[發(fā)明專利]檢測方法及檢測設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110644261.7 | 申請日: | 2021-06-09 |
| 公開(公告)號: | CN113376180A | 公開(公告)日: | 2021-09-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳魯;王天民;張嵩 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳中科飛測科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/956 | 分類號: | G01N21/956;G01N21/01 |
| 代理公司: | 深圳市沈合專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44373 | 代理人: | 蔡燕翔 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市龍華區(qū)大浪街*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢測 方法 設(shè)備 | ||
1.一種檢測方法,其特征在于,用于檢測工件的位置偏差,所述工件形成有第一標(biāo)記及第二標(biāo)記,所述檢測方法包括:
利用成像裝置對準(zhǔn)所述第一標(biāo)記的目標(biāo)物理位置,采集包括所述第一標(biāo)記的圖像為第一圖像;
驅(qū)動所述成像裝置與所述工件中的至少一個運動,以使所述成像裝置對準(zhǔn)所述第二標(biāo)記的目標(biāo)物理位置;
利用所述成像裝置采集包括所述第二標(biāo)記的圖像為第二圖像;及
依據(jù)所述第一圖像與所述第二圖像檢測所述工件的位置偏差。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測方法,其特征在于,所述利用成像裝置對準(zhǔn)所述第一標(biāo)記的目標(biāo)物理位置,采集包括所述第一標(biāo)記的圖像為第一圖像,包括:
利用所述成像裝置對準(zhǔn)所述第一標(biāo)記的目標(biāo)物理位置,以第一視場采集圖像為第一初始圖像;
若所述第一初始圖像中包括所述第一標(biāo)記的圖像,則以所述第一初始圖像作為所述第一圖像;及
若所述第一初始圖像中不包括所述第一標(biāo)記的圖像,則利用所述成像裝置對準(zhǔn)所述第一標(biāo)記的目標(biāo)物理位置,以第二視場采集圖像作為所述第一圖像,所述第二視場大于所述第一視場。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測方法,其特征在于,所述利用所述成像裝置采集包括所述第二標(biāo)記的圖像為第二圖像,包括:
利用所述成像裝置以初始視場采集圖像為第二初始圖像,所述初始視場為采集得到所述第一圖像時所述成像裝置的視場。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的檢測方法,其特征在于,所述利用所述成像裝置采集包括所述第二標(biāo)記的圖像為第二圖像,包括:若所述初始視場為所述第一視場,且所述第二初始圖像不包括所述第二標(biāo)記的圖像,則利用所述成像裝置以所述第二視場采集圖像作為所述第二圖像;
在所述利用所述成像裝置采集包括所述第二標(biāo)記的圖像為第二圖像后,所述檢測方法還包括:
驅(qū)動所述成像裝置與所述工件中的至少一個運動,以使所述成像裝置對準(zhǔn)所述第一標(biāo)記的目標(biāo)物理位置;及
利用所述成像裝置以所述第二視場采集圖像作為更新后的第一圖像。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任意一項所述的檢測方法,其特征在于,所述驅(qū)動所述成像裝置與所述工件中的至少一個運動,以使所述成像裝置對準(zhǔn)所述第二標(biāo)記的目標(biāo)物理位置,包括:
驅(qū)動所述工件沿第一方向運動,及/或,驅(qū)動所述成像裝置沿第二方向運動;其中,所述第一方向與所述第二方向不同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4任意一項所述的檢測方法,其特征在于,所述根據(jù)所述第一圖像與所述第二圖像檢測所述工件的位置偏差,包括:
識別所述第一標(biāo)記在所述第一圖像中的第一圖上位置,以及所述第二標(biāo)記在所述第二圖像中的第二圖上位置;
依據(jù)所述第一圖上位置、以及所述第一標(biāo)記的目標(biāo)圖上位置,計算所述第一標(biāo)記的當(dāng)前物理位置與目標(biāo)物理位置的第一物理距離;
依據(jù)所述第二圖上位置、以及所述第二標(biāo)記的目標(biāo)圖上位置,計算所述第二標(biāo)記的當(dāng)前物理位置與目標(biāo)物理位置的第二物理距離;及
依據(jù)所述第一物理距離、所述第二物理距離、以及所述第一標(biāo)記與所述第二標(biāo)記之間的標(biāo)準(zhǔn)物理距離,計算所述工件的位置偏差。
7.一種檢測設(shè)備,其特征在于,用于檢測工件的位置偏差,所述工件形成有第一標(biāo)記及第二標(biāo)記,所述檢測設(shè)備包括:
成像裝置,所述成像裝置用于對準(zhǔn)所述第一標(biāo)記的目標(biāo)物理位置,采集包括所述第一標(biāo)記的圖像為第一圖像;及
驅(qū)動裝置,所述驅(qū)動裝置用于驅(qū)動所述成像裝置與所述工件中的至少一個運動,以使所述成像裝置對準(zhǔn)所述第二標(biāo)記的目標(biāo)物理位置;
所述成像裝置還用于采集包括所述第二標(biāo)記的圖像為第二圖像;
所述檢測設(shè)備還包括處理裝置,所述處理裝置用于依據(jù)所述第一圖像與所述第二圖像檢測所述工件的位置偏差。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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