[發明專利]一種光刻機及其可精準對位曝光機構

在審

• 申請號: 202110763454.4
• 申請日: 2021-07-06
• 公開（公告）號: CN113325673A
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發明（設計）人: 霍錦充
• 申請（專利權）人: 東莞王氏港建機械有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616
• 代理人: 倪建娣

1.一種光刻機的可精準對位曝光機構，其特征在于，包括上模板(1)、下模板(10)、用于承載晶圓(9)的晶圓支撐板(2)、用于安裝掩膜板(8)的掩膜安裝板(3)、調正驅動機構以及調平驅動機構；

所述掩膜安裝板(3)可浮動地安裝在上模板(1)上，使掩膜安裝板(3)的各邊角之間可相對升降；

所述晶圓支撐板(2)可活動地安裝在下模板(10)的支撐面上，使晶圓支撐板(2)的各邊角均可沿平行于支撐面(201)的方向相對運動；

所述調平驅動機構用于沿垂直于支撐面(201)的方向對掩膜安裝板(3)施加力，使掩膜安裝板(3)與晶圓(9)平行；

所述調正驅動機構用于沿平行于支撐面(201)的方向對晶圓支撐板(2)施加力，以對晶圓支撐板(2)的位置進行調節。

2.根據權利要求1所述的可精準對位曝光機構，其特征在于，

所述掩膜安裝板(3)具有間隔分布的三個調節區域M1、M2和M3；

所述調平驅動機構用于分別對三個調節區域M1、M2和M3施加力，使掩膜安裝板(3)與晶圓(9)平行。

3.根據權利要求2所述的可精準對位曝光機構，其特征在于，

所述調平驅動機構包括彈性件(5)和三個驅動機構(4)，所述彈性件(5)用于提供掩模板上各調節區域相對晶圓支撐板(2)下降的力；

三個驅動機構(4)與三個調節區域M1、M2和M3一一對應，以分別驅動相應的調節區域上升。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的可精準對位曝光機構，其特征在于，還包括限位結構(6)，所述限位結構(6)用于對掩膜安裝板(3)的浮動高度進行限位。

5.根據權利要求4所述的可精準對位曝光機構，其特征在于，

所述限位結構(6)包括螺栓(61)和用于旋擰在螺栓(61)上的螺母(62)；

所述掩膜安裝板(3)上設有過孔(32)，螺栓(61)的螺桿(73)用于依次穿過上模板(1)和掩膜安裝板(3)的過孔(32)，且使上模板(1)和掩膜安裝板(3)位于螺栓(61)的頭部與螺母(62)之間；其中，所述過孔(32)的孔徑大于螺桿(73)的外徑，所述限位結構(6)通過螺栓(61)的頭部或螺母(62)對掩膜安裝板(3)進行止擋，以對其浮動高度進行限位。

6.根據權利要求1至3、5中任一項所述的可精準對位曝光機構，其特征在于，

所述晶圓支撐板(2)通過第一平面軸承(21)與下模板(10)連接；

所述第一平面軸承(21)包括上墊圈(211)、下墊圈(212)以及位于上墊圈(211)和下墊圈(212)之間的平面保持架，第一平面軸承(21)的上墊圈(211)用于通過固定軸(213)與下模板(10)保持相對固定，所述第一平面軸承(21)的下墊圈(212)用于與晶圓支撐板(2)保持相對固定。

7.根據權利要求1至3、5中任一項所述的可精準對位曝光機構，其特征在于，

所述調正驅動機構用于沿不同的方向對晶圓支撐板(2)上的三處施加力，以對晶圓支撐板(2)的位置進行調節；其中，晶圓支撐板(2)上具有三個受力處A1、A2和A3，晶圓支撐板(2)在受力處A1的受力方向為X方向，晶圓支撐板(2)在受力處A2的受力方向為Y1方向，晶圓支撐板(2)在受力處A3的受力方向為Y2方向，受力處A1位于晶圓支撐板(2)的一側，受力處A2和A3位于晶圓支撐板(2)相鄰的另一側、且間隔設置；Y1方向和Y2方向平行、且兩者均與X方向垂直。

8.根據權利要求7所述的可精準對位曝光機構，其特征在于，

所述調正驅動機構包括X位置調節機構(18)、Y1位置調節機構(19)以及Y2位置調節機構(20)；

所述X位置調節機構(18)用于沿X方向對晶圓支撐板(2)施加力，所述Y1位置調節機構(19)用于沿Y1方向對晶圓支撐板(2)施加力，所述Y2位置調節機構(20)用于沿Y2方向對晶圓支撐板(2)施加力。