[發(fā)明專利]工藝腔室及半導(dǎo)體工藝設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110731675.3
• 申請日: 2021-06-29
• 公開（公告）號: CN113463050B
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郭浩
• 申請（專利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 施敬勃

本申請公開一種工藝腔室，包括腔體、承載座、內(nèi)襯組件、靶材和移動烘烤燈組件，靶材設(shè)置于腔體的頂部開口上，內(nèi)襯組件至少部分位于腔體內(nèi)，且內(nèi)襯組件的一端設(shè)置于靶材和腔體之間，內(nèi)襯組件的另一端懸空，承載座設(shè)置于腔體內(nèi)，移動烘烤燈組件包括烘烤燈，烘烤燈可移動地設(shè)置于腔體內(nèi)，選擇性地移入或者移出烘烤位置，當(dāng)烘烤燈位于烘烤位置時，對內(nèi)襯組件的內(nèi)壁和靶材的底壁進(jìn)行烘烤，其中，烘烤位置位于承載座和內(nèi)襯組件之間，且位于內(nèi)襯組件的底部開口的下方。上述方案能夠解決相關(guān)技術(shù)中烘烤燈發(fā)出的大部分光線被承載座阻擋而導(dǎo)致工藝腔室內(nèi)的部件得到的照射面積較小，從而導(dǎo)致工藝腔室較難快速形成真空環(huán)境的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及半導(dǎo)體加工工藝技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種工藝腔室及半導(dǎo)體工藝設(shè)備。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體的加工過程中，半導(dǎo)體工藝設(shè)備通常采用磁控濺射工藝，磁控濺射工藝由于具有鍍膜面積大、附著力強(qiáng)等優(yōu)勢，因此被廣泛地應(yīng)用。

磁控濺射工藝需要在真空環(huán)境下才能完成，半導(dǎo)體工藝設(shè)備包括工藝腔室和真空泵，工藝腔室為了形成真空環(huán)境，采用真空泵抽取工藝腔室內(nèi)的氣體，由于工藝腔室的內(nèi)壁和工藝腔室內(nèi)的部件通常由不銹鋼、鋁合金、鈦、陶瓷等金屬材料及非金屬材料制成，金屬材料或非金屬材料的表面在大氣中會吸附很多氣體分子，其中，氣體分子的釋放速度與工藝腔室的內(nèi)壁和工藝腔室內(nèi)的部件表面的溫度成正比。同時，真空泵也需要將這些氣體分子從工藝腔室內(nèi)抽離。

相關(guān)技術(shù)中，工藝腔室包括烘烤燈和承載座，烘烤燈和承載座均設(shè)置在工藝腔室中，烘烤燈與承載座相對設(shè)置，工藝腔室通過烘烤燈照射工藝腔室的內(nèi)壁和工藝腔室內(nèi)的部件表面來升溫而加快氣體分子的釋放速度而提高真空泵的工作效率，但烘烤燈發(fā)出的大部分光線被承載座阻擋而導(dǎo)致工藝腔室內(nèi)的部件表面得到的照射面積較小，從而導(dǎo)致工藝腔室較難快速形成真空環(huán)境。

發(fā)明內(nèi)容

本申請公開一種工藝腔室及半導(dǎo)體工藝設(shè)備，以解決相關(guān)技術(shù)中烘烤燈發(fā)出的大部分光線被承載座阻擋，從而導(dǎo)致工藝腔室內(nèi)的部件表面得到的照射面積較小，進(jìn)而導(dǎo)致工藝腔室較難快速形成真空環(huán)境的問題。

為解決上述問題，本申請采用下述技術(shù)方案：

第一方面，本申請公開一種工藝腔室，用于半導(dǎo)體工藝設(shè)備，包括腔體、承載座、內(nèi)襯組件、靶材和移動烘烤燈組件；

所述靶材設(shè)置于所述腔體的頂部開口上，所述內(nèi)襯組件至少部分位于所述腔體內(nèi)，且所述內(nèi)襯組件的一端設(shè)置于所述靶材和所述腔體之間，所述內(nèi)襯組件的另一端懸空，所述承載座設(shè)置于所述腔體內(nèi)，且所述承載座位于所述內(nèi)襯組件的下方；

所述移動烘烤燈組件包括烘烤燈，所述烘烤燈可移動地設(shè)置于所述腔體內(nèi)，選擇性地移入或者移出烘烤位置，當(dāng)所述烘烤燈位于所述烘烤位置時，對所述內(nèi)襯組件的內(nèi)壁和所述靶材的底壁進(jìn)行烘烤，其中，所述烘烤位置位于所述承載座和所述內(nèi)襯組件之間，且位于所述內(nèi)襯組件的底部開口的下方。

第二方面，本申請公開一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備，包括第一方面所述的工藝腔室。

本申請采用的技術(shù)方案能夠達(dá)到以下有益效果：

本申請公開的工藝腔室通過對相關(guān)技術(shù)中的工藝腔室進(jìn)行改造，使得工藝腔室還包括移動烘烤燈組件，移動烘烤燈組件包括烘烤燈，烘烤燈可移動地設(shè)置于腔體內(nèi)，從而使得烘烤燈根據(jù)工藝需要可以選擇性地移入或者移出烘烤位置，當(dāng)烘烤燈移動至烘烤位置時，烘烤燈開啟，烘烤燈發(fā)出的光線照射至內(nèi)襯組件的內(nèi)壁和靶材的底壁，從而使得烘烤燈能夠?qū)?nèi)襯組件的內(nèi)壁和靶材的底壁進(jìn)行烘烤，從而提高內(nèi)襯組件和靶材的溫度，進(jìn)而使得附著在內(nèi)襯組件和靶材上的氣體分子的釋放速度加快，進(jìn)而有利于工藝腔室較為快速地形成真空環(huán)境。

附圖說明

為了更清楚地說明本申請實施例或背景技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或背景技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單的介紹，顯而易見地，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。