[發明專利]一種電子傳輸材料及其制備方法和應用在審
| 申請號: | 202110812404.0 | 申請日: | 2021-07-19 |
| 公開(公告)號: | CN115636794A | 公開(公告)日: | 2023-01-24 |
| 發明(設計)人: | 于蕾 | 申請(專利權)人: | 上海和輝光電股份有限公司 |
| 主分類號: | C07D239/26 | 分類號: | C07D239/26;C07D251/24;C07D401/10;C07D405/04;C07D409/04;H10K85/60;H10K50/16 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 劉二艷 |
| 地址: | 201506 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電子 傳輸 材料 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種電子傳輸材料,其特征在于,所述電子傳輸材料具有如式I所示結構:
其中,L選自單鍵、取代或未取代的C6~C60亞芳基、取代或未取代的C3~C60環烷基、取代或未取代的C2~C60雜環基中的任意一種;
Ar選自取代或未取代的C6~C60芳基、取代或未取代的C2~C60雜環基、取代或未取代的C3~C60環烷基中的至少一種。
2.根據權利要求1所述的電子傳輸材料,其特征在于,所述雜環基中的雜原子選自O、N、S或Si中的任意一種。
3.根據權利要求1或2所述的電子傳輸材料,其特征在于,所述亞芳基選自亞苯基、亞聯苯基、亞三聯苯基、亞萘基、亞蒽基、亞菲基或亞芴基中的任意一種;
優選地,所述芳基選自苯基、聯苯基、三聯苯基、萘基、蒽基、菲基、芘基、苝基、芴基或螺芴基中的任意一種;
優選地,所述雜芳基選自N-苯基咔唑基、呋喃基、噻吩基、吡咯基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、噠嗪基、三嗪基、咔唑基、吖啶基、咪唑基、噁唑基、噻唑基、吲哚基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、苯并咪唑基、喹啉基或異喹啉基中的任意一種。
4.根據權利要求1-3任一項所述的電子傳輸材料,其特征在于,所述L選自三嗪基;
優選地,所述Ar選自如下基團中的至少一種:
其中,“—”代表基團的連接鍵。
5.根據權利要求1-4任一項所述的電子傳輸材料,其特征在于,所述電子傳輸材料包括如下化合物H1-H15中的任意一種或至少兩種的組合:
6.一種權利要求1-5任一項所述的電子傳輸材料的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括如下:將與在催化劑作用下進行偶聯反應,得到所述電子傳輸材料;
L和Ar各自獨立地具有與權利要求1相同的限定范圍;
所述X為鹵素。
7.根據權利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述催化劑為鈀催化劑;
優選地,所述X為Cl。
8.一種OLED器件,其特征在于,所述OLED器件至少包括依次層疊設置的陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層、電子注入層和陰極,所述電子傳輸層的材料包括如權利要求1-6任一項所述的電子傳輸材料。
9.根據權利要求8所述的OLED器件,其特征在于,所述空穴注入層的厚度為55-65nm;
優選地,所述空穴傳輸層的厚度為75-85nm;
優選地,所述發光層的厚度為25-35nm;
優選地,所述電子傳輸層的厚度為35-45nm;
優選地,所述電子注入層的厚度為1-3nm。
10.一種電子設備,其特征在于,所述電子設備包括權利要求8或9所述的OLED器件。
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