[發明專利]一種反滲透膜的硫垢清洗劑及其制備方法有效
| 申請號： | 202110797540.7 | 申請日： | 2021-07-14 |
| 公開（公告）號： | CN113385042B | 公開（公告）日： | 2022-05-17 |
| 發明（設計）人： | 曹盛鑫;李飛;蘇鳳英;學賢;陳俊祥;胡根福 | 申請（專利權）人： | 廈門嘉戎技術股份有限公司 |
| 主分類號： | B01D65/06 | 分類號： | B01D65/06 |
| 代理公司： | 福建如浩律師事務所 35223 | 代理人： | 林俊紅 |
| 地址： | 361115 福建省廈門市廈*** | 國省代碼： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 反滲透 硫垢清 洗劑 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種反滲透膜的硫垢清洗劑，其特征在于：各組分按質量百分比計包括：
主溶劑，占比為5％-10％，所述主溶劑為二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺中的一種或幾種，
助溶劑，占比為1％-5％，所述助溶劑為甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇中的一種或幾種，
催化劑Ⅰ，占比為2％-4％，所述催化劑Ⅰ為喹啉或異喹啉，
催化劑Ⅱ，占比為1％-3％，所述催化劑Ⅱ為相轉移催化劑，所述相轉移催化劑為18-冠-6或15-冠-5，
螯合劑，占比為1％-5％，所述螯合劑為乙二胺四乙酸或二乙撐三胺五乙酸，
表面活性劑，占比為2％-5％，所述表面活性劑為十二烷基苯磺酸鈉或吐溫80，
余量為水。
2.如權利要求1所述的反滲透膜的硫垢清洗劑的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：
S1：按比例備好以下物料：主溶劑、助溶劑、催化劑Ⅰ、催化劑Ⅱ、螯合劑、表面活性劑及水；
S2：將螯合劑及表面活性劑依次加入水中并攪拌，直至物料完全溶解；
S3：將主溶劑、助溶劑、催化劑Ⅰ、催化劑Ⅱ依次加入步驟S2獲得的溶液中，并攪拌均勻，即完成清洗劑的制備。
3.如權利要求2所述的反滲透膜的硫垢清洗劑的制備方法，其特征在于：步驟S2中的攪拌速度為80r/min，攪拌時間為1h。
4.如權利要求2所述的反滲透膜的硫垢清洗劑的制備方法，其特征在于：步驟S3中的攪拌速度為40r/min，攪拌時間為0.5h。
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