[發(fā)明專利]能夠降低頭部氧含量的大直徑單晶硅生產(chǎn)方法及裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110688408.2 | 申請(qǐng)日: | 2021-06-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113417003A | 公開(公告)日: | 2021-09-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 伊冉;王黎光;張興茂;閆龍;李小紅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 寧夏中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C30B15/00 | 分類號(hào): | C30B15/00;C30B15/20;C30B29/06 |
| 代理公司: | 寧夏三源鑫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 64105 | 代理人: | 孫彥虎 |
| 地址: | 750000 寧夏回族自*** | 國(guó)省代碼: | 寧夏;64 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 能夠 降低 頭部 含量 直徑 單晶硅 生產(chǎn) 方法 裝置 | ||
本發(fā)明提供一種能夠降低頭部氧含量的大直徑單晶硅生產(chǎn)方法及裝置,屬于單晶硅生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。生產(chǎn)時(shí),單晶硅原料化料后,增加降氧處理過程,對(duì)硅熔湯進(jìn)行攪拌的同時(shí),提高氬氣流量至化料結(jié)束后氬氣流量的1.5倍~3倍,和/或提高拉晶爐的爐內(nèi)壓力為化料結(jié)束后爐內(nèi)壓力的1.5倍~3倍,實(shí)踐結(jié)果表明,采用上述手段能夠有效地降低單晶硅晶棒的頭部氧含量約50%,有效打破了大直徑單晶硅晶棒頭部氧含量無法進(jìn)一步降低的技術(shù)瓶頸。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于單晶硅生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種能夠降低頭部氧含量的大直徑單晶硅生產(chǎn)方法及裝置。
背景技術(shù)
直拉法硅單晶生長(zhǎng)過程中,晶棒頭部的氧含量往往偏高,影響晶體硅和器件的性能,降低硅太陽能電池的光電轉(zhuǎn)化效率。現(xiàn)有技術(shù)中,降低晶棒頭部氧含量的主要方式包括調(diào)節(jié)晶轉(zhuǎn)和/或堝轉(zhuǎn)、調(diào)節(jié)爐壓、調(diào)節(jié)氬氣流量、改變導(dǎo)流筒尺寸等。
然而,在生產(chǎn)8吋以上的大直徑單晶硅晶棒時(shí),導(dǎo)流筒尺寸一經(jīng)設(shè)計(jì)定型,不易輕易做出調(diào)整。而通過調(diào)節(jié)晶轉(zhuǎn)和/或堝轉(zhuǎn)、調(diào)節(jié)爐壓、調(diào)節(jié)氬氣流量等方式僅能一定程度降低晶棒頭部氧含量(例如,生產(chǎn)8吋單晶硅晶棒時(shí),氧含量最優(yōu)能達(dá)到20ppma左右),但達(dá)到瓶頸后,晶棒頭部氧含量難以通過改變上述條件進(jìn)一步降低。
現(xiàn)有技術(shù)中,專利號(hào)為201610727739.1的中國(guó)發(fā)明專利公開了一種用于MCZ法拉制單晶硅的降氧工藝和裝置,表明生產(chǎn)小直徑(4吋)單晶硅晶棒時(shí),在化料完成后,通過攪拌的方式,能夠有效地降低溶硅中的氧含量,降低單晶硅頭部氧含量。然而,實(shí)踐表明,在生產(chǎn)大直徑單晶硅時(shí),化料完成后對(duì)硅熔湯進(jìn)行攪拌,并不能進(jìn)一步降低晶棒的頭部氧含量。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供一種能夠降低頭部氧含量的大直徑單晶硅生產(chǎn)方法及裝置,以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的大直徑單晶硅晶棒拉制時(shí),晶棒頭部氧含量無法進(jìn)一步降低的技術(shù)問題。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
一種能夠降低頭部氧含量的大直徑單晶硅生產(chǎn)方法,包括以下步驟:
化料:將硅料熔化,得到硅熔湯;其中,化料結(jié)束后,氬氣流量為a,拉晶爐的爐內(nèi)壓力為b,坩堝轉(zhuǎn)速為c;
降氧處理:攪拌硅熔湯,同時(shí)提高氬氣流量至1.5a~3a和/或提高爐內(nèi)壓力至1.5b~3b。
優(yōu)選地,步驟“降氧處理”中,攪拌方向與坩堝旋轉(zhuǎn)方向相反,且攪拌速率為1c~3c。
優(yōu)選地,步驟“降氧處理”中,攪拌硅熔湯,同時(shí)提高氬氣流量至2a和/或提高爐內(nèi)壓力至2b。
優(yōu)選地,步驟“降氧處理”中,攪拌硅熔湯,同時(shí)提高氬氣流量至2a,并提高爐內(nèi)壓力至2b。
一種能夠降低頭部氧含量的大直徑單晶硅生產(chǎn)裝置,包括單晶爐爐體、設(shè)置在所述單晶爐爐體上的籽晶提升旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)及設(shè)置在所述單晶爐爐體內(nèi)的坩堝,所述籽晶提升旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括重錘及驅(qū)動(dòng)所述重錘轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)組件,還包括攪拌器,所述攪拌器能夠與所述重錘可拆卸連接,且所述攪拌器端部能夠伸入所述坩堝內(nèi)部。
優(yōu)選地,所述攪拌器包括連接軸,所述連接軸的一端設(shè)置有連接螺紋,所述連接螺紋能夠螺接于所述重錘的下端。
優(yōu)選地,所述攪拌器還包括設(shè)置在所述連接軸下端的至少兩個(gè)高純石英槳葉,所述高純石英槳葉設(shè)置為弧形面。
優(yōu)選地,所述連接軸上設(shè)置有卡槽。
優(yōu)選地,所述高純石英槳葉的高度為坩堝高度的1/3~1/2。
優(yōu)選地,所述高純石英槳葉的葉展為坩堝半徑的1/3~1/2。
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