[發(fā)明專利]一種形變檢測方法、裝置、設備及計算機可讀存儲介質在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110709696.5 | 申請日: | 2021-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN113393448A | 公開(公告)日: | 2021-09-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 龔星;郭卉;郭雙雙;蔣哲興;謝駿;曾鍇;王謙;劉慶;陳啟新;蔡倆志;鄭雙智;陳麗萍;侯嘉悅;郝紅;楊剛剛;戚恩 | 申請(專利權)人: | 騰訊云計算(北京)有限責任公司;中國外運股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00;G06T7/50;G06T5/00;G01B11/16 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 | 代理人: | 趙翠萍;張穎玲 |
| 地址: | 100190 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 形變 檢測 方法 裝置 設備 計算機 可讀 存儲 介質 | ||
1.一種形變檢測方法,其特征在于,包括:
通過圖像采集系統(tǒng)采集待檢測箱體的外觀圖像和深度圖像,所述深度圖像的像素點的像素值表征所述外觀圖像的像素點的深度信息;
對所述外觀圖像進行結構定位,得到待檢測區(qū)域和基準區(qū)域,其中,所述基準區(qū)域表征對所述待檢測區(qū)域進行形變檢測時的參考基準;
從所述深度圖像中,提取出所述待檢測區(qū)域的深度信息、以及所述基準區(qū)域的深度信息;
基于所述待檢測區(qū)域的深度信息和所述基準區(qū)域的深度信息,確定出所述待檢測區(qū)域中的形變區(qū)域,以及所述形變區(qū)域的形變程度。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述待檢測區(qū)域的深度信息和所述基準區(qū)域的深度信息,確定出所述待檢測區(qū)域中的形變區(qū)域,以及所述形變區(qū)域的形變程度,包括:
依據(jù)所述基準區(qū)域的深度信息,以及所述待檢測區(qū)域的深度信息,從所述待檢測區(qū)域中確定出未變形區(qū)域;
從所述待檢測區(qū)域的各個空間位置中提取出所述未變形區(qū)域的空間位置,其中,所述待檢測區(qū)域的各個空間位置是利用所述待檢測區(qū)域的各個像素點和對應的深度信息確定出的;
利用所述未變形區(qū)域的空間位置,擬合出參考平面;
依據(jù)所述待檢測區(qū)域的各個空間位置到所述參考平面的距離,從所述待檢測區(qū)域中確定出所述形變區(qū)域,以及所述形變區(qū)域的形變程度。
3.根據(jù)權利要求2所述的方法,其特征在于,所述依據(jù)所述基準區(qū)域的深度信息,以及所述待檢測區(qū)域的深度信息,從所述待檢測區(qū)域中確定出未變形區(qū)域,包括:
對所述待檢測區(qū)域進行區(qū)域劃分,得到多個子區(qū)域;
對所述待檢測區(qū)域的深度信息中每個子區(qū)域的深度信息進行平均處理,得到多個子平均深度;
依據(jù)所述多個子平均深度和所述基準區(qū)域的深度信息,從所述多個子區(qū)域中挑選出所述未變形區(qū)域。
4.根據(jù)權利要求3所述的方法,其特征在于,所述依據(jù)所述多個子平均深度和所述基準區(qū)域的深度信息,從所述多個子區(qū)域中挑選出所述未變形區(qū)域,包括:
從所述多個子平均深度中,篩選出與所述基準區(qū)域的深度信息的差異小于預設差距的候選子平均深度;
從所述多個子區(qū)域中,提取出所述候選子平均深度對應的所述未變形區(qū)域。
5.根據(jù)權利要求2至4任一項所述的方法,其特征在于,所述依據(jù)所述待檢測區(qū)域的各個空間位置到所述參考平面的距離,從所述待檢測區(qū)域中確定出所述形變區(qū)域,以及所述形變區(qū)域的形變程度,包括:
對所述待檢測區(qū)域的所述各個空間位置中的每個空間位置與所述參考平面進行距離計算,得到所述每個空間位置對應的平面距離;
依據(jù)所述每個空間位置對應的平面距離,從所述待檢測區(qū)域的各個像素點中篩選出形變點;
對所述形變點進行聚類,得到所述形變區(qū)域,并將所述形變區(qū)域中的形變點對應的平面距離的均值,確定為所述形變程度。
6.根據(jù)權利要求5所述的方法,其特征在于,所述依據(jù)所述每個空間位置對應的平面距離,從所述待檢測區(qū)域的各個像素點中篩選出形變點,包括:
從所述每個空間位置對應的平面距離中,篩選出大于預設標準的候選平面距離;
從所述待檢測區(qū)域的所述各個空間位置中,篩選出與所述候選平面距離對應的候選空間位置;
將所述待檢測區(qū)域的各個像素點中,與所述候選空間位置對應的像素點,確定為所述形變點。
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