[發(fā)明專利]基片處理裝置和基片處理方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110691128.7
• 申請日: 2021-06-22
• 公開（公告）號: CN113926615A
• 公開（公告）日: 2022-01-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 太田義治;三根陽介
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: B05B13/02
• 分類號: B05B13/02
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;池兵

1.一種基片處理裝置，其特征在于，包括：

引導(dǎo)部，其沿著基片的輸送方向延伸；

輸送裝置，其用于沿著所述輸送方向輸送所述基片；和

加工部，其用于對沿著所述輸送方向被輸送的所述基片實(shí)施加工處理，

所述輸送裝置包括：

保持部，其用于保持所述基片；

移動部，其能夠支承所述保持部、并且沿著所述引導(dǎo)部移動；和

調(diào)整部，其用于對所述移動部的在與所述輸送方向正交的方向上的位置進(jìn)行調(diào)整，所述調(diào)整部的至少一部分與所述移動部設(shè)置在同一水平面上。

2.如權(quán)利要求1所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述移動部包括一對側(cè)壁部，該一對側(cè)壁部與所述引導(dǎo)部的在與所述輸送方向正交的方向上的一對側(cè)面相對，

所述調(diào)整部分別設(shè)置在所述一對側(cè)面中的一個側(cè)面與所述一對側(cè)壁部中的一個側(cè)壁部之間以及所述一對側(cè)面中的另一個側(cè)面與所述一對側(cè)壁部中的另一個側(cè)壁部之間。

3.如權(quán)利要求1或2所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述輸送裝置包括驅(qū)動部，該驅(qū)動部具有與所述移動部連接的臂，能夠經(jīng)由所述臂使所述移動部沿著所述引導(dǎo)部移動，

所述臂在高度方向上與所述移動部重疊。

4.如權(quán)利要求3所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述輸送裝置包括轉(zhuǎn)動部，該轉(zhuǎn)動部用于將所述保持部以可相對于所述移動部轉(zhuǎn)動的方式支承，

所述輸送裝置能夠利用所述驅(qū)動部、所述調(diào)整部和所述轉(zhuǎn)動部來調(diào)整所述基片相對于所述輸送方向的朝向。

5.如權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述加工部包括用于對所述基片涂敷功能液的涂敷部。

6.如權(quán)利要求5所述的基片處理裝置，其特征在于：

包括臺部，該臺部用于從下方對由所述保持部保持的所述基片吹送氣體，來調(diào)整所述基片的浮起高度，

所述輸送裝置能夠使由所述臺部調(diào)整了所述浮起高度的所述基片沿著所述輸送方向移動，

所述涂敷部能夠?qū)τ伤雠_部調(diào)整了所述浮起高度的所述基片涂敷所述功能液。

7.如權(quán)利要求5或6所述的基片處理裝置，其特征在于：

所述涂敷部能夠通過對所述基片釋放所述功能液，來將所述功能液涂敷在所述基片上。

8.一種基片處理方法，其特征在于，包括：

保持步驟，由保持部保持基片；

調(diào)整步驟，利用調(diào)整部在與所述基片的輸送方向正交的方向上對移動部的位置進(jìn)行調(diào)整，其中，所述移動部能夠沿著引導(dǎo)部移動、并且支承所述保持部，所述引導(dǎo)部沿著所述輸送方向延伸，所述調(diào)整部的至少一部分與所述移動部設(shè)置在同一水平面上；和

加工步驟，對沿著所述輸送方向被輸送的所述基片實(shí)施加工處理。