[發(fā)明專利]電光裝置、電子設(shè)備以及電光裝置的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110762203.4 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113917741B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-06-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 伊藤智 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 精工愛(ài)普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1343 | 分類號(hào): | G02F1/1343 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 鄧毅;黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電光 裝置 電子設(shè)備 以及 制造 方法 | ||
1.一種電光裝置,其特征在于,具有電容元件,
所述電容元件具有:
第一電容電極;
電容絕緣層,其覆蓋所述第一電容電極的至少連續(xù)的3個(gè)面;以及
第二電容電極,其隔著所述電容絕緣層與所述第一電容電極的所述3個(gè)面對(duì)置,
在所述電光裝置的基板與所述電容元件之間具有第一布線,
所述第一布線與所述第一電容電極連接,
在所述第一布線與所述第二電容電極之間配置有阻止層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電光裝置,其特征在于,
在所述阻止層與所述第一電容電極之間配置有間隔件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電光裝置,其特征在于,
所述第一電容電極是鎢。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電光裝置,其特征在于,
在所述第一布線與所述阻止層之間配置有層間絕緣層。
5.一種電子設(shè)備,其特征在于,具備權(quán)利要求1至4中的任一項(xiàng)所述的電光裝置。
6.一種電光裝置的制造方法,其特征在于,具有以下工序:
在基板上形成第一布線;
在所述基板和所述第一布線上依次形成層間絕緣層、阻止層和犧牲層;
以到達(dá)所述第一布線的方式,在所述犧牲層、所述阻止層和所述層間絕緣層形成凹部;
在所述凹部的側(cè)壁形成間隔件;
在包含所述間隔件的所述凹部中形成插頭狀的第一電容電極;
利用所述阻止層去除所述犧牲層及所述間隔件的一部分,使所述第一電容電極的一部分露出;
以覆蓋所述第一電容電極的露出的至少連續(xù)的3個(gè)面的方式依次成膜出電容絕緣層和第二電容電極;以及
以成為與所述第一布線的寬度大致相同寬度的方式,去除所述第二電容電極、所述電容絕緣層以及所述阻止層,而形成電容元件。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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