[發(fā)明專利]等離子體處理裝置和等離子體處理裝置的載置臺(tái)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110738099.5
• 申請(qǐng)日: 2021-06-30
• 公開（公告）號(hào): CN113903646A
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 堂込公宏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01J37/32
• 分類號(hào): H01J37/32;H01L21/687;H01L21/67
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;池兵

1.一種等離子體處理裝置的載置臺(tái)，其特征在于，包括：

用于載置晶片的晶片載置面；

設(shè)置在所述晶片載置面的外周側(cè)的環(huán)載置面，其用于載置第1環(huán)和第2環(huán)，所述第2環(huán)配置在所述第1環(huán)的外周側(cè)并且配置在與所述第1環(huán)在上下方向不重疊的位置，所述環(huán)載置面在和所述第1環(huán)與所述第2環(huán)的邊界對(duì)應(yīng)的位置具有孔；

升降銷，其具有第1保持部和第2保持部，所述第2保持部在所述第1保持部的軸向上與所述第1保持部相連，所述第2保持部具有從所述第1保持部的外周突出的突出部，所述升降銷能夠以所述第1保持部位于所述環(huán)載置面?zhèn)鹊姆绞奖皇占{在所述環(huán)載置面的孔內(nèi)；和

驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其用于可升降地驅(qū)動(dòng)所述升降銷。

2.如權(quán)利要求1所述的載置臺(tái)，其特征在于：

所述第1保持部和所述第2保持部是同軸的棒狀部件，所述第1保持部的橫截面積小于所述第2保持部的橫截面積。

3.如權(quán)利要求1或2所述的載置臺(tái)，其特征在于：

所述升降銷能夠以軸為中心旋轉(zhuǎn)。

4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的載置臺(tái)，其特征在于：

所述第2保持部具有與被載置在所述環(huán)載置面上的所述第1環(huán)和所述第2環(huán)各自的一部分在上下方向彼此重疊的橫截面，

所述第1保持部具有與被載置在所述環(huán)載置面上的所述第1環(huán)和所述第2環(huán)中的任一者在上下方向彼此重疊的橫截面。

5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的載置臺(tái)，其特征在于：

所述第1環(huán)和所述第2環(huán)由不同的材質(zhì)構(gòu)成。

6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的載置臺(tái)，其特征在于，還包括：

環(huán)用靜電卡盤，其用于將所述第1環(huán)和所述第2環(huán)中的至少一者吸附在所述環(huán)載置面上；和

氣體供給機(jī)構(gòu)，其用于向所述第1環(huán)和所述第2環(huán)中的所述至少一者的下表面與所述環(huán)載置面之間供給傳熱氣體。

7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的載置臺(tái)，其特征在于：

所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠使所述升降銷旋轉(zhuǎn)至：所述第1保持部被配置在所述載置臺(tái)的中心側(cè)的第1位置；和所述第1保持部被配置在所述載置臺(tái)的外周側(cè)的第2位置，

所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠?qū)⑺錾典N的朝向有選擇地設(shè)定為所述第1位置和所述第2位置中的任一者并使所述升降銷升降。

8.如權(quán)利要求7所述的載置臺(tái)，其特征在于：

所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠：在輸送所述第1環(huán)時(shí)，將所述升降銷配置在所述第1位置，并使所述升降銷的頂部上升至第1高度。

9.如權(quán)利要求8所述的載置臺(tái)，其特征在于：

所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還能夠：在輸送所述第1環(huán)和所述第2環(huán)時(shí)，將所述升降銷配置在所述第1位置，并使所述升降銷的頂部上升至比所述第1高度高的第2高度。

10.如權(quán)利要求8或9所述的載置臺(tái)，其特征在于：

所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還能夠：在輸送所述第2環(huán)時(shí)，將所述升降銷配置在所述第1位置，并使所述升降銷的頂部上升至所述第2高度。

11.如權(quán)利要求8至10中任一項(xiàng)所述的載置臺(tái)，其特征在于：

所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還能夠：在輸送所述第2環(huán)時(shí)，將所述升降銷配置在所述第2位置，并使所述升降銷的頂部上升至所述第1高度。

12.一種等離子體處理裝置，其特征在于，包括：

用于載置晶片的晶片載置面；

設(shè)置在所述晶片載置面的外周側(cè)的環(huán)載置面，其用于載置第1環(huán)和第2環(huán)，所述第2環(huán)配置在所述第1環(huán)的外周側(cè)并且配置在與所述第1環(huán)在上下方向不重疊的位置，所述環(huán)載置面在和所述第1環(huán)與所述第2環(huán)的邊界對(duì)應(yīng)的位置具有孔；

升降銷，其具有第1保持部和第2保持部，所述第2保持部在所述第1保持部的軸向上與所述第1保持部相連，所述第2保持部具有從所述第1保持部的外周突出的突出部，所述升降銷能夠以所述第1保持部位于所述環(huán)載置面?zhèn)鹊姆绞奖皇占{在所述環(huán)載置面的孔內(nèi)；和

驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其用于可升降地驅(qū)動(dòng)所述升降銷。