[發(fā)明專利]晶元搜索方法、裝置、電子設(shè)備及計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110700883.7 | 申請日: | 2021-06-23 |
| 公開(公告)號: | CN113426714B | 公開(公告)日: | 2022-08-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周贊 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳新益昌科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B07C5/36 | 分類號: | B07C5/36;B07C5/342;G06T7/00;G06T7/70 |
| 代理公司: | 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44414 | 代理人: | 梁立耀 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 搜索 方法 裝置 電子設(shè)備 計算機(jī) 可讀 存儲 介質(zhì) | ||
本申請?zhí)峁┮环N晶元搜索方法、裝置、電子設(shè)備及計算機(jī)可讀存儲介質(zhì),用于提高晶元搜索效率。該方法包括:獲取晶圓的晶圓圖及基準(zhǔn)點(diǎn)的第一位置信息,晶圓圖包含每個晶元的索引參數(shù)及位置參數(shù),第一位置信息為基準(zhǔn)點(diǎn)在擴(kuò)充藍(lán)膜前的位置信息;根據(jù)基準(zhǔn)點(diǎn)的第一位置信息、索引參數(shù)和位置參數(shù),生成晶元分布地圖,晶元分布地圖包括每個晶元相對于基準(zhǔn)點(diǎn)的位置分布信息;根據(jù)第一位置信息和第二位置信息,確定擴(kuò)充藍(lán)膜前后的第一基準(zhǔn)點(diǎn)距離變化量,第二位置信息為基準(zhǔn)點(diǎn)在擴(kuò)充藍(lán)膜后的位置信息;根據(jù)第一基準(zhǔn)點(diǎn)距離變化量對晶元分布地圖進(jìn)行修正,得到修正后的晶元分布地圖;根據(jù)修正后晶元分布地圖和執(zhí)行設(shè)備的當(dāng)前位置,確定最優(yōu)路徑和待吸取晶元。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種晶元搜索方法、裝置、電子設(shè)備及計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)。
背景技術(shù)
目前,搜索晶元的方式為全局掃描法,具體通過檢測設(shè)備對晶圓表面進(jìn)行掃描并檢測,然后通過分選設(shè)備對晶元進(jìn)行分選。但該全局掃描方式獲取到晶元離散分布情況后,需在局部視野下實時搜索晶元,這會導(dǎo)致搜索晶元效率低下,無法滿足實際生產(chǎn)需求。
發(fā)明內(nèi)容
本申請實施例提供了晶元搜索方法、裝置、電子設(shè)備及計算機(jī)可讀存儲介質(zhì),可以解決晶元搜索效率低下的問題。
第一方面,本申請實施例提供了一種晶元搜索方法,包括:
獲取晶圓的晶圓圖及基準(zhǔn)點(diǎn)的第一位置信息,所述晶圓圖包含每個晶元的索引參數(shù)及位置參數(shù),所述晶圓包括多個所述晶元,所述第一位置信息為所述基準(zhǔn)點(diǎn)在擴(kuò)充藍(lán)膜前的位置信息;
根據(jù)所述基準(zhǔn)點(diǎn)的第一位置信息、所述索引參數(shù)和所述位置參數(shù),生成晶元分布地圖,所述晶元分布地圖包括每個所述晶元相對于所述基準(zhǔn)點(diǎn)的位置分布信息;
根據(jù)所述第一位置信息和第二位置信息,確定出擴(kuò)充藍(lán)膜前后的第一基準(zhǔn)點(diǎn)距離變化量,所述第二位置信息為所述基準(zhǔn)點(diǎn)在擴(kuò)充藍(lán)膜后的位置信息;
根據(jù)所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)距離變化量對所述晶元分布地圖進(jìn)行修正,得到修正后的晶元分布地圖;
根據(jù)所述修正后的晶元分布地圖和執(zhí)行設(shè)備的當(dāng)前位置,確定最優(yōu)路徑和待吸取晶元,所述最優(yōu)路徑為所述執(zhí)行設(shè)備從所述當(dāng)前位置到所述待吸取晶元的位置的最短路徑,所述執(zhí)行設(shè)備用于吸取晶元。
進(jìn)一步的,所述晶圓圖還包含測試參數(shù);所述方法還包括:
根據(jù)所述測試參數(shù)剔除不符合預(yù)設(shè)條件的晶元,得到良品晶元;
根據(jù)所述基準(zhǔn)點(diǎn)的第一位置信息、所述索引參數(shù)和所述位置參數(shù),生成晶元分布地圖,包括:
根據(jù)所述第一位置信息、所述良品晶元對應(yīng)的所述索引參數(shù)和所述位置參數(shù),生成所述晶元分布地圖。
進(jìn)一步的,根據(jù)所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)距離變化量對所述晶元分布地圖進(jìn)行修正,得到修正后的晶元分布地圖,包括:
根據(jù)所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)距離變化量,確定相鄰所述晶元之間的距離變化量,得到晶元距離變化量;
根據(jù)所述晶元距離變化量,修正所述晶元分布地圖。
進(jìn)一步的,確定最優(yōu)路徑和待吸取晶元之后,還包括:
根據(jù)所述第二位置信息及第三位置信息,確定出吸取晶元前后的第二基準(zhǔn)點(diǎn)距離變化量,所述第三位置信息為所述基準(zhǔn)點(diǎn)在吸取晶元后的位置信息;
根據(jù)所述第二基準(zhǔn)點(diǎn)距離變化量,對所述晶元分布地圖進(jìn)行修正,得到修正后的晶元分布地圖。
進(jìn)一步的,確定最優(yōu)路徑和待吸取晶元之后,還包括:
獲取在固晶點(diǎn)處所述執(zhí)行設(shè)備的第一傳感器狀態(tài)及固晶點(diǎn)圖像;
根據(jù)所述第一傳感器狀態(tài)及所述固晶點(diǎn)圖像,確定已吸取晶元的生產(chǎn)狀態(tài);
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