[發明專利]一種具有殘古紋效果的真空鍍膜方法

在審

• 申請號: 202110827097.3
• 申請日: 2021-07-21
• 公開（公告）號: CN113549869A
• 公開（公告）日: 2021-10-26
• 發明（設計）人: 夏白楊;明松
• 申請（專利權）人: 深圳市智創谷技術有限公司
• 主分類號: C23C14/02
• 分類號: C23C14/02;C23C14/06;C23C14/10;C23C14/16;C23C14/58;C23C14/34
• 代理公司: 深圳市諾正鑫澤知識產權代理有限公司 44689
• 代理人: 林國友

本發明提出一種具有殘古紋效果的真空鍍膜方法，具有殘古紋效果的真空鍍膜方法采用中頻沉積一層純鉻作為過渡層，可以有效地提高膜層與基體間結合力，使產品表面達到一致性；通過采用中頻濺射沉積鉻和石墨混合涂層，可有效調整基礎與膜層之間粘合力，在后續震動研磨時能更好的去除膜層漏出基材原色呈現殘古紋效果；通過采用中頻濺射沉積石墨面色層，可有效調整膜層硬度、內應力，在后續震動研磨時不會出現片狀脫落及無法脫落現象；通過采用中頻濺射在最外層沉積一層二氧化硅透明膜層，能有效減少指紋印及一定防水效果能涂層及基材。

技術領域

本發明涉及真空鍍膜技術領域，尤其是一種具有殘古紋效果的真空鍍膜方法。

背景技術

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應，這種鍍膜方法不僅薄膜的結合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。

真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積(PVD)技術和化學氣相沉積(CVD)技術。

物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質的熱蒸發，或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現象，實現物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。物理氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩定的合金膜和重復性好等優點。

在當下流行產品，如手機中框、五金首飾、鐘表、眼鏡、鎖具等需要在其外表面增加紋飾(如殘古紋)以提升美觀性，本發明提供一種技術方案通過真空鍍膜方法以在其外表面具有殘古紋效果。同時使得產品具有膜層顏色鮮艷、顏色多樣化、膜層質量耐磨、硬度高、防腐蝕、工藝環保(無廢水、廢氣排放) 等特點。

發明內容

為了解決上述問題，本發明提出一種具有殘古紋效果的真空鍍膜方法。

本發明通過以下技術方案實現的：

本發明提出一種具有殘古紋效果的真空鍍膜方法，依次包括以下步驟：

(1)利用合金材料加工成型出零件A；

(2)對零件A進行進行拋光或拉絲工藝處理，得到零件B；

(3)對零件B進行真空碳氫清洗，得到零件C；

(4)將零件C均勻地掛入真空鍍膜機的掛具上；

(5)將攜帶零件C的掛具放入真空鍍膜機內進行加熱100-150℃，抽真空至6.0-8.0E-3Pa；

(6)向真空鍍膜機內充入氬氣100-200sccm，使真空達到3.0-5.0E-1Pa，打開偏壓100-150V，用中頻濺射沉積5-10分鐘的純鉻作為底層，底層的厚度 50-80nm；