[發明專利]一種光斑監控方法、系統、暗場缺陷檢測設備和存儲介質

有效

• 申請號: 202110759440.5
• 申請日: 2021-07-06
• 公開（公告）號: CN113256630B
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發明（設計）人: 陳魯;呂肅;方一;黃有為;張嵩
• 申請（專利權）人: 深圳中科飛測科技股份有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T7/70;G06T5/00;G06T7/13
• 代理公司: 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司 44281
• 代理人: 劉兆;彭家恩

本發明提供的光斑監控方法、系統、暗場缺陷檢測設備和存儲介質，通過獲取光斑圖像，進而檢測光斑圖像上多列檢測點的光強表征量，其中，同一列的各個檢測點沿所述光斑的寬度方向排布，各列檢測點沿所述光斑的長度方向排布；根據各個檢測點的位置及其光強表征量得到光斑形變的量化指標，光斑形變包括離焦、均勻性和偏轉中的至少一個?？梢姳景l明實現了光斑形變成因的量化，有利于協助進行后續的光路調整和變量分析，自動化程度提高了。

技術領域

本發明涉及光學檢測技術領域，具體涉及一種光斑監控方法、系統、暗場缺陷檢測設備和存儲介質。

背景技術

暗場缺陷檢測設備是一種在暗場環境下，通過光束來檢測待測產品缺陷的自動化設備，其在使用過程中，隨著時間的推移，光束的指向性或者是光斑本身的位置可能會發生漂移，這種漂移會直接導致光斑質量的下降，從而導致檢測設備整體的靈敏度下降，也影響了檢測的穩定性。因此需要對光斑進行監控?，F有技術通常采用光斑質量分析儀直接觀察光斑形態的變化，雖然通過光斑形態的變化可以判斷出是否要調整光斑（光源），但無法分析到底是哪個因素導致的光斑變化；因此，現有光斑監控的自動化程度不高。

發明內容

本發明提供的一種光斑監控方法、系統、暗場缺陷檢測設備和存儲介質，旨在提高光斑監控的自動化程度。

根據第一方面，一種實施例中提供一種光斑監控方法，包括：

獲取光斑圖像；

檢測所述光斑圖像上多列檢測點的光強表征量，其中，同一列的各個檢測點沿所述光斑的寬度方向排布，各列檢測點沿所述光斑的長度方向排布；

根據各個檢測點的位置及其光強表征量得到光斑形變的量化指標，所述光斑形變包括離焦、均勻性和偏轉中的至少一個。

所述的光斑監控方法中，

所述光斑形變包括離焦；所述根據各個檢測點的位置及其光強表征量得到光斑形變的量化指標包括：分別計算每列檢測點的光強表征量的離散程度，根據各個所述離散程度得到離焦的量化指標；或者，

所述光斑形變包括均勻性；所述根據各個檢測點的位置及其光強表征量得到光斑形變的量化指標包括：根據每列檢測點的光強表征量得到每列檢測點光強表征量的峰值相關參數或均值相關參數，根據所有峰值相關參數或均值相關參數的最大值和最小值得到均勻性的量化指標；或者，

所述光斑形變包括偏轉，所述偏轉包括平移和旋轉；所述根據各個檢測點的位置及其光強表征量得到光斑形變的量化指標包括：分別根據每列檢測點的光強表征量確定每列檢測點的光斑中心位置，根據各列所述光斑中心位置得到平移的量化指標；對各列所述光斑中心位置進行直線擬合，將擬合得到的直線的傾角作為旋轉的量化指標。

所述的光斑監控方法中，

所述分別計算每列檢測點的光強表征量的離散程度包括：分別對每列檢測點的光強表征量進行高斯擬合，得到每列檢測點的光強表征量的正態分布曲線，計算得到每個正態分布曲線的方差或標準差，所述方差或標準差表征所述離散程度；

所述根據所有峰值相關參數或均值相關參數的最大值和最小值得到均勻性的量化指標包括：根據公式1-（Imax-Imin）/(Imax+Imin)計算得到均勻性的量化指標；其中，Imax為峰值相關參數或均值相關參數的最大值，Imin為峰值相關參數或均值相關參數的最小值；