[發明專利]移動體裝置和曝光裝置以及器件制造方法

在審

• 申請號: 202110676405.7
• 申請日: 2014-06-26
• 公開（公告）號: CN113359397A
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發明（設計）人: 柴崎祐一
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/687;H01L21/68
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;閆劍平

經由配置于滑塊(22)上的6根桿構件(23₁～23₃和24₁～24₃)而實質上動態地支承搭載有晶圓臺(WTB)的支承構件(25)。另外，配置連結構件(29)，該連結構件(29)與設于支承構件(25)的Y軸方向兩端的薄板狀(平板狀)的緣部(25c)以隔著規定的間隙而不接觸的方式相對。通過這樣，利用與緣部(25c)相對的連結構件(29)(擠壓阻尼器)來消除搭載有晶圓臺(WTB)的支承構件(25)的振動。另外，由于支承構件(25)經由多個桿構件被動態地支承，所以能夠減輕伴隨著滑塊(22)變形而發生的晶圓臺(WTB)的變形。

本發明申請是國際申請日為2014年6月26日、國際申請號為PCT/JP2014/066919、進入中國國家階段的國家申請號為201480047670.7、發明名稱為“移動體裝置和曝光裝置以及器件制造方法”的發明申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及一種移動體裝置和曝光裝置以及器件制造方法，特別是涉及一種具有保持著物體并在6個自由度方向上移動的移動體在內的移動體裝置和具有該移動體裝置的曝光裝置以及使用該曝光裝置的器件制造方法。

背景技術

以往，在制造半導體元件(集成電路等)、液晶顯示元件等電子器件(微型器件)的光刻工序中，主要使用步進重復方式的投影曝光裝置(所謂的步進機)或者步進掃描方式的投影曝光裝置(所謂的掃描步進機(也稱為掃描儀))等。

在這種曝光裝置中，作為保持著成為曝光對象的晶圓或者玻璃板等基板并進行二維移動的載臺(晶圓載臺)，成為主流的是將粗動載臺與微動載臺組合而成的粗微動分離型的載臺，其中，粗動載臺產生很大的動力但控制性低，微動載臺搭載于粗動載臺上，只產生很小的動力并與粗動載臺相比被微小驅動，其控制性高(例如參照專利文獻1)。

但是，粗微動分離型的載臺比較容易提高定位精度，另一方面，由于在微動載臺設有真空吸附或者靜電吸附晶圓的真空卡盤或者靜電卡盤等卡盤構件，所以需要將用于供給電力或者真空等所需能量的電纜或者管道等與微動載臺連接。除此之外，即使使用例如在載臺側不需要布線的動磁型線性電機等來作為驅動粗動載臺的粗動用驅動裝置，而由于在粗動載臺搭載用于驅動微動載臺的微動用驅動裝置，所以也必須將供給微動用驅動裝置用的電力等的所需能量供給用電纜與粗動載臺連接。如此，粗微動分離型的載臺存在裝置復雜、重量增加以及成本升高的缺點。

作為解決粗微動載臺的這些缺點的方法，考慮不是設置粗動載臺和微動載臺這兩個載臺，而采用一個載臺作為晶圓載臺，進行面向實用化的開發。

發明內容

發明人為了粗微動一體型的晶圓載臺的實用化而不斷銳意研究，最近發現不僅因為在驅動載臺時的振動，還可能因為例如在由例如平面電機驅動載臺的情況下，設有該平面電機的動子的滑塊構件(載臺主體)的熱變形等，而導致保持晶圓的晶圓臺的定位精度變差。

本發明是鑒于上述情況而提出的，根據其第一方案，提供一種移動體裝置，其能夠使由保持構件保持的物體移動，該移動體裝置具有：基座構件；支承構件，其與所述基座構件連接，并支承所述保持構件；以及減振部，其配置在所述基座構件與所述保持構件之間，抑制所述支承構件的振動。

由此，利用設于基座構件與保持構件之間的減振部來消除對保持物體的保持構件進行支承的支承構件的振動。另外，由于保持構件由與基座構件連接的支承構件支承，所以能夠減輕伴隨著基座構件的變形而發生的保持構件的變形。

根據本發明的第二方案，提供一種曝光裝置，其用能量束對物體進行曝光，該曝光裝置具有：第一方案的移動體裝置；以及向所述物體照射所述能量束來在所述物體上生成圖案的圖案生成裝置。

根據本發明的第三方案，提供一種器件制造方法，該器件制造方法包括：使用第二方案的曝光裝置對物體進行曝光的步驟；以及使曝光后的所述物體顯影的步驟。

附圖說明