態(tài)發(fā)展規(guī)律，基于所述液滴靶材的形態(tài)發(fā)展規(guī)律調(diào)整所述高功率激光的強(qiáng)度以及所述預(yù)設(shè)電磁場的強(qiáng)度，以將等離子體限制在一定的空間區(qū)域內(nèi)，得到修正后的激光等離子體；

所述采集穩(wěn)定后的所述激光等離子體發(fā)射的符合預(yù)設(shè)要求的光作為光刻光源包括：

采集所述修正后的激光等離子體發(fā)射的符合預(yù)設(shè)要求的光作為光刻光源。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述高功率激光的頻率與所述液滴靶材的滴落頻率相匹配。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述高功率激光的頻率與所述液滴靶材的滴落頻率相匹配包括：

所述高功率激光的頻率為所述液滴靶材的滴落頻率的整數(shù)倍或者整分?jǐn)?shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述高功率激光為功率大于1000瓦的激光。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述液滴靶材的運(yùn)動(dòng)方式為受重力作用下的加速滴落運(yùn)動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光等離子體包括球殼形的激光等離子體以及月牙形的激光等離子體。

7.一種極紫外光光刻系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括：

液滴發(fā)生模塊，用于產(chǎn)生液滴靶材；

高功率激光光源模塊，用于生成脈沖激光；

電磁場發(fā)生模塊，用于產(chǎn)生預(yù)設(shè)電磁場；

光刻處理器模塊，用于獲取極紫外光光刻請(qǐng)求；根據(jù)所述極紫外光光刻請(qǐng)求生成液滴靶材，并生成所述液滴靶材對(duì)應(yīng)的高功率激光；將所述高功率激光作用于所述液滴靶材，以使所述液滴靶材等離子體化，獲取激光等離子體；將所述高功率激光和預(yù)設(shè)電磁場同時(shí)作用于所述激光等離子體，以穩(wěn)定所述激光等離子體的幾何形態(tài)和激發(fā)狀態(tài)；采集穩(wěn)定后的所述激光等離子體發(fā)射的符合預(yù)設(shè)要求的光作為光刻光源，基于所述光刻光源完成所述極紫外光光刻請(qǐng)求對(duì)應(yīng)的光刻任務(wù)；

光刻處理器模塊，還用于：獲取所述激光等離子體的漂移數(shù)據(jù)以及擴(kuò)散數(shù)據(jù)；根據(jù)所述漂移數(shù)據(jù)以及擴(kuò)散數(shù)據(jù)確定液滴靶材的形態(tài)發(fā)展規(guī)律，基于所述液滴靶材的形態(tài)發(fā)展規(guī)律調(diào)整所述高功率激光的強(qiáng)度以及所述預(yù)設(shè)電磁場的強(qiáng)度，以將等離子體限制在一定的空間區(qū)域內(nèi)，得到修正后的激光等離子體；采集所述修正后的激光等離子體發(fā)射的符合預(yù)設(shè)要求的光作為光刻光源。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述高功率激光的頻率與所述液滴靶材的滴落頻率相匹配。