[發(fā)明專利]智能型坐標轉(zhuǎn)換校正方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110680060.2 | 申請日: | 2017-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN113361225A | 公開(公告)日: | 2021-09-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 呂一云 | 申請(專利權(quán))人: | 敖翔科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F30/392 | 分類號: | G06F30/392;G06F30/398;H01L21/66 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務(wù)所 31272 | 代理人: | 董科 |
| 地址: | 中國臺灣新竹縣竹東*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 智能型 坐標 轉(zhuǎn)換 校正 方法 | ||
1.一種智能型坐標轉(zhuǎn)換校正方法,由坐標轉(zhuǎn)換校正系統(tǒng)來執(zhí)行,所述坐標轉(zhuǎn)換校正系統(tǒng)包括數(shù)據(jù)處理裝置及存儲裝置,其特征在于,所述智能型坐標轉(zhuǎn)換校正方法包括:
提供設(shè)計布局圖,并儲存于所述存儲裝置中,所述設(shè)計布局圖中配置復(fù)數(shù)條線路;
執(zhí)行晶圓制造程序,是于半導(dǎo)體廠根據(jù)所述設(shè)計布局圖將所述線路形成在晶圓上;
執(zhí)行晶圓缺陷掃描,是通過缺陷檢測機臺掃描所述晶圓以取得缺陷掃描數(shù)據(jù),并將所述缺陷掃描數(shù)據(jù)經(jīng)過所述數(shù)據(jù)處理裝置處理成缺陷文字及影像數(shù)據(jù)文件后,儲存于所述存儲裝置中,其中,所述缺陷文字及影像數(shù)據(jù)文件包含所述晶圓上的多個缺陷數(shù)據(jù),而各所述缺陷數(shù)據(jù)至少包括缺陷坐標、缺陷尺寸、缺陷面積及缺陷影像的圖案的強度值;
所述數(shù)據(jù)處理裝置調(diào)整單位尺寸,是將所述缺陷影像的單位尺寸及所述設(shè)計布局圖的單位尺寸調(diào)整成一致;
所述數(shù)據(jù)處理裝置執(zhí)行坐標轉(zhuǎn)換程序,是由所述數(shù)據(jù)處理裝置自所述缺陷文字及影像數(shù)據(jù)文件中,取得所述缺陷影像的圖案的缺陷坐標(X1,Y1),并根據(jù)所述缺陷坐標(X1,Y1)轉(zhuǎn)換至所述設(shè)計布局圖中所述線路的相對坐標作為第一坐標(X2,Y2);及
所述數(shù)據(jù)處理裝置執(zhí)行坐標校正程序,包括:
用戶執(zhí)行手動比對所述缺陷影像的圖案與所述設(shè)計布局圖中所述線路的圖案,以手動方式將所述缺陷影像的位置在所述設(shè)計布局圖的所述線路上相對的位置標示出新的坐標作為第二坐標(X2’,Y2’);
所述數(shù)據(jù)處理裝置取得校正后的坐標偏差量,是當所述設(shè)計布局圖上的所述第一坐標(X2,Y2)與所述第二坐標(X2’,Y2’)不在同一個坐標位置時,可以由所述數(shù)據(jù)處理中心取得所述校正后的坐標偏差量(X2’-X2,Y2’-Y2),所述校正后的坐標偏差量(X2’-X2,Y2’-Y2)包括經(jīng)過統(tǒng)計分析的平均坐標精度值及坐標精度的標準偏差值;及
將所述平均坐標精度值及所述坐標精度的標準偏差值導(dǎo)入所述坐標轉(zhuǎn)換校正系統(tǒng),為了基于所述校正后的坐標偏差量(X2’-X2,Y2’-Y2)將所述缺陷坐標(X1,Y1)校正至所述第二坐標(X2’,Y2’)。
2.如權(quán)利要求1所述的智能型坐標轉(zhuǎn)換校正方法,其特征在于,所述手動方式包括在顯示器屏幕上進行比對、統(tǒng)計,及在所述顯示器屏幕上將所述缺陷影像的圖案及所述設(shè)計布局圖的所述線路執(zhí)行坐標對準。
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