[發(fā)明專利]一種磁微粒化學(xué)發(fā)光清洗液及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110752637.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113484306B | 公開(公告)日: | 2022-03-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張春杰;葛嬋嬋;王靜;胡曉明;楊小蕾;趙鳳;趙芮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山東中鴻特檢生物科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/76 | 分類號(hào): | G01N21/76 |
| 代理公司: | 濟(jì)南圣達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37221 | 代理人: | 宋海海 |
| 地址: | 250102 山東省濟(jì)南市中國(guó)(山東)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)濟(jì)*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 微粒 化學(xué) 發(fā)光 清洗 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種磁微粒化學(xué)發(fā)光清洗液,其特征在于,所述磁微粒化學(xué)發(fā)光清洗液包括緩沖液、鹽離子、穩(wěn)定劑、表面活性劑、防腐劑和消泡劑;
所述緩沖液為PBS緩沖液,濃度為100mM-1000mM;
所述鹽離子為鈉離子,濃度為10%-20%;
所述穩(wěn)定劑為乙二胺四乙酸二鈉,濃度為0.5%-1%;
所述表面活性劑為非離子型表面活性劑和陰離子表面活性劑,所述非離子型表面活性劑為十二烷基硫酸鈉,所述陰離子表面活性劑為 吐溫20,吐溫20濃度為1.0%-3.0%,十二烷基硫酸鈉濃度為0.1%-1.0%;
所述防腐劑為疊氮鈉,濃度為0.05%-0.15%;
所述消泡劑為硅油型消泡劑,濃度為0.05%-0.5%;
所述磁微粒化學(xué)發(fā)光清洗液的pH為7.0-7.5。
2.如權(quán)利要求1所述的磁微粒化學(xué)發(fā)光清洗液,其特征在于,所述磁微粒化學(xué)發(fā)光清洗液包括:500mM PBS緩沖液,12%鈉離子,0.8%乙二胺四乙酸二鈉,0.5%的SDS,1.5%吐溫20,0.1%疊氮鈉,0.1%硅油型消泡劑,pH7.2。
3.權(quán)利要求1或2所述磁微粒化學(xué)發(fā)光清洗液的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:向緩沖液中依次加入鹽離子、表面活性劑、穩(wěn)定劑、防腐劑,混合均勻后再加入消泡劑,調(diào)節(jié)pH至弱堿性即得。
4.權(quán)利要求1或2所述磁微粒化學(xué)發(fā)光清洗液在化學(xué)發(fā)光免疫分析中的應(yīng)用。
5.如權(quán)利要求4所述應(yīng)用,其特征在于,所述應(yīng)用包括:將上述磁微粒化學(xué)發(fā)光清洗液稀釋后用于磁微粒化學(xué)發(fā)光免疫分析的清洗步驟,用于去除未結(jié)合的抗原、抗體以及游離的結(jié)合物,終止抗原抗體的繼續(xù)結(jié)合;稀釋倍數(shù)為5-15倍。
6.如權(quán)利要求5所述應(yīng)用,其特征在于,稀釋倍數(shù)為10倍。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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