[發(fā)明專利]用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備

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• 申請日: 2021-07-07
• 公開（公告）號: CN113399358A
• 公開（公告）日: 2021-09-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王敏;左安超;謝榮才
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東匯芯半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 深圳市華勤知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44426
• 代理人: 隆毅

本發(fā)明公開一種用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，該用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備包括水洗裝置、溶劑清洗裝置和機(jī)械手，所述水洗裝置包括水洗槽和若干噴頭，所述水洗槽內(nèi)的半導(dǎo)體電路經(jīng)水洗后通過所述機(jī)械手搬運(yùn)至所述溶劑清洗裝置內(nèi)進(jìn)行溶劑清洗。本發(fā)明所提出的用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，在對半導(dǎo)體電路進(jìn)行溶劑清洗前，先通過機(jī)械手將其搬運(yùn)至水洗槽內(nèi)，由噴頭對半導(dǎo)體電路進(jìn)行噴淋清洗，水洗時半導(dǎo)體電路表面的各種雜質(zhì)顆粒以及水溶性極性離子會被有效清除，而后再對水洗后的半導(dǎo)體電路進(jìn)行溶劑清洗，由于半導(dǎo)體電路表面的主要污染物基本被清除，因此可以大幅減少清洗劑的使用量，節(jié)省成本并減輕對環(huán)境的污染。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及功率半導(dǎo)體領(lǐng)域，特別涉及一種用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備。

背景技術(shù)

半導(dǎo)體電路是一種將電力電子和集成電路技術(shù)結(jié)合的功率驅(qū)動類產(chǎn)品，集成了智能控制IC和用于功率輸出的IGBT、MOSFET、FRD等大功率器件及一些阻容元件，這些元器件通過錫基焊料焊接在鋁基板上。

半導(dǎo)體電路封裝加工時，先在基板的焊盤位置處涂覆錫膏、助焊劑，而后將IGBT、MOSFET、FRD等裸芯片及阻容元件通過SMT工藝貼裝，最后通過回流焊接將錫膏熔化，從而將芯片及阻容元件焊接在基板上。

現(xiàn)有技術(shù)中，為去除回流焊接時所產(chǎn)生的錫珠、錫渣等殘留物以及其他各種污染物，清洗設(shè)備通常采用全有機(jī)溶劑清洗的方式，此方式需耗費(fèi)大量的清洗劑，既增加成本又污染環(huán)境。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的在于提出一種用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，旨在解決現(xiàn)有的用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備存在耗費(fèi)大量清洗劑的技術(shù)問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出一種用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，所述用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備包括水洗裝置、溶劑清洗裝置和機(jī)械手，所述水洗裝置包括水洗槽和若干噴頭，所述水洗槽內(nèi)的半導(dǎo)體電路經(jīng)水洗后通過所述機(jī)械手搬運(yùn)至所述溶劑清洗裝置內(nèi)進(jìn)行溶劑清洗。

優(yōu)選地，所述水洗裝置還包括用于對所述水洗槽內(nèi)的半導(dǎo)體電路進(jìn)行超聲清洗的第一超聲組件。

優(yōu)選地，若干所述噴頭設(shè)于所述水洗槽內(nèi)且呈上下分布。

優(yōu)選地，所述用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備還包括用于對水洗后的半導(dǎo)體電路進(jìn)行烘干的烘干裝置，所述烘干裝置位于所述水洗裝置與所述溶劑清洗裝置之間。

優(yōu)選地，所述溶劑清洗裝置包括第一溶劑槽和用于對所述第一溶劑槽內(nèi)的清洗劑進(jìn)行加熱的加熱組件。

優(yōu)選地，所述溶劑清洗裝置還包括第二溶劑槽和用于對所述第二溶劑槽內(nèi)的半導(dǎo)體電路進(jìn)行超聲粗洗的第二超聲組件，所述第二溶劑槽位于所述第一溶劑槽的后方。

優(yōu)選地，所述溶劑清洗裝置還包括第三溶劑槽和用于對所述第三溶劑槽內(nèi)的半導(dǎo)體電路進(jìn)行超聲精洗的第三超聲組件，所述第三溶劑槽位于所述第二溶劑槽的后方。

優(yōu)選地，所述溶劑清洗裝置還包括清洗劑回收槽，所述清洗劑回收槽、第一溶劑槽、第二溶劑槽及第三溶劑槽之間設(shè)有循環(huán)裝置和循環(huán)管道。

優(yōu)選地，所述清洗劑回收槽、第一溶劑槽、第二溶劑槽及第三溶劑槽內(nèi)均設(shè)有過濾裝置。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例的有益技術(shù)效果在于：

本發(fā)明所提出的用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，在對半導(dǎo)體電路進(jìn)行溶劑清洗前，先通過機(jī)械手將其搬運(yùn)至水洗槽內(nèi)，由噴頭對半導(dǎo)體電路進(jìn)行噴淋清洗，水洗時半導(dǎo)體電路表面的各種雜質(zhì)顆粒以及水溶性極性離子會被有效清除，而后再對水洗后的半導(dǎo)體電路進(jìn)行溶劑清洗，由于半導(dǎo)體電路表面的主要污染物基本被清除，因此可以大幅減少清洗劑的使用量，節(jié)省成本并減輕對環(huán)境的污染。同時，由于經(jīng)水洗后的半導(dǎo)體電路的表面的污染物較少，因此在進(jìn)入溶劑清洗裝置后可減輕對清洗劑的污染，從而延長清洗劑的使用壽命，降低半導(dǎo)體電路的清洗成本。

附圖說明