[發(fā)明專利]半導(dǎo)體工藝設(shè)備及其氣體輸送裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110713403.0
• 申請(qǐng)日: 2021-06-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113441032B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-09-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱磊;紀(jì)紅;魏景峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): B01F25/42
• 分類號(hào): B01F25/42;B01F23/10;H01L21/67
• 代理公司: 北京國(guó)昊天誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 施敬勃

本申請(qǐng)公開(kāi)一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備及其氣體輸送裝置，氣體輸送裝置用于向半導(dǎo)體工藝設(shè)備的工藝腔室中輸送工藝氣體，其包括混氣件和分氣件，分氣件設(shè)置在工藝腔室的蓋板上的安裝通孔中，分氣件與安裝通孔配合形成分氣通道，混氣件設(shè)置在蓋板上，其中設(shè)置有混氣腔，分氣通道連通混氣腔和工藝腔室；混氣腔內(nèi)安裝有多個(gè)阻擋件，且多個(gè)阻擋件形成至少兩組沿混氣腔的軸向分布的氣體阻擋層；任一氣體阻擋層均包括至少兩個(gè)圍繞軸向間隔設(shè)置的阻擋件；對(duì)于任意相鄰的兩組氣體阻擋層，其中一個(gè)氣體阻擋層的至少一個(gè)阻擋件在軸向的投影覆蓋另一氣體阻擋層中相鄰兩個(gè)阻擋件之間的間隔區(qū)域。上述氣體輸送裝置能夠提升氣體中不同組分的混合程度。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)屬于半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備及其氣體輸送裝置。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體被加工件的加工過(guò)程中，通常需要向工藝腔內(nèi)輸送工藝氣體，工藝氣體可以提供參與反應(yīng)或凈化工藝腔環(huán)境等作用。以原子層沉積工藝為例，通常需要向工藝腔內(nèi)通入多種不同的源氣，使源氣之間進(jìn)行反應(yīng)，形成原子膜沉積在基底的表面。目前的混流器中通常設(shè)置有混氣腔，不同的源氣在載氣的作用下經(jīng)進(jìn)氣管路被送入混氣腔內(nèi)，源氣和載氣在混氣腔內(nèi)進(jìn)行混合，且采用一路分四路，四路分八路的結(jié)構(gòu)形式，對(duì)初步混合之后的氣體進(jìn)一步混合和分散，最終被送入工藝腔內(nèi)，這種混氣方式較為原始，各混合管路內(nèi)的氣體在混合過(guò)程中的流動(dòng)范圍相對(duì)局限，混合程度較差。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)公開(kāi)一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備及其氣體輸送裝置，能夠提升氣體中不同組分的混合程度。

為了解決上述問(wèn)題，本申請(qǐng)實(shí)施例是這樣實(shí)現(xiàn)地：

第一方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備中的氣體輸送裝置，用于向所述半導(dǎo)體工藝設(shè)備的工藝腔室中輸送工藝氣體，所述氣體輸送裝置包括混氣件和分氣件，所述分氣件設(shè)置在所述工藝腔室的蓋板上的安裝通孔中，所述分氣件與所述安裝通孔配合形成分氣通道，所述混氣件設(shè)置在所述蓋板上，其中設(shè)置有混氣腔，所述分氣通道連通所述混氣腔和所述工藝腔室；

所述混氣腔內(nèi)安裝有多個(gè)阻擋件，且多個(gè)所述阻擋件形成至少兩組沿所述混氣腔的軸向分布的氣體阻擋層；任一所述氣體阻擋層均包括至少兩個(gè)圍繞所述軸向間隔設(shè)置的所述阻擋件；對(duì)于任意相鄰的兩組所述氣體阻擋層，其中一個(gè)所述氣體阻擋層的至少一個(gè)所述阻擋件在所述軸向的投影覆蓋另一所述氣體阻擋層中相鄰兩個(gè)所述阻擋件之間的間隔區(qū)域。

第二方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備，其包括工藝腔室和上述氣體輸送裝置。

本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備及其氣體輸送裝置，采用該氣體輸送裝置可以向半導(dǎo)體工藝設(shè)備的工藝腔室內(nèi)輸送氣體。氣體輸送裝置包括混氣件和分氣件，混氣件設(shè)有混氣腔，混氣腔與分氣件與工藝腔室的蓋板的安裝通孔配合形成的分氣通道連通，進(jìn)而與工藝腔室連通，使混氣腔內(nèi)的氣體能夠通過(guò)分氣通道輸送至工藝腔室內(nèi)。

混氣腔內(nèi)安裝有多個(gè)阻擋件，且多個(gè)阻擋件能夠形成至少兩組沿混氣腔軸向分布的氣體阻擋層，相鄰的兩組氣體阻擋層中，其中一個(gè)氣體阻擋層的至少一個(gè)阻擋件在混氣腔的軸向的投影覆蓋另一氣體阻擋層中相鄰兩個(gè)阻擋件之間的間隔區(qū)域。

在這種情況下，當(dāng)氣體被送入混氣腔內(nèi)之后，氣體沿混氣腔的軸向流動(dòng)過(guò)程會(huì)受到氣體阻擋層中阻擋件的阻擋，從而使氣體只能沿垂直于上述軸向的方向擴(kuò)散，且自氣體阻擋層中任意相鄰的兩個(gè)阻擋件之間的間隔區(qū)域繼續(xù)向下游流動(dòng)，在氣體自位于上游的氣體阻擋層中的間隔區(qū)域流動(dòng)至下游的氣體阻擋層時(shí)，氣體又被位于下游的氣體阻擋層的阻擋件所進(jìn)一步阻擋，從而使氣體只能繼續(xù)向垂直于上述軸向的方向擴(kuò)散，且更加分散地自更多的間隔區(qū)域繼續(xù)向下游流動(dòng)。在上述過(guò)程中，氣體可以被阻擋件所阻擋，從而多次沿垂直于混氣腔的軸向的方向流動(dòng)且擴(kuò)散，這可以使位于混氣腔內(nèi)不同位置處的氣體充分混合，且使混合氣體中不同種類的氣體更好地混合在一起，提升自混氣件輸出的氣體中各組分的混合均勻程度。

附圖說(shuō)明