[發(fā)明專利]一種奧氏體晶粒度腐蝕方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110726902.3
• 申請(qǐng)日: 2021-06-29
• 公開（公告）號(hào): CN113390736A
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 熊飛;劉斌;宋暢;趙江濤;何亞元;杜明;韓榮東
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢鋼鐵有限公司
• 主分類號(hào): G01N3/32
• 分類號(hào): G01N3/32;G01N1/28
• 代理公司: 武漢開元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42104
• 代理人: 胡鎮(zhèn)西;張繼東

1.一種奧氏體晶粒度腐蝕方法，其特征在于：包括如下步驟：

A)制備試樣；

B)將試樣利用夾具固定后在粗磨機(jī)上進(jìn)行粗磨；

C)將粗磨后的試樣用水沖洗干凈后利用夾具安裝在精磨機(jī)上進(jìn)行精磨；

D)精磨完成后，將試樣清洗后利用夾具固定在精磨機(jī)上進(jìn)行拋光；

E)拋光完成后，將試樣取下進(jìn)行酒精超聲清洗，并吹干。

2.如權(quán)利要求1所述奧氏體晶粒度腐蝕方法，其特征在于：所述步驟A)中，制備試樣按照GB/T13298-1991標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行取樣，并在司特爾鑲嵌機(jī)上進(jìn)行鑲制。

3.如權(quán)利要求1所述奧氏體晶粒度腐蝕方法，其特征在于：所述步驟B)中，采用100～130N的壓力、130～170r/min的轉(zhuǎn)速對(duì)試樣進(jìn)行粗磨。

4.如權(quán)利要求1所述奧氏體晶粒度腐蝕方法，其特征在于：所述步驟C)中，精磨包括如下步驟：

C1)安裝220的磨片后，采用100～130N的壓力、轉(zhuǎn)盤與夾具均130～170r/min的轉(zhuǎn)速(二者同速反向旋轉(zhuǎn))來對(duì)試樣進(jìn)行第一輪精磨，磨制時(shí)間4～6min；

C2)將220磨片更換成500的磨片后，采用100～130N的壓力、轉(zhuǎn)盤與夾具均130～170r/min的轉(zhuǎn)速(二者同速反向旋轉(zhuǎn))來對(duì)試樣進(jìn)行第二輪精磨，磨制時(shí)間4～6min；

C3)將500磨片更換成1200的磨片后，采用100～130N的壓力、轉(zhuǎn)盤與夾具均130～170r/min的轉(zhuǎn)速(二者同速反向旋轉(zhuǎn))來對(duì)試樣進(jìn)行第三輪精磨，磨制時(shí)間4～6min。

5.如權(quán)利要求1所述奧氏體晶粒度腐蝕方法，其特征在于：所述步驟D)中，拋光包括如下步驟：

D1)取下磨片，換上9um的拋光盤，將試樣清洗后利用夾具固定在精磨機(jī)上進(jìn)行第一輪拋光，拋光液采用9um的懸浮液，拋光時(shí)，壓力采用90～110N，轉(zhuǎn)盤與夾具均140～160r/min的轉(zhuǎn)速(二者同向旋轉(zhuǎn))，拋光時(shí)間4～6min；

D2)第一輪拋光后，將9um拋光盤換成3um拋光盤，將試樣清洗后利用夾具固定在精磨機(jī)上進(jìn)行第二輪拋光，拋光液采用3um的懸浮液，拋光時(shí)，壓力采用90～110N，轉(zhuǎn)盤與夾具均140～160r/min的轉(zhuǎn)速(二者同向旋轉(zhuǎn))，拋光時(shí)間4～6min；

D3)第二輪拋光后，將3um拋光盤換成1um拋光盤，將試樣清洗后利用夾具固定在精磨機(jī)上進(jìn)行第三輪拋光，拋光液采用1um的懸浮液，拋光時(shí)，壓力采用75～85N，轉(zhuǎn)盤與夾具均140～160r/min的轉(zhuǎn)速(二者同向旋轉(zhuǎn))，拋光時(shí)間4～6min；

D4)第三輪拋光后，將1um拋光盤換成ops拋光盤，將試樣清洗后利用夾具固定在精磨機(jī)上進(jìn)行第四輪拋光，拋光液采用ops的懸浮液，拋光時(shí)，壓力采用60～70N，轉(zhuǎn)盤與夾具均90～110r/min的轉(zhuǎn)速(二者同向旋轉(zhuǎn))，拋光時(shí)間4～6min。