[發(fā)明專利]X線圖像的散射修正方法、裝置、電子設(shè)備、存儲(chǔ)介質(zhì)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110637485.5
• 申請(qǐng)日: 2021-06-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113409414A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-09-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐寅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇一影醫(yī)療設(shè)備有限公司
• 主分類號(hào): G06T11/00
• 分類號(hào): G06T11/00
• 代理公司: 上海弼興律師事務(wù)所 31283
• 代理人: 楊東明;林嵩

1.一種X線圖像的散射修正方法，其特征在于，包括：

獲取采用目標(biāo)曝光參數(shù)對(duì)掃描對(duì)象進(jìn)行X線束掃描得到的投影圖像數(shù)據(jù)；

根據(jù)曝光參數(shù)與散射核函數(shù)的映射關(guān)系，確定對(duì)應(yīng)于所述目標(biāo)曝光參數(shù)的目標(biāo)散射核函數(shù)；

根據(jù)所述目標(biāo)散射核函數(shù)計(jì)算所述投影圖像數(shù)據(jù)包含的散射分布數(shù)據(jù)；

根據(jù)所述散射分布數(shù)據(jù)對(duì)所述投影圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行修正，得到對(duì)應(yīng)于所述投影圖像數(shù)據(jù)的修正圖像數(shù)據(jù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射修正方法，其特征在于，根據(jù)曝光參數(shù)與散射核的映射關(guān)系，確定對(duì)應(yīng)于所述目標(biāo)曝光參數(shù)的目標(biāo)散射核函數(shù)，包括：

根據(jù)亮場(chǎng)圖像數(shù)據(jù)和所述投影圖像數(shù)據(jù)估計(jì)所述掃描對(duì)象的厚度，所述亮場(chǎng)圖像數(shù)據(jù)和所述投影圖像數(shù)據(jù)采用相同的目標(biāo)曝光參數(shù)得到；

根據(jù)與所述厚度相關(guān)的曝光參數(shù)與散射核的映射關(guān)系，確定所述目標(biāo)散射核函數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的散射修正方法，其特征在于，還包括：

根據(jù)所述散射分布數(shù)據(jù)判斷是否符合收斂條件，其中，所述收斂條件為以下至少之一：本輪迭代計(jì)算得到的散射分布數(shù)據(jù)與上輪迭代計(jì)算得到的散射分布數(shù)據(jù)的差異達(dá)到差異閾值、所述散射分布數(shù)據(jù)的計(jì)算次數(shù)達(dá)到次數(shù)閾值；

在判斷結(jié)果為不符合所述收斂條件的情況下，根據(jù)所述亮場(chǎng)圖像數(shù)據(jù)和所述修正圖像數(shù)據(jù)重新估計(jì)所述掃描對(duì)象的厚度。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的散射修正方法，其特征在于，估計(jì)所述掃描對(duì)象的厚度之前，還包括：

對(duì)所述亮場(chǎng)圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行高斯低通濾波處理；

和/或，對(duì)所述投影圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行高斯低通濾波處理。

5.根據(jù)權(quán)利要求2-4中任一項(xiàng)所述的散射修正方法，其特征在于，還包括：

降采樣所述亮場(chǎng)圖像數(shù)據(jù)；

和/或，降采樣所述投影圖像數(shù)據(jù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的散射修正方法，其特征在于，還包括：

對(duì)所述修正圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行升采樣，以使經(jīng)過(guò)升采樣的修正圖像數(shù)據(jù)的分辨率達(dá)到分辨率閾值。

7.一種X線圖像的散射修正裝置，其特征在于，包括：

獲取模塊，用于獲取采用目標(biāo)曝光參數(shù)對(duì)掃描對(duì)象進(jìn)行X線束掃描得到的投影圖像數(shù)據(jù)；

確定模塊，用于根據(jù)曝光參數(shù)與散射核函數(shù)的映射關(guān)系，確定對(duì)應(yīng)于所述目標(biāo)曝光參數(shù)的目標(biāo)散射核函數(shù)；

計(jì)算模塊，用于根據(jù)所述目標(biāo)散射核函數(shù)計(jì)算所述投影圖像數(shù)據(jù)包含的散射分布數(shù)據(jù)；

修正模塊，用于根據(jù)所述散射分布數(shù)據(jù)對(duì)所述投影圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行修正，得到對(duì)應(yīng)于所述投影圖像數(shù)據(jù)的修正圖像數(shù)據(jù)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的散射修正裝置，其特征在于，所述確定模塊包括：

估計(jì)單元，用于根據(jù)亮場(chǎng)圖像數(shù)據(jù)和所述投影圖像數(shù)據(jù)估計(jì)所述掃描對(duì)象的厚度，所述亮場(chǎng)圖像數(shù)據(jù)和所述投影圖像數(shù)據(jù)采用相同的目標(biāo)曝光參數(shù)得到；

確定單元，用于根據(jù)與所述厚度相關(guān)的曝光參數(shù)與散射核的映射關(guān)系，確定所述目標(biāo)散射核函數(shù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的散射修正裝置，其特征在于，還包括：

判斷模塊，用于根據(jù)所述散射分布數(shù)據(jù)判斷是否符合收斂條件，其中，所述收斂條件為以下至少之一：本輪迭代計(jì)算得到的散射分布數(shù)據(jù)與上輪迭代計(jì)算得到的散射分布數(shù)據(jù)的差異達(dá)到差異閾值、所述散射分布數(shù)據(jù)的計(jì)算次數(shù)達(dá)到次數(shù)閾值；

在判斷結(jié)果為不符合所述收斂條件的情況下，調(diào)用所述估計(jì)單元以根據(jù)所述亮場(chǎng)圖像數(shù)據(jù)和所述修正圖像數(shù)據(jù)重新估計(jì)所述掃描對(duì)象的厚度。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的散射修正裝置，其特征在于，估計(jì)所述掃描對(duì)象的厚度之前，還包括：

濾波模塊，用于對(duì)所述亮場(chǎng)圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行高斯低通濾波處理，和/或?qū)λ鐾队皥D像數(shù)據(jù)進(jìn)行高斯低通濾波處理。