[發(fā)明專利]一種Ni柱子輔助PMMA微透鏡陣列及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110735232.1 | 申請日: | 2021-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN113608285B | 公開(公告)日: | 2022-05-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 梁小筱;伊福廷;劉靜;王波;張?zhí)鞗_;顏銘銘;徐源澤 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院高能物理研究所 |
| 主分類號: | G02B3/00 | 分類號: | G02B3/00 |
| 代理公司: | 北京君尚知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11200 | 代理人: | 司立彬 |
| 地址: | 100049 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 ni 柱子 輔助 pmma 透鏡 陣列 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種Ni柱子輔助PMMA微透鏡陣列及其制備方法。本方法為:1)在鍍鉻金的硅片上電鍍Ni柱子陣列;2)在電鍍有Ni柱子陣列的所述硅片上旋涂一層液態(tài)PMMA后進(jìn)行烘干處理;3)運(yùn)用套刻技術(shù),將X射線掩膜版與所述硅片上的Ni柱子對準(zhǔn),然后進(jìn)行曝光、顯影后得到具有PMMA柱子陣列的樣品,其中所述PMMA柱子陣列中每一PMMA柱子內(nèi)部包含一Ni柱子;4)將步驟3)所得樣品放入烘箱中加熱,使得所述PMMA柱子陣列中的各PMMA柱子熱熔為微透鏡,得到微透鏡陣列。本發(fā)明通過在PMMA柱子中加入Ni柱子,達(dá)到的增加微透鏡接觸角的效果,進(jìn)而能夠制備接觸角較大的微透鏡陣列。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于微加工技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種Ni柱子輔助PMMA微透鏡陣列及其制備方法,可用于提高微透鏡陣列的接觸角。
背景技術(shù)
微透鏡陣列是由單個透鏡以陣列的形式排列而成的作為微光學(xué)元件,具有廣泛的應(yīng)用,例如,光學(xué)通信、集成成像、光纖耦合、光場顯示技術(shù)等。制作微透鏡陣列的方法有光刻熱熔法,熱壓成型法,微噴打印法、飛秒激光直寫法等。其中光刻熱熔法因工藝相對簡單,對材料和設(shè)備要求不高,工藝參數(shù)穩(wěn)定且易于控制而被廣泛采用。
LIGA(LIGA是德文Lithographie,Galvanoformung和Abformung三個詞,即光刻、電鑄和注塑的縮寫)技術(shù)是基于X射線光刻技術(shù)的MEMS加工技術(shù),主要包括X光深度同步輻射光刻,電鑄制模和注模復(fù)制三個工藝步驟。由于X射線具有非常高的平行度、極強(qiáng)的輻射強(qiáng)度、連續(xù)的光譜,使得LIGA技術(shù)在制作大高寬比、側(cè)壁光滑、平行度偏差在亞微米范圍內(nèi)的三維立體結(jié)構(gòu)十分具有優(yōu)勢。這是其它微加工技術(shù)所無法實(shí)現(xiàn)的。而PMMA(有機(jī)玻璃)是LIGA技術(shù)X射線同步輻射的常規(guī)光刻膠,具有高透明度、低價格、易于機(jī)械加工等優(yōu)點(diǎn)。
傳統(tǒng)微透鏡陣列制作方法是通過光刻熱熔法及LIGA技術(shù)制作微透鏡陣列,一般是先制得柱狀的微透鏡陣列,然后將其放到恒溫室中加熱,當(dāng)加熱溫度高于PMMA的玻璃化溫度時,PMMA柱子在表面張力的作用下會逐漸形成球狀,保持恒溫一段時間后,將樣品自然冷卻拿出,就能得到微透鏡陣列。目前傳統(tǒng)方法無法進(jìn)一步改善透鏡接觸角。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,本發(fā)明的目的在于提供一種Ni柱子輔助PMMA微透鏡陣列及其制備方法。本發(fā)明將LIGA技術(shù)與光刻膠熱熔法結(jié)合,通過套刻技術(shù),在PMMA微柱中加入Ni柱子,導(dǎo)致獲得的微透鏡的接觸角大于沒有Ni柱子的微透鏡。Ni柱子的加入起到了增大微透鏡的接觸角作用,從而能夠制備接觸角較大的微透鏡陣列。
本發(fā)明通過在PMMA柱子中加入Ni柱子,達(dá)到的增加微透鏡接觸角的效果,進(jìn)而能夠制備接觸角較大的微透鏡陣列。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
1、旋涂一層AZ4620光刻膠,烘干后,將其曝光顯影。
2、在鍍鉻金的硅片上電鍍Ni柱子陣列,Ni柱子的直徑分別為180μm,高度為7至10μm。
3、在電鍍有Ni柱子陣列樣品上旋涂一層液態(tài)PMMA并烘干。
4、運(yùn)用套刻技術(shù),將X射線掩膜版與樣品的Ni柱子對準(zhǔn),經(jīng)過深度同步輻射光刻及顯影得到Ni柱子位于PMMA柱子中間的樣品。PMMA柱子的直徑為245μm,高度為104微米。
5、樣品放入烘箱中加熱得到微透鏡陣列。
本發(fā)明具有以下創(chuàng)新點(diǎn):
1、使用Ni柱子可以改變微透鏡陣列中透鏡的形貌。
2、Ni柱子使得微透鏡陣列的透鏡接觸角增大。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)如下:
1、相比于表面改性的方法改變透鏡接觸角大小,本發(fā)明操作簡單,可控性強(qiáng)。
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