[發(fā)明專利]鐵制品耐磨性的增強(qiáng)方法以及鐵制品在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110837567.4 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113718210A | 公開(公告)日: | 2021-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王寅;曹玉華;李林;鐘小華;李彥霞;蔡鋒杰;劉天恬;陳曉銘;洪勝燦;曾令超 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東白云學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | C23C14/34 | 分類號(hào): | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 黎金娣 |
| 地址: | 510450 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制品 耐磨性 增強(qiáng) 方法 以及 | ||
1.一種鐵制品耐磨性的增強(qiáng)方法,其特征在于,包括如下步驟:
在稀有氣體氛圍下,對(duì)鐵制品主體施加第一電壓,對(duì)金屬靶材施加第二電壓,控制所述第一電壓小于所述第二電壓,在所述稀有氣體氛圍內(nèi)形成輝光放電以對(duì)所述鐵制品主體和所述金屬靶材的表面進(jìn)行清洗;
所述輝光放電結(jié)束后,對(duì)所述鐵制品主體施加第三電壓,對(duì)所述金屬靶材施加第四電壓,控制所述第三電壓大于所述第一電壓,控制所述第四電壓大于所述第二電壓,控制所述第三電壓小于所述第四電壓。
2.如權(quán)利要求1所述的鐵制品耐磨性的增強(qiáng)方法,其特征在于,所述第一電壓為500V~700V,所述第二電壓與所述第一電壓的差值為20V~40V;所述第三電壓為700V~1000V,所述第四電壓與所述第三電壓的差值為20V~40V。
3.如權(quán)利要求1所述的鐵制品耐磨性的增強(qiáng)方法,其特征在于,所述輝光放電結(jié)束后,控制所述稀有氣體氛圍的溫度為800℃~1200℃,并保溫5h~8h。
4.如權(quán)利要求1所述的鐵制品耐磨性的增強(qiáng)方法,其特征在于,所述輝光放電結(jié)束前,控制所述稀有氣體氛圍的壓力為30Pa~50Pa;和/或,
所述輝光放電結(jié)束后,控制所述稀有氣體氛圍的壓力為20Pa~80Pa。
5.如權(quán)利要求1所述的鐵制品耐磨性的增強(qiáng)方法,其特征在于,在所述稀有氣體氛圍內(nèi)形成輝光放電以對(duì)所述鐵制品主體和所述金屬靶材的表面進(jìn)行清洗包括如下步驟:
在所述第一電壓和所述第二電壓下使所述輝光放電產(chǎn)生電弧,保持所述第一電壓和所述第二電壓直至所述輝光放電產(chǎn)生的電弧淬滅;
升高第一電壓和第二電壓,使所述輝光放電再次產(chǎn)生電弧,并保持升高后的第一電壓和升高后的第二電壓直至所述輝光放電產(chǎn)生的電弧再次淬滅;
繼續(xù)多次升高第一電壓和第二電壓,實(shí)現(xiàn)所述輝光放電多次交替產(chǎn)生電弧和電弧淬滅,直至所述輝光放電結(jié)束。
6.如權(quán)利要求5所述的鐵制品耐磨性的增強(qiáng)方法,其特征在于,控制每次升高第一電壓的升高值為40V~60V,控制每次升高第二電壓的升高值為40V~60V。
7.如權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的鐵制品耐磨性的增強(qiáng)方法,其特征在于,控制所述鐵制品主體與所述金屬靶材之間的距離為15mm~100mm。
8.如權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的鐵制品耐磨性的增強(qiáng)方法,其特征在于,所述金屬靶材為鉬靶材、銀靶材、銅靶材以及鉻靶材中的至少一種。
9.一種鐵制品,其特征在于:包括鐵制品主體、合金滲入層以及合金沉積層;所述鐵制品主體具有修飾面;所述合金滲入層自所述修飾面滲入所述鐵制品主體的內(nèi)部且所述合金滲入層的一個(gè)表面與所述修飾面平齊;所述合金沉積層位于所述修飾面的表面。
10.如權(quán)利要求9所述的鐵制品,其特征在于,所述合金滲入層的厚度和所述合金沉積層的厚度之比為1:(1.5~3);和/或,
所述合金滲入層和所述合金沉積層的厚度之和為10μm~25μm。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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