[發(fā)明專利]用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110770340.2
• 申請(qǐng)日: 2021-07-07
• 公開（公告）號(hào): CN113399358A
• 公開（公告）日: 2021-09-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王敏;左安超;謝榮才
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東匯芯半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/02
• 分類號(hào): B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 深圳市華勤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44426
• 代理人: 隆毅

1.一種用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，其特征在于，包括水洗裝置、溶劑清洗裝置和機(jī)械手，所述水洗裝置包括水洗槽和若干噴頭，所述水洗槽內(nèi)的半導(dǎo)體電路經(jīng)水洗后通過所述機(jī)械手搬運(yùn)至所述溶劑清洗裝置內(nèi)進(jìn)行溶劑清洗。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，其特征在于，所述水洗裝置還包括用于對(duì)所述水洗槽內(nèi)的半導(dǎo)體電路進(jìn)行超聲清洗的第一超聲組件。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，其特征在于，若干所述噴頭設(shè)于所述水洗槽內(nèi)且呈上下分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，其特征在于，還包括用于對(duì)水洗后的半導(dǎo)體電路進(jìn)行烘干的烘干裝置，所述烘干裝置位于所述水洗裝置與所述溶劑清洗裝置之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，其特征在于，所述溶劑清洗裝置包括第一溶劑槽和用于對(duì)所述第一溶劑槽內(nèi)的清洗劑進(jìn)行加熱的加熱組件。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，其特征在于，所述溶劑清洗裝置還包括第二溶劑槽和用于對(duì)所述第二溶劑槽內(nèi)的半導(dǎo)體電路進(jìn)行超聲粗洗的第二超聲組件，所述第二溶劑槽位于所述第一溶劑槽的后方。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，其特征在于，所述溶劑清洗裝置還包括第三溶劑槽和用于對(duì)所述第三溶劑槽內(nèi)的半導(dǎo)體電路進(jìn)行超聲精洗的第三超聲組件，所述第三溶劑槽位于所述第二溶劑槽的后方。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，其特征在于，所述溶劑清洗裝置還包括清洗劑回收槽，所述清洗劑回收槽、第一溶劑槽、第二溶劑槽及第三溶劑槽之間設(shè)有循環(huán)裝置和循環(huán)管道。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于半導(dǎo)體電路的設(shè)備，其特征在于，所述清洗劑回收槽、第一溶劑槽、第二溶劑槽及第三溶劑槽內(nèi)均設(shè)有過濾裝置。