[發明專利]三維模型處理方法、裝置、電子設備及存儲介質有效
| 申請號: | 202110709960.5 | 申請日: | 2021-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN113436348B | 公開(公告)日: | 2023-10-03 |
| 發明(設計)人: | 施侃樂;李雅子;鄭文 | 申請(專利權)人: | 北京達佳互聯信息技術有限公司 |
| 主分類號: | G06T19/20 | 分類號: | G06T19/20;G06T7/30 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 寧立存 |
| 地址: | 100085 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 三維 模型 處理 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
本公開是關于一種三維模型處理方法、裝置、電子設備及存儲介質,屬于計算機技術領域。方法包括:獲取光場數據和三維模型,執行以下迭代過程:確定將三維模型映射到任一視角下的二維模型視圖,以及確定將光場數據映射到任一視角下的二維光場視圖;根據二維模型視圖與二維光場視圖之間的第一差異參數,對三維模型的位置進行調整,以使在任一視角下調整后的三維模型的二維模型視圖與二維光場視圖的重合度最高;響應于迭代過程滿足迭代結束條件,停止迭代過程,得到配準后的三維模型。將三維模型和光場數據轉換成二維的視圖,能夠將三維空間中的配準問題轉換成二維空間的配準問題,使配準過程更加簡單,采用迭代的方式進行配準能夠逐漸提高配準精度。
技術領域
本公開涉及計算機技術領域,尤其涉及一種三維模型處理方法、裝置、電子設備及存儲介質。
背景技術
光場(Light-Field)是指記錄空間中各個方向的光線信息的數據集,在虛擬現實、游戲等多種領域下均會創建三維場景,并獲取三維創建的光場數據,該光場數據記錄了三維場景中的光線信息。由于光場數據中不包括幾何信息,導致無法直接使用光場數據進行處理。通常為該三維場景創建三維模型,該三維模型用于描述三維場景中的幾何信息,從而為光場數據的處理提供幾何信息作為參考。
但是,由于三維模型是脫離光場數據而創建的,該三維模型與光場數據的匹配度較低。因此,亟需提供一種對三維模型與光場數據進行配準的方法。
發明內容
本公開提供了一種三維模型處理方法、裝置、電子設備及存儲介質,能夠提高三維模型與光場數據的配準精度。
根據本公開實施例的第一方面,提供一種三維模型處理方法,所述三維模型處理方法包括:
獲取三維場景對應的光場數據和三維模型;
對所述光場數據和所述三維模型,執行以下迭代過程:
確定將所述三維模型映射到任一視角下的二維模型視圖,以及確定將所述光場數據映射到所述任一視角下的二維光場視圖;
根據所述任一視角下的二維模型視圖與二維光場視圖之間的第一差異參數,對所述三維模型的位置進行調整,以使在所述任一視角下調整后的所述三維模型的二維模型視圖與所述二維光場視圖的重合度最高;
響應于所述迭代過程滿足迭代結束條件,停止所述迭代過程,得到配準后的三維模型。
可選地,所述迭代結束條件為:存在連續目標數量個第一差異參數均小于目標閾值參數。
可選地,所述根據所述任一視角下的二維模型視圖與二維光場視圖之間的第一差異參數,對所述三維模型的位置進行調整,以使在所述任一視角下調整后的所述三維模型的二維模型視圖與所述二維光場視圖的重合度最高,包括:
根據所述第一差異參數,確定所述三維模型的第一配準參數,所述第一配準參數能夠使在所述任一視角下調整后的所述三維模型的二維模型視圖與所述二維光場視圖的重合度最高,所述第一配準參數包括平移參數和旋轉參數;
按照所述第一配準參數,執行以下至少一項:
按照所述平移參數,控制所述三維模型進行平移;
按照所述旋轉參數,控制所述三維模型進行旋轉。
可選地,所述確定將所述三維模型映射到任一視角下的二維模型視圖,以及確定將所述光場數據映射到所述任一視角下的二維光場視圖,包括:
確定將所述三維模型映射到所述任一視角下的原始二維模型視圖,以及確定將所述光場數據映射到所述任一視角下的原始二維光場視圖;
剔除所述原始二維模型視圖中的背景信息,得到所述任一視角下的二維模型視圖;
剔除所述原始二維光場視圖中的背景信息,得到所述任一視角下的二維光場視圖。
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