[發明專利]一種具有輻射散熱功能的屏蔽膜及其制造方法

在審

• 申請號: 202110831990.3
• 申請日: 2021-07-22
• 公開（公告）號: CN113660842A
• 公開（公告）日: 2021-11-16
• 發明（設計）人: 夏超華
• 申請（專利權）人: 蘇州市新廣益電子有限公司
• 主分類號: H05K9/00
• 分類號: H05K9/00;C09J7/50;C09J7/25;C09J7/24
• 代理公司: 慈溪夏遠創科知識產權代理事務所(普通合伙) 33286
• 代理人: 金弘毅

1.一種具有輻射散熱層的屏蔽膜，其特征為，包括轉寫膜，依次層疊于轉寫膜上的絕緣層、輻射散熱層、導電屏蔽層和導電膠層；

其中，輻射散熱層由紅外輻射材料單體或包括紅外輻射材料的混合物構成。

2.根據權利要求1所述的一種具有輻射散熱層的屏蔽膜，其特征為，所述的紅外輻射材料為石墨烯或納米碳管或尖晶石金屬氧化物或尖晶石復合金屬氧化物。

3.根據權利要求1所述的一種具有輻射散熱層的屏蔽膜，其特征為，所述包括紅外輻射材料的混合物還具有耐高溫樹脂、耐高溫彈性材料和添加劑的一種或多種。

4.一種根據權利要求1中所述具有輻射散熱層的屏蔽膜的制造方法，其特征為，包括以下幾個步驟：

步驟A：在符合粗糙度要求的滾筒上經過流延工藝將塑料粒子與填料制成薄膜，再于薄膜的粗糙面上經由涂布工藝涂布離型劑，待其熟化后，即完成轉寫膜，其中轉寫膜具有粗糙度的一面為離型面；

步驟B：于轉寫膜的離型面涂布或淋膜配置好的絕緣材料，經過高溫干燥及熟化后，制得絕緣層；

步驟C：于絕緣層上磁控濺射或化學氣相沉積將紅外輻射材料單體沉積于絕緣層上，或者于絕緣層上涂布包括紅外輻射材料的混合物，隨即干燥，干燥后即制得輻射散熱層；

步驟D：將制成的半成品進行干燥以去除水份及各種易揮發物質，之后于輻射散熱層經過磁控濺射或真空蒸鍍或離子鍍或電鍍在輻射散熱層上沉積金屬薄膜，既制得導電屏蔽層；

步驟F：于導電屏蔽層上經過涂布工藝涂布導電膠水，干燥后，既制得導電膠層，隨后在導電膠層上貼合離型膜，即完成屏蔽散熱膜。

5.一種具有絕緣散熱層的屏蔽膜，其特征為，包括轉寫膜，依次層疊于轉寫膜上的絕緣散熱層、導電屏蔽層和導電膠層；

其中，所述絕緣散熱層由包括紅外輻射材料和絕緣材料的混合物構成。

6.根據權利要求5所述的一種具有絕緣散熱層的屏蔽膜，其特征為，所述的紅外輻射材料為石墨烯或納米碳管或尖晶石金屬氧化物或尖晶石復合金屬氧化物。

7.根據權利要求5所述的一種具有絕緣散熱層的屏蔽膜，其特征為，所述的絕緣材料為環氧樹脂、聚氨脂樹脂、酰亞胺樹脂、丙烯酸樹脂的一種或多種。

8.根據權利要求5所述的一種具有絕緣散熱層的屏蔽膜，其特征為，所述的絕緣散熱層還包括耐高溫彈性材料、添加劑的一種或多種。

9.一種根據權利要求5中所述具有輻射散熱層的屏蔽膜的制造方法，其特征為，包括以下幾個步驟：

步驟A：在符合粗糙度要求的滾筒上經過流延工藝將塑料粒子與填料制成薄膜，再于薄膜的粗糙面上經由涂布工藝涂布離型劑，待其熟化后，即完成轉寫膜，其中轉寫膜具有粗糙度的一面為離型面；

步驟B：于轉寫膜的離型面涂布或淋膜配置好的包括紅外輻射材料和絕緣材料的混合物，經過高溫干燥及熟化后，制得絕緣散熱層；

步驟C：將制成的半成品進行干燥以去除水份及各種易揮發物質，之后于絕緣散熱層經過磁控濺射或真空蒸鍍或離子鍍或電鍍在輻射散熱層上沉積金屬薄膜，既制得導電屏蔽層；

步驟D：于導電屏蔽層上經過涂布工藝涂布導電膠水，干燥后，既制得導電膠層，隨后在導電膠層上貼合離型膜，即完成屏蔽散熱膜。

10.一種具有絕緣散熱層和輻射散熱層的屏蔽膜，其特征為，包括轉寫膜，依次層疊于轉寫膜上的絕緣散熱層、輻射散熱層、導電屏蔽層和導電膠層；

其中，絕緣散熱層由包括紅外輻射材料和絕緣材料的混合物構成；

其中，輻射散熱層由紅外輻射材料單體或包括紅外輻射材料的混合物構成。

11.根據權利要求10所述的一種具有絕緣散熱層和輻射散熱層的屏蔽膜，其特征為，所述的紅外輻射材料為石墨烯或納米碳管或尖晶石金屬氧化物或尖晶石復合金屬氧化物。