[發(fā)明專利]樣本分析系統(tǒng)和裝置、清洗液制備裝置及清洗液供應(yīng)方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110725252.0
• 申請日: 2016-10-14
• 公開（公告）號: CN113391080A
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高木龍輝;若宮裕二
• 申請（專利權(quán)）人: 希森美康株式會社
• 主分類號: G01N35/00
• 分類號: G01N35/00;G01N35/10
• 代理公司: 北京市安倫律師事務(wù)所 11339
• 代理人: 楊永波

本發(fā)明提供一種能夠使新制備的清洗液占存放的清洗液的大部分并能用存放的清洗液迅速清洗樣本分析裝置的樣本分析系統(tǒng)、清洗液制備裝置、樣本分析裝置以及清洗液供應(yīng)方法。清洗液的制備方法包括：在存放部件存放清洗樣本分析裝置所使用的清洗液，使用所述存放部件中存放的所述清洗液，所述存放部件內(nèi)的所述清洗液的余量低于第一量時(shí)，向所述存放部件補(bǔ)給清洗液，在滿足了預(yù)先設(shè)定的條件時(shí)，在使得用于向所述存放部件供應(yīng)清洗液的流路的閥關(guān)閉的狀態(tài)下，使用所述清洗液直至所述存放部件內(nèi)的所述清洗液的余量變?yōu)楸人龅谝涣可俚牡诙浚螅蜷_所述閥，向所述存放部件補(bǔ)給清洗液。

本申請是申請?zhí)枮?01610896507.9、申請日為2016年10月14日、名稱為“樣本分析系統(tǒng)和裝置、清洗液制備裝置及清洗液供應(yīng)方法”的由同一申請人提交的中國發(fā)明專利申請的分案申請。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種向樣本分析裝置供應(yīng)清洗液的樣本分析系統(tǒng)、清洗液制備裝置、樣本分析裝置及清洗液供應(yīng)方法。

背景技術(shù)

專利文獻(xiàn)1中公開了一種混合RO水和高濃度試劑來制備用于清洗樣本分析裝置的測定部件的液體的裝置。此裝置在供應(yīng)室內(nèi)存放混合RO水和高濃度試劑而制備的液體。存放在供應(yīng)室的液體供應(yīng)到測定部件，并用于清洗測定部件。

先行技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：特開（日本專利公開）2010-230541號公報(bào)。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的課題

在此，在專利文獻(xiàn)1公開的裝置中設(shè)置有浮動開關(guān)，該浮動開關(guān)用于檢測供應(yīng)室中是否收納有約為供應(yīng)室收納量一半的液體，以便根據(jù)供應(yīng)指示迅速向測定部件運(yùn)送用于清洗的液體，如果收納在供應(yīng)室中的液體少于供應(yīng)室收納量的一半，則向供應(yīng)室供應(yīng)約為供應(yīng)室收納量一半的液體。因此，新制備的用于清洗的液體僅能占所存放的液體量的約一半。用于清洗的液體最好在制備后盡快用于清洗。因此，人們希望有一種能夠滿足下述條件的裝置：新制備的液體占所存放的用于清洗的液體的大部分，且能夠用存放的液體迅速地清洗樣本分析裝置。

解決課題的手段

本發(fā)明第一技術(shù)方案中的樣本分析系統(tǒng)包括清洗液制備裝置和樣本分析裝置。清洗液制備裝置制備清洗液。樣本分析裝置具有測定樣本的測定部件以及用于存放清洗液制備裝置所制備的清洗液的存放部件，并用清洗液清洗測定部件的至少一部分。清洗液制備裝置能夠選擇性地執(zhí)行第一補(bǔ)給模式和第二補(bǔ)給模式。第一補(bǔ)給模式是當(dāng)存放部件中的液量變?yōu)榈谝涣繒r(shí)向存放部件補(bǔ)給清洗液的模式。第二補(bǔ)給模式是當(dāng)存放部件中的液量變?yōu)楸鹊谝涣可俚牡诙繒r(shí)向存放部件補(bǔ)給清洗液的模式。

優(yōu)選地，所述清洗液制備裝置以所述第一補(bǔ)給模式向所述存放部件補(bǔ)給所述清洗液，并在滿足了預(yù)先設(shè)定的條件時(shí)執(zhí)行所述第二補(bǔ)給模式。

優(yōu)選地，所述測定部件包括有探針的試劑分裝部件并用所述清洗液清洗所述探針，其中，所述探針用于分裝用于測定樣本的試劑。

優(yōu)選地，在所述第一補(bǔ)給模式下，所述清洗液制備裝置向所述存放部件補(bǔ)給比所述存放部件所存放的量少的所述清洗液；在所述第二補(bǔ)給模式下，所述清洗液制備裝置向所述存放部件補(bǔ)給比所述存放部件所存放的量多的所述清洗液。

優(yōu)選地，所述第二量是能夠清洗所述探針數(shù)次的量。

優(yōu)選地，所述清洗液制備裝置包括：向所述存放部件供應(yīng)制備的所述清洗液的供應(yīng)部件；以及控制所述供應(yīng)部件的控制部件；其中，在所述第一補(bǔ)給模式下，所述控制部件控制所述供應(yīng)部件在所述存放部件的液量變?yōu)榈谝涣繒r(shí)向所述存放部件供應(yīng)所述清洗液，在所述第二補(bǔ)給模式下，所述控制部件控制所述供應(yīng)部件在所述存放部件的液量變?yōu)樗龅诙繒r(shí)向所述存放部件供應(yīng)所述清洗液。

優(yōu)選地，所述存放部件包括檢測出液量變?yōu)樗龅谝涣康牡谝粰z測部件以及檢測出液量變?yōu)樗龅诙康牡诙z測部件，所述控制部件基于所述第一檢測部件和所述第二檢測部件的檢測結(jié)果控制所述供應(yīng)部件。