[發明專利]發光單元及其制備方法、顯示面板、顯示裝置

在審

• 申請號: 202110728984.5
• 申請日: 2021-06-29
• 公開（公告）號: CN113451381A
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 李然;田宏偉;王晶
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32
• 代理公司: 北京市立方律師事務所 11330
• 代理人: 張筱寧;宋海斌

1.一種發光單元，其特征在于，包括：

金屬結構，位于基材層的一側；

第一平坦層，位于所述基材層和所述金屬結構的一側；

電介質結構，位于所述第一平坦層遠離所述金屬結構的一側；

第二平坦層，位于所述電介質結構遠離所述第一平坦層的一側；

有機發光器件層，位于所述第二平坦層遠離所述電介質結構的一側；

所述電介質結構用于將設計波段的光透射至所述金屬結構，所述金屬結構用于吸收所述設計波段的光中的非中心波段的部分，得到過濾后的所述設計波段的光并反射，所述電介質結構用于透射過濾后的所述設計波段的光。

2.根據權利要求1所述的發光單元，其特征在于，

所述電介質結構和所述金屬結構均具有結構陣列，所述結構陣列為納米圓柱陣列或納米球陣列。

3.根據權利要求1或2所述的發光單元，其特征在于，還包括：設置在所述基材層和所述金屬結構之間的薄膜晶體管層。

4.根據權利要求1或2所述的發光單元，其特征在于，還包括：設置在所述第二平坦層和所述有機發光器件層之間的薄膜晶體管層。

5.一種顯示面板，其特征在于，包括至少三種如上述權利要求1-4中任一項所述的發光單元，用于過濾至少三種設計波段的光中的非中心波段的部分，并出射過濾后的至少三種所述設計波段的光。

6.根據權利要求5所述的顯示面板，其特征在于，至少三種所述發光單元包括第一顏色的發光單元，所述第一顏色的發光單元用于過濾第一設計波段的光中非中心波段的部分，并出射過濾后的所述第一設計波段的光；

所述第一顏色的發光單元包括：電介質結構的納米圓柱高度為60納米至100納米，底面直徑為90納米至200納米，任意相鄰的兩個所述電介質結構的納米圓柱的間隔為90納米至400納米；

金屬結構的納米圓柱高度為60納米至100納米，底面直徑為80納米至200納米，任意相鄰兩個所述金屬結構的納米圓柱的間隔為120納米至400納米。

7.根據權利要求5所述的顯示面板，其特征在于，至少三種所述發光單元包括第二顏色的發光單元，所述第二顏色的發光單元用于過濾第二設計波段的光中非中心波段的部分，并出射過濾后的所述第二設計波段的光；

所述第二顏色的發光單元包括：電介質結構的納米圓柱高度為60納米至100納米，底面直徑為80納米至120納米，任意相鄰的兩個所述電介質結構的納米圓柱的間隔為90納米至400納米；

金屬結構的納米圓柱高度為60納米至100納米，底面直徑為80納米至120納米，任意相鄰兩個所述金屬結構的納米圓柱的間隔為120納米至400納米。

8.根據權利要求5所述的顯示面板，其特征在于，至少三種所述發光單元包括第三顏色的發光單元，所述第三顏色的發光單元用于過濾第三設計波段的光中非中心波段的部分，并出射過濾后的所述第三設計波段的光；

所述第三顏色的發光單元包括：電介質結構的納米圓柱高度為60納米至100納米，底面直徑為80納米至120納米，意相鄰的兩個所述電介質結構的納米圓柱的間隔為90納米至400納米；

金屬結構的納米圓柱高度為60納米至100納米，底面直徑為80納米至120納米，任意相鄰兩個所述金屬結構的納米圓柱的間隔為120納米至400納米。

9.一種顯示裝置，其特征在于，包括如上述權利要求5-8中任一項所述的顯示面板。

10.一種權利要求1-4中任一項所述發光單元的制備方法，其特征在于，

在基材層的一側制備金屬結構；

在所述金屬結構遠離所述基材層、以及所述基材層未被所述金屬結構覆蓋的一側，制備第一平坦層；

在所述第一平坦層遠離所述金屬結構的一側制備電介質結構；

在所述電介質結構遠離所述第一平坦層、以及所述第一平坦層未被所述電介質結構覆蓋的一側，制備第二平坦層；

在所述第二平坦層遠離所述電介質結構的一側制備有機發光器件層。