[發(fā)明專利]移動體裝置和曝光裝置以及器件制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110676405.7
• 申請日: 2014-06-26
• 公開（公告）號: CN113359397A
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發(fā)明（設計）人: 柴崎祐一
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/687;H01L21/68
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;閆劍平

1.一種移動體裝置，其具有保持物體并可相對于基座移動的移動體、以及具有設置于所述移動體的動子及設置于所述基座的定子的驅動裝置，所述移動體裝置的特征在于，

所述移動體具有滑塊、支承構件以及保持構件，所述動子附接于所述滑塊，所述支承構件動態(tài)地支承于所述滑塊，所述保持構件支承于所述支承構件，

所述驅動裝置為平面電機，該平面電機構成為使用在所述動子與所述定子之間產生的電磁力使保持于所述移動體上的所述物體相對于所述基座在6個自由度方向上移動。

2.根據(jù)權利要求1所述的移動體裝置，其特征在于，

所述平面電機具有包括多個永磁鐵的磁鐵單元以及包括多個線圈的線圈單元，

所述磁鐵單元以及所述線圈單元的一方設置于所述滑塊的下表面，

所述磁鐵單元以及所述線圈單元的另一方配置于所述基座。

3.根據(jù)權利要求1所述的移動體裝置，其特征在于，

用于檢測所述移動體的位置的編碼器系統(tǒng)的一部分設置在所述支承構件上。

4.根據(jù)權利要求1所述的移動體裝置，其特征在于，

所述移動體包括配置在所述滑塊上的框架，

壓膜阻尼器形成在所述支承構件的表面與所述框架的與所述滑塊相對置的表面之間。

5.根據(jù)權利要求4所述的移動體裝置，其特征在于，

所述壓膜阻尼器包括彼此分離的多個壓膜阻尼器。

6.根據(jù)權利要求5所述的移動體裝置，其特征在于，

所述多個壓膜阻尼器關于所述保持構件的中心彼此對稱配置。

7.根據(jù)權利要求1所述的移動體裝置，其特征在于，

還包括可相對于保持所述物體的所述保持構件移動的上下運動構件，所述上下運動構件支承于所述滑塊。

8.根據(jù)權利要求7所述的移動體裝置，其特征在于，

所述移動體包括配置在所述滑塊上的框架，所述上下運動構件借助所述框架支承于所述滑塊。

9.根據(jù)權利要求1所述的移動體裝置，其特征在于，

所述支承構件通過多個桿構件而支承在所述滑塊的上方。

10.根據(jù)權利要求1所述的移動體裝置，其特征在于，

還包括制冷劑供給裝置，該制冷劑供給裝置與在所述滑塊內形成的流路連接。

11.根據(jù)權利要求1所述的移動體裝置，其特征在于，

還包括設置于所述滑塊的載臺裝置，

所述載臺裝置裝有將管道以及布線一體化的能量供給管。

12.根據(jù)權利要求11所述的移動體裝置，其特征在于，

所述載臺裝置包括載臺基座以及載臺構件，所述載臺構件夾持所述能量供給管，并且支承于配置于所述滑塊的所述載臺基座。