[發(fā)明專利]一種寬波段光學(xué)吸收劑及涂層制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110751022.1 | 申請日: | 2021-07-02 |
| 公開(公告)號: | CN113604089B | 公開(公告)日: | 2022-03-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 樸明星;李朝龍;王嘯;史浩飛 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院重慶綠色智能技術(shù)研究院 |
| 主分類號: | C09D5/32 | 分類號: | C09D5/32;C09D183/04 |
| 代理公司: | 重慶縉云專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 50237 | 代理人: | 王翔 |
| 地址: | 400714 *** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 波段 光學(xué) 吸收劑 涂層 制備 方法 | ||
1.一種寬波段光學(xué)吸收劑的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
1〕稱取金屬氯化物和六亞甲基四胺溶解在溶劑中進(jìn)行反應(yīng);
2〕分離步驟1〕反應(yīng)產(chǎn)生的沉淀,獲得納米級的金屬氫氧化物粉體;金屬氯化物和六亞甲基四胺的物質(zhì)的量比為(2~5)∶24,金屬氯化物的物質(zhì)的量mmol與溶劑的體積mL之比為(2~5)∶400;所述金屬氯化物為氯化鈷、氯化鎳、氯化鐵中的一種,或者兩種及其以上的混合物;
3〕將步驟2〕獲得的金屬氫氧化物粉體置于反應(yīng)器中,反應(yīng)器內(nèi)部為無氧環(huán)境;向反應(yīng)器內(nèi)通入惰性氣體和氫氣的混合氣體,打開微波發(fā)生裝置,對反應(yīng)器中的金屬氫氧化物粉體進(jìn)行微波處理,充分反應(yīng)并冷卻后,獲得納米級金屬粉體;
4〕保持反應(yīng)器內(nèi)的無氧環(huán)境,向反應(yīng)器中通入惰性氣體、氫氣和碳源氣體的混合氣體,打開微波發(fā)生裝置,使得納米級金屬粉體繼續(xù)反應(yīng),獲得石墨烯墻包覆的核殼型復(fù)合金屬粉體;
5〕將石墨烯墻包覆的核殼型復(fù)合金屬粉體置于大氣環(huán)境中,通入氬氣,打開微波發(fā)生裝置,使石墨烯墻包覆的核殼型復(fù)合金屬粉體反應(yīng)成為石墨烯墻包覆的核殼型復(fù)合金屬氧化物粉體,即獲得寬波段光學(xué)吸收劑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種寬波段光學(xué)吸收劑的制備方法,其特征在于:步驟3〕中,反應(yīng)器為石英管和石英舟,抽真空10~20min保持石英管內(nèi)的無氧環(huán)境。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種寬波段光學(xué)吸收劑的制備方法,其特征在于:步驟4〕中,保持反應(yīng)器內(nèi)的無氧環(huán)境,向反應(yīng)器中通入氬氣和氫氣混合氣體時,氬氣流速控制在100~200sccm,氫氣流速控制在50~100sccm,并通入生長石墨烯墻的碳源氣體甲烷,甲烷氣體流速控制在40~80sccm,打開微波發(fā)生裝置,微波工作頻率為2450MHz,輸出功率700~1000W,并保持反應(yīng)時間20~40min,然后關(guān)閉氫氣和碳源氣體,在氬氣氛圍冷卻至室溫,從而得到石墨烯墻包覆的核殼型復(fù)合金屬粉體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種寬波段光學(xué)吸收劑的制備方法,其特征在于:步驟5〕中,通入氬氣時,控制流速在100~200sccm,打開微波發(fā)生裝置,微波工作頻率為2450MHz,輸出功率700~1000W,并保持反應(yīng)時間20~40min,從而得到石墨烯墻包覆的核殼型復(fù)合金屬氧化物粉體。
5.一種采用權(quán)利要求1~4任意一項所述吸收劑的寬波段光學(xué)吸收涂層的制備方法,其特征在于:將寬波段光學(xué)吸收劑加入到有機硅樹脂中,使其分散;再加入鈦酸四丁酯混合均勻后,獲得用于噴涂的涂層漿料;所述有機硅樹脂為甲基乙烯基硅樹脂、甲基苯基硅樹脂。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種寬波段光學(xué)吸收涂層的制備方法,其特征在于:寬波段光學(xué)吸收劑、有機硅樹脂和鈦酸四丁酯的質(zhì)量比為(1~2)∶(20~40)∶(1~2)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的一種寬波段光學(xué)吸收涂層的制備方法,其特征在于:將寬波段光學(xué)吸收劑加入到有機硅樹脂后,通過高速攪拌機在5000~10000rpm轉(zhuǎn)速下分散1~3h,然后加入鈦酸四丁酯混合均勻。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種寬波段光學(xué)吸收涂層的制備方法,其特征在于:將涂層漿料噴涂到基材表面,噴涂的厚度為30~60μm,在室溫下放置5~8h后,放入烘箱80~100℃中加熱固化1~3h,得到寬波段光學(xué)吸收涂層。
9.一種如權(quán)利要求1~4任意一項所述方法制備的吸收劑。
10.一種如權(quán)利要求5~8任意一項所述方法制備的涂層。
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