[發明專利]樣本分析系統和裝置、清洗液制備裝置及清洗液供應方法

在審

• 申請號: 202110725252.0
• 申請日: 2016-10-14
• 公開（公告）號: CN113391080A
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發明（設計）人: 高木龍輝;若宮裕二
• 申請（專利權）人: 希森美康株式會社
• 主分類號: G01N35/00
• 分類號: G01N35/00;G01N35/10
• 代理公司: 北京市安倫律師事務所 11339
• 代理人: 楊永波

1.一種清洗液的制備方法，包括：

在存放部件存放清洗樣本分析裝置所使用的清洗液，

使用所述存放部件中存放的所述清洗液，

所述存放部件內的所述清洗液的余量低于第一量時，向所述存放部件補給清洗液，

在滿足了預先設定的條件時，在使得用于向所述存放部件供應清洗液的流路的閥關閉的狀態下，使用所述清洗液直至所述存放部件內的所述清洗液的余量變為比所述第一量少的第二量，之后，打開所述閥，向所述存放部件補給清洗液。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：

所述第一量是比所述存放部件的容量的一半多的量，所述第二量是比所述存放的一半少的量。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：

所述預先設定的條件是指所述清洗液制備裝置啟動、設置于所述清洗液制備裝置的內部時鐘的日期改變或者經過用戶預先設定的時刻。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，還包括：

顯示用于從用戶受理所述條件的設定的界面。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：

所述樣本分析裝置包括有探針的試劑分裝部件并用所述清洗液清洗所述探針，其中，所述探針用于分裝用于測定樣本的試劑。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：

所述第二量是能夠清洗所述探針數次的量。

7.一種向樣本分析裝置供應清洗液的清洗液供應裝置，包括：

存放部件，存放清洗所述樣本分析裝置所使用的清洗液；

控制部件；

其中，所述控制部件進行如下操作：

將所述存放部件中存放的所述清洗液供應至所述樣本分析裝置；

當所述存放部件內的所述清洗液的余量低于第一量時，向所述存放部件補給清洗液；

在滿足了預先設定的條件時，在使得用于向所述存放部件供應清洗液的流路的閥關閉的狀態下，使用所述清洗液直至所述存放部件內的所述清洗液的余量變為比所述第一量少的第二量，之后，打開所述閥，向所述存放部件補給清洗液。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于：

所述第一量是比所述存放部件的容量的一半多的量，所述第二量是比所述存放的一半少的量。

9.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于：

所述預先設定的條件是指所述清洗液制備裝置啟動、設置于所述清洗液制備裝置的內部時鐘的日期改變或者經過用戶預先設定的時刻。

10.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于：

還包括顯示部件；

其中，所述控制部件使所述顯示部件顯示用于從用戶受理所述條件的設定的界面。

11.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于：

所述樣本分析裝置包括有探針的試劑分裝部件并用所述清洗液清洗所述探針，其中，所述探針用于分裝用于測定樣本的試劑。

12.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于：

所述第二量是能夠清洗所述探針數次的量。