[發(fā)明專利]蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110704369.0 | 申請日: | 2021-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN113388814B | 公開(公告)日: | 2023-09-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李民國;畢德鋒;羅書成;李成勝 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢天馬微電子有限公司;武漢天馬微電子有限公司上海分公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京匯思誠業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11444 | 代理人: | 張育英 |
| 地址: | 430205 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 坩堝 裝置 | ||
本發(fā)明實施例提供了一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置,涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,提高了蒸鍍形成的薄膜質(zhì)量。蒸鍍坩堝包括:坩堝主體,包括用于形成容納腔的坩堝底壁和坩堝側(cè)壁;遮擋組件,包括至少兩個擋板,至少兩個擋板可拆卸地置于容納腔內(nèi),擋板包括阻擋片,阻擋片具有通孔,在垂直于坩堝底壁所在平面的方向上,至少兩個擋板的阻擋片之間具有間隔,且至少兩個擋板中的至少部分通孔互不交疊;坩堝上蓋,蓋合于坩堝主體上,坩堝上蓋具有坩堝口。
【技術(shù)領(lǐng)域】
本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置。
【背景技術(shù)】
相較于傳統(tǒng)的液晶顯示,有機發(fā)光二極管(Organic?Light-Emitting?Diode,OLED)顯示具有高亮度、低功耗、響應(yīng)快、發(fā)光效率高等優(yōu)勢,廣泛應(yīng)用于各類顯示裝置中。
有機發(fā)光二極管通常采用蒸鍍工藝形成。蒸鍍時,蒸鍍材料(如金屬材料或有機材料)置于蒸鍍坩堝中,蒸鍍坩堝外部利用加熱絲進行加熱,使蒸鍍材料轉(zhuǎn)換為氣態(tài),蒸鍍氣體透過蒸鍍坩堝的坩堝口逸至待蒸鍍基板上,進而在待蒸鍍基板上形成蒸鍍膜層。
然而,采用現(xiàn)有的蒸鍍坩堝所蒸鍍出來的膜層存在表面顆粒物較多、膜厚不均等不良問題,導(dǎo)致有機發(fā)光二極管的良率較低。
【發(fā)明內(nèi)容】
有鑒于此,本發(fā)明實施例提供了一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置,提高了蒸鍍形成的薄膜質(zhì)量。
一方面,本發(fā)明實施例提供了一種蒸鍍坩堝,包括:
坩堝主體,包括用于形成容納腔的坩堝底壁和坩堝側(cè)壁;
遮擋組件,包括至少兩個擋板,至少兩個所述擋板可拆卸地置于所述容納腔內(nèi),所述擋板包括阻擋片,所述阻擋片具有通孔,在垂直于所述坩堝底壁所在平面的方向上,至少兩個所述擋板的所述阻擋片之間具有間隔,且至少兩個所述擋板中的至少部分所述通孔互不交疊;
坩堝上蓋,蓋合于所述坩堝主體上,所述坩堝上蓋具有坩堝口。
另一方面,本發(fā)明實施例提供了一種蒸鍍裝置,包括上述蒸鍍坩堝。
上述技術(shù)方案中的一個技術(shù)方案具有如下有益效果:
以蒸鍍坩堝包括三個擋板為例,蒸鍍過程中濺射金屬顆粒和產(chǎn)生金屬灰時,金屬顆粒和金屬灰會被多個擋板進行層層遮擋:金屬顆粒和金屬灰逸至底部的擋板時,會被底部的擋板遮擋住一大部分,而其余未被遮擋住的金屬顆粒和金屬灰繼續(xù)向上傳輸時,會進一步被中間的擋板進一步遮擋。若還存在少量的金屬顆粒和金屬灰經(jīng)由中間的擋板逸出,該部分金屬顆粒和金屬灰還會被頂部的擋板進一步遮擋,最終使經(jīng)由坩堝口透出的金屬顆粒和金屬灰很少甚至沒有。
在本發(fā)明實施例中,通過在容納腔內(nèi)設(shè)置至少兩個擋板,并且令至少兩個擋板中的至少部分通孔錯位設(shè)置,可以使經(jīng)由某一擋板的通孔逸出的金屬顆粒和金屬灰進一步被上層的擋板遮擋住,避免金屬顆粒和金屬灰徑直傳輸至坩堝口,從而實現(xiàn)使金屬顆粒和金屬灰?guī)缀跞繑r截在坩堝內(nèi)部,無法逸出。這樣不僅減小了金屬顆粒和金屬灰附著在所蒸鍍的膜層上的風(fēng)險,有效避免由金屬顆粒導(dǎo)致的膜層被擊穿、以及由金屬灰導(dǎo)致的暗點問題,而且還可以避免坩堝堵口,提高所蒸鍍膜層的膜厚均一性,進而有效提高了產(chǎn)品良率。
此外,現(xiàn)有技術(shù)中的擋板不可拆卸地固定在坩堝主體內(nèi),當一次蒸鍍完成后,擋板無法拆卸,因而難以將擋板和坩堝主體清洗干凈,導(dǎo)致下次蒸鍍時擋板和坩堝主體內(nèi)存在異物,對所蒸鍍的膜層造成污染,而且,由于難以進行有效清洗,現(xiàn)有的蒸鍍坩堝設(shè)計容易報廢,缺乏長期實用性,應(yīng)用成本較高。而在本發(fā)明實施例中,擋板則是可拆卸地置于容納腔內(nèi)的,當一次蒸鍍完成之后,可以將擋板從坩堝主體上拆卸下來,對擋板和坩堝主體進行獨立清洗,避免下次使用時擋板和坩堝主體上存在異物,而且,該種設(shè)計可以使蒸鍍坩堝多次反復(fù)使用,應(yīng)用成本較低。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





