[發明專利]多光斑零位偏差標定方法

在審

• 申請號: 202110750603.3
• 申請日: 2021-07-02
• 公開（公告）號: CN115561969A
• 公開（公告）日: 2023-01-03
• 發明（設計）人: 馮建斌;張建新
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 鄭星

本發明提供了一種多光斑零位偏差標定方法，包括：提供基板，所述基板上具有至少四個測量點；調焦調平系統將同一光束依次投影到每個所述測量點上進行第一次測量，所述光束包含至少兩個測量光斑，每次投影至所述測量點上時，同一個所述測量光斑與所述測量點對準，且至少獲取一個所述測量光斑測量到的所述基板上對應位置的第一位置信息；將所述基板水平旋轉180°，至少獲取一個所述測量光斑測量到的所述基板上對應位置的第二位置信息；利用每個所述測量點對應的所述第一位置信息和所述第二位置信息計算出每個所述測量光斑的零位偏差值；本發明提高了多光斑的零位偏差的標定精度。

技術領域

本發明涉及半導體技術領域，尤其涉及一種多光斑零位偏差標定方法。

背景技術

光刻機的整機集成需要一系列測校標定，測校標定一系列機器常數來使光刻機以最佳姿態運行，達到最佳效果。在調焦調平系統中，采用多個測量光斑來檢測基板曝光面垂向位置信息時，因每個測量光斑所通過光路的光學偏差、光路探測通道特性偏差等因素的影響，使得在測量同高度時各測量光斑所測得實際測量值之間會有偏差。在實際測量過程中為了消除該偏差，需測量每個測量光斑的零位偏差，再利用各測量光斑的零位偏差值校準各自的高度測量值，因此各測量光斑之間的零位偏差是要測校標定的機器常數之一。

圖1為調焦調平系統中多個測量光斑的零平面與任意理想平面的偏差示意圖，請參考圖1，由于裝配偏差及測量偏差的存在，多個測量光斑的零平面11相對任意理想平面10的高度差均不一樣，這就導致光刻機在測試基板面型等時引進了偏差。圖2為調焦調平系統中兩個測量光斑的零平面的偏差示意圖，請參考圖2，將基板21放置于工件臺20上進行測量，基板21的平面度會影響不同測量光斑的測量結果，若基板21的表面形貌起伏即存在基板楔形偏差，兩個測量光斑的零平面22會存在偏差；并且在測量時基板21移動過程中，基板21還存在掃描傾斜偏差，掃描傾斜偏差同樣會導致測量光斑的零平面存在偏差，測量信息不準確會導致難以準確標定測量光斑的零位偏差，即在測量過程中基板掃描傾斜偏差及基板楔形偏差均會影響測量光斑的零位偏差的標定精度，若測量光斑的零位偏差的標定精度較低，嚴重情況會導致曝光離焦。

發明內容

本發明的目的在于提供一種多光斑零位偏差標定方法，以提高多光斑的零位偏差的標定精度。

為了達到上述目的，本發明提供了一種多光斑零位偏差標定方法，包括：

提供基板，所述基板上具有至少四個測量點；

調焦調平系統將同一光束依次投影到每個所述測量點上進行第一次測量，所述光束包含至少兩個測量光斑，每次投影至所述測量點上時，同一個所述測量光斑與所述測量點對準，且至少獲取一個所述測量光斑測量到的所述基板上對應位置的第一位置信息；

將所述基板水平旋轉180°，所述調焦調平系統將所述光束依次投影到每個所述測量點上進行第二次測量，每次投影至所述測量點上時，同一個所述測量光斑與所述測量點對準，且至少獲取一個所述測量光斑測量到的所述基板上對應位置的第二位置信息；

利用每個所述測量點對應的所述第一位置信息和所述第二位置信息計算出每個所述測量光斑的零位偏差值。

可選的，所述基板具有至少兩個測量點組，每個所述測量點組包括至少一對所述測量點，每對所述測量點相對所述基板的中心對稱設置，每個所述測量點組內的所有測量點的中心位于同一虛擬連線上，任意兩個所述測量點組的虛擬連線不重合。

可選的，所述第一位置信息及所述第二位置信息均為垂向高度值，在所述第一次測量與所述第二次測量中，每次投影至所述測量點上時，獲取所有測量光斑測量到的所述基板上對應位置的垂向高度值。

可選的，將每個所述測量光斑測量到的所有所述垂向高度值取平均值，得到每個所述測量光斑的平均垂向高度值；

將所有測量光斑的平均垂向高度值中的最大者與最小者取平均值，得到理想垂向高度值；