[發明專利]一種電極模型坐標系點的自動解析方法、系統及裝置

在審

• 申請號: 202110763978.3
• 申請日: 2021-07-06
• 公開（公告）號: CN113342354A
• 公開（公告）日: 2021-09-03
• 發明（設計）人: 王金再
• 申請（專利權）人: 西安米索軟件有限公司
• 主分類號: G06F8/41
• 分類號: G06F8/41
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種電極模型坐標系點的自動解析方法，其特征在于，包括：

確定電極的模型文件中的底座圖形；

將所述底座圖形解析成多個平面點；

根據所述平面點的坐標和所述底座圖形確定坐標系幾何要素點的坐標；所述坐標系幾何要素點包括上頂面幾何要素點和側面幾何要素點；所述坐標系幾何要素點為構成所述電極幾何特征的點。

2.根據權利要求1所述的電極模型坐標系點的自動解析方法，其特征在于，所述確定電極的模型文件中的底座圖形，包括：

根據所述電極的模型文件得到CAD圖形；

確定所述CAD圖形的最小外接立方體圖形；所述最小外接立方體圖形包括6個包圍平面圖形；

所述CAD圖形的幾何信息進行遍歷，確定所述CAD圖形中的所有的平面圖形，記為第一平面圖形；

獲取所述第一平面圖形的平面法矢量；

確定所述平面法矢量與各個所述包圍平面圖形的法矢量同向且具有面積極值的平面，得到平面集合；

確定所述平面集合中的平面面積與和該平面的方向一致的包圍平面圖形的面積最接近的平面圖形，記為第二平面圖形；所述第二平面圖形為所述底座圖形的下底面圖形；

根據所述下底面圖形確定所述底座圖形的5個側面圖形；

根據任意一個所述側面圖形確定所述底座圖形的上頂面圖形。

3.根據權利要求1所述的電極模型坐標系點的自動解析方法，其特征在于，所述確定電極的模型文件中的底座圖形之后還包括：

存儲所述底座圖形；

判斷所述底座圖形的圖形個數與所述模型文件中的底座的實際圖形個數是否相同，若不相同，則結束檢測過程。

4.根據權利要求2所述的電極模型坐標系點的自動解析方法，其特征在于，所述根據所述平面點的坐標和所述底座圖形確定坐標系幾何要素點的坐標，包括：

確定與所述上頂面圖形的頂點距離最近的三個所述平面點，記為所述上頂面幾何要素點，并根據所述上頂面幾何要素點的位置得到所述上頂面幾何要素點的坐標；所述平面點是由所述底座圖形的上頂面圖形按預設步距進行解析得到的；

獲取所述底座圖形的側面圖形與所述上頂面圖形的四條相交線段；

將所述相交線段在對應的所述側面圖形內，以所述側面圖形的法矢量的反方向平移，并將所述相交線段按預設縮進步距進行縮進，得到縮進線段；

獲取所述縮進線段的端點，記為所述側面幾何要素點，并根據所述側面幾何要素點的位置得到所述側面幾何要素點的坐標。

5.根據權利要求1所述的電極模型坐標系點的自動解析方法，其特征在于，所述根據所述平面點的坐標和所述底座圖形確定坐標系幾何要素點的坐標之后，還包括：

判斷所述坐標系幾何要素點的數量與預設數量是否相同，若否，則結束檢測過程。

6.根據權利要求4所述的電極模型坐標系點的自動解析方法，其特征在于，所述根據所述平面點的坐標和所述底座圖形確定坐標系幾何要素點的坐標之后，還包括：

利用所述坐標系幾何要素點在三坐標測量儀上對待測電極進行測量，得到測量點；

利用四面分中的方法，根據所述測量點建立產品檢測坐標系；

根據所述產品檢測坐標系獲取所述待測電極的底座上的所述上頂面幾何要素點相應的Z軸值；

判斷各個所述Z軸值的偏差是否在預設誤差范圍內，若否，則檢測結果不合格。

7.根據權利要求6所述的電極模型坐標系點的自動解析方法，其特征在于，所述根據所述平面點的坐標和所述底座圖形確定坐標系幾何要素點的坐標之后，還包括：

根據所述產品檢測坐標系獲取所述側面幾何要素點相應的X軸值和Y軸值；

判斷處于對應面的所述側面幾何要素點相應的X軸值或Y軸值的偏差是否具有對稱性且在預設誤差范圍內，若否，則檢測結果不合格。