[發(fā)明專利]一種產(chǎn)品外觀檢測設(shè)備的校準(zhǔn)方法及標(biāo)定塊有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110667773.5 | 申請日: | 2021-06-16 |
| 公開(公告)號: | CN113376170B | 公開(公告)日: | 2023-01-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 盧亞賓;陳淼淼;馬行;王聚;唐警特 | 申請(專利權(quán))人: | 博眾精工科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/88 | 分類號: | G01N21/88;G01N21/01;H04M1/24 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 215200 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 產(chǎn)品 外觀 檢測 設(shè)備 校準(zhǔn) 方法 標(biāo)定 | ||
1.一種產(chǎn)品外觀檢測設(shè)備的校準(zhǔn)方法,其特征在于,包括:
S1、將多個第一標(biāo)定板(2)設(shè)置于特征標(biāo)定塊(1)的各個面上;
S2、通過圖像處理算法計(jì)算得出所述特征標(biāo)定塊(1)每個面上的所述第一標(biāo)定板(2)的平均灰度方差G,調(diào)整設(shè)備的方位使所述平均灰度方差G小于預(yù)設(shè)灰度方差;
S3、通過圖像處理算法提取所述特征標(biāo)定塊(1)上設(shè)置有刻度標(biāo)尺(3)的刻度區(qū)域并測量刻度間的像素間隔;
調(diào)整所述設(shè)備與所述特征標(biāo)定塊(1)之間的間距,使像素間隔處于預(yù)設(shè)像素間隔范圍內(nèi),以使對應(yīng)的所述特征標(biāo)定塊(1)的實(shí)際長度處于預(yù)設(shè)長度范圍內(nèi);
S4、獲取設(shè)置在所述特征標(biāo)定塊(1)上的箭頭(4)的頂點(diǎn)所在的圖像像素坐標(biāo),調(diào)整所述設(shè)備的位置使所述圖像像素坐標(biāo)與預(yù)設(shè)坐標(biāo)的誤差在預(yù)設(shè)誤差值之內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品外觀檢測設(shè)備的校準(zhǔn)方法,其特征在于,所述步驟S2具體包括:
S21、通過圖像處理算法將所述特征標(biāo)定塊(1)各面中的所述第一標(biāo)定板(2)區(qū)域提取出來;
S22、計(jì)算得出各個所述第一標(biāo)定板(2)的灰度值Gi,計(jì)算得出所述特征標(biāo)定塊(1)中每個面上的所述第一標(biāo)定板(2)的平均灰度值
S23、根據(jù)公式計(jì)算得出所述平均灰度方差G,其中,n為所述特征標(biāo)定塊(1)每個面上的所述第一標(biāo)定板(2)的總個數(shù),i為當(dāng)前所述第一標(biāo)定板(2)的序號;
S24、調(diào)整所述設(shè)備的方位,使每個面的所述平均灰度方差G小于所述預(yù)設(shè)灰度方差。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的產(chǎn)品外觀檢測設(shè)備的校準(zhǔn)方法,其特征在于,所述步驟S1具體包括:
S11、在所述特征標(biāo)定塊(1)的頂面和側(cè)面上分別開設(shè)預(yù)設(shè)數(shù)量的凹槽(11);
S12、將多個所述第一標(biāo)定板(2)一一對應(yīng)設(shè)置于多個所述凹槽(11)內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的產(chǎn)品外觀檢測設(shè)備的校準(zhǔn)方法,其特征在于,所述步驟S3中,所述刻度標(biāo)尺(3)上的刻度最小間隔為1mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品外觀檢測設(shè)備的校準(zhǔn)方法,其特征在于,所述步驟S4中,所述箭頭(4)設(shè)于所述特征標(biāo)定塊(1)的對稱軸上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的產(chǎn)品外觀檢測設(shè)備的校準(zhǔn)方法,其特征在于,所述步驟S4中,通過圖像處理算法將所述特征標(biāo)定塊(1)上的所述箭頭(4)提取出來,再計(jì)算所述箭頭(4)頂點(diǎn)所在的圖像像素坐標(biāo)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品外觀檢測設(shè)備的校準(zhǔn)方法,其特征在于,還包括:
S5、將第二標(biāo)定板(6)包覆于灰度標(biāo)定塊(5)上的各面上;
S6、計(jì)算得出所述灰度標(biāo)定塊(5)上每個面的所述第二標(biāo)定板(6)的灰度值;
S7、調(diào)整設(shè)備位置,使所述第二標(biāo)定板(6)的灰度值小于預(yù)設(shè)面灰度值。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的產(chǎn)品外觀檢測設(shè)備的校準(zhǔn)方法,其特征在于,所述步驟S6中,調(diào)整設(shè)備中的光源強(qiáng)度,計(jì)算得出在不同光源強(qiáng)度下所述灰度標(biāo)定塊(5)上每個面的所述第二標(biāo)定板(6)的灰度值。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的產(chǎn)品外觀檢測設(shè)備的校準(zhǔn)方法,其特征在于,包括一種產(chǎn)品外觀檢測的標(biāo)定塊,所述產(chǎn)品外觀檢測的標(biāo)定塊包括:
特征標(biāo)定塊(1),
第一標(biāo)定板(2),設(shè)有多個,多個所述第一標(biāo)定板(2)分別設(shè)置于所述特征標(biāo)定塊(1)的各個面上;
刻度標(biāo)尺(3),設(shè)置于所述特征標(biāo)定塊(1)上;
箭頭(4),設(shè)置于所述特征標(biāo)定塊(1)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的產(chǎn)品外觀檢測設(shè)備的校準(zhǔn)方法,其特征在于,所述產(chǎn)品外觀檢測的標(biāo)定塊還包括灰度標(biāo)定塊(5)和第二標(biāo)定板(6),所述第二標(biāo)定板(6)包覆于所述灰度標(biāo)定塊(5)的各個面上。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
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- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
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