[發明專利]一種反滲透膜的硫垢清洗劑及其制備方法

有效

• 申請號: 202110797540.7
• 申請日: 2021-07-14
• 公開（公告）號: CN113385042B
• 公開（公告）日: 2022-05-17
• 發明（設計）人: 曹盛鑫;李飛;蘇鳳英;學賢;陳俊祥;胡根福
• 申請（專利權）人: 廈門嘉戎技術股份有限公司
• 主分類號: B01D65/06
• 分類號: B01D65/06
• 代理公司: 福建如浩律師事務所 35223
• 代理人: 林俊紅

本發明公開了一種反滲透膜的硫垢清洗劑及其制備方法，清洗劑各組分按質量百分比計包括：主溶劑，占比為5%?10%，所述主溶劑為二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺中的一種或幾種；助溶劑，占比為1%?5%；催化劑Ⅰ，占比為2%?4%；催化劑Ⅱ，占比為1%?3%，所述催化劑Ⅱ為相轉移催化劑；螯合劑，占比為1%?5%；表面活性劑，占比為2%?5%；余量為水。本發明反滲透膜的硫垢清洗劑可有效去除膜表面上的硫污染、硫單質與無機金屬和有機污染物所形成的復合污染，從而有效恢復膜通量，同時不會損壞膜片，還可提高其抗污染能力。

技術領域

本發明涉及膜清洗領域，具體而言，涉及一種反滲透膜的硫垢清洗劑及其制備方法。

背景技術

反滲透是以壓力差為推動力，從溶液中分離出溶劑的膜分離操作，其具有低能耗、高效率等優點。目前，反滲透已在海水淡化、工業廢水處理及垃圾滲濾液處理中有著極為廣泛的應用。

隨著工業生產的不斷進行，膜表面被污染也無法避免。除常規的無機污染、有機污染及微生物污染外，當進水中硫化物含量較高時，硫化物會被氧化成硫單質，硫單質不斷在膜上累積形成致密的污染層，從而形成硫單質污染，即硫垢，硫垢使得膜通量大幅降低，嚴重影響生產效率。且由于硫單質性質穩定，清洗極為困難，常規酸堿清洗效果較差，通量無法恢復，從而影響膜的使用壽命及生產的效率。因此，對反滲透膜硫垢的去除成了亟需解決的問題。

公開號為CN 108939926 A的專利公開了一種膜清洗劑，用來去除含硫的有機無機復合污染物，其中主要是依靠醇胺等有機溶劑來溶解硫單質。然而，硫單質在醇胺中溶解緩慢，完全溶解需要較長時間，實際使用中無法達到理想的清洗效果。

鑒于此，本申請發明人發明了一種反滲透膜硫垢的高效清洗劑及其制備方法。

發明內容

本發明的目的在于提供一種高效且安全的反滲透膜的硫垢清洗劑及其制備方法。

為實現上述目的，本發明采用以下技術方案：一種反滲透膜的硫垢清洗劑及其制備方法，各組分按質量百分比計包括：

主溶劑，占比為5％-10％，所述主溶劑為二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺中的一種或幾種，

助溶劑，占比為1％-5％，

催化劑Ⅰ，占比為2％-4％，

催化劑Ⅱ，占比為1％-3％，所述催化劑Ⅱ為相轉移催化劑，

螯合劑，占比為1％-5％，

表面活性劑，占比為2％-5％，

余量為水。

進一步地，所述助溶劑為甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇中的一種或幾種。

進一步地，所述催化劑Ⅰ為喹啉或異喹啉。

進一步地，所述相轉移催化劑為18-冠-6或15-冠-5。

進一步地，所述螯合劑為乙二胺四乙酸或二乙撐三胺五乙酸。

進一步地，所述表面活性劑為十二烷基苯磺酸鈉或吐溫80。

上述反滲透膜的硫垢清洗劑的制備方法，包括以下步驟：

S1：按比例備好以下物料：主溶劑、助溶劑、催化劑Ⅰ、催化劑Ⅱ、螯合劑、表面活性劑及水；

S2：將螯合劑及表面活性劑依次加入水中并攪拌，直至物料完全溶解；

S3：將主溶劑、助溶劑、催化劑Ⅰ、催化劑Ⅱ依次加入步驟S2獲得的溶液中，并攪拌均勻，即完成清洗劑的制備。

進一步地，步驟S2中的攪拌速度為80r/min，攪拌時間為1h。