[發(fā)明專利]形成內(nèi)埋晶片結(jié)構(gòu)的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110625227.5 | 申請(qǐng)日: | 2021-06-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113571427A | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 呂文隆 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/50 | 分類號(hào): | H01L21/50;H01L23/367;H01L23/488;H01L23/495 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李偉 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 形成 晶片 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
本申請(qǐng)的實(shí)施例提供一種形成內(nèi)埋晶片結(jié)構(gòu)的方法,包括:提供芯片堆疊件,芯片堆疊件包括堆疊設(shè)置的第一芯片和第二芯片、以及位于第一芯片和第二芯片之間的散熱層;將芯片堆疊件設(shè)置在引線框的第一開口中,芯片堆疊件的散熱層接合至引線框。本發(fā)明的目的在于提供一種內(nèi)埋晶片結(jié)構(gòu)及其形成方法,以提高內(nèi)埋晶片結(jié)構(gòu)的散熱性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的實(shí)施例涉及內(nèi)埋晶片結(jié)構(gòu)及其形成方法。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的內(nèi)埋芯片封裝結(jié)構(gòu)主要為有機(jī)襯底基底以及引線框基底,若考慮散熱問題,則會(huì)采用引線框基底,主要是因?yàn)閮?nèi)埋芯片大多為高功率的芯片。
在現(xiàn)有的具有引線框基底的內(nèi)埋芯片封裝結(jié)構(gòu)中,其主要的特征為疊置的芯片,即將芯片分別疊置在引線框基底的上下表面,然而,如果想要整體封裝結(jié)構(gòu)的厚度變小,則需要對(duì)引線框基底進(jìn)行挖凹槽的設(shè)計(jì)以容納芯片,但是對(duì)于日益變小的引線框(例如厚度小于50μm時(shí)),要在引線框兩側(cè)形成凹槽且保有芯片焊盤則難以操作。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)相關(guān)技術(shù)中存在的問題,本發(fā)明的目的在于提供一種內(nèi)埋晶片結(jié)構(gòu)及其形成方法,以提高內(nèi)埋晶片結(jié)構(gòu)的散熱性。
本申請(qǐng)的實(shí)施例提供一種形成內(nèi)埋晶片結(jié)構(gòu)的方法,包括:提供芯片堆疊件,芯片堆疊件包括堆疊設(shè)置的第一芯片和第二芯片、以及位于第一芯片和第二芯片之間的散熱層;將芯片堆疊件設(shè)置在引線框的第一開口中,芯片堆疊件的散熱層接合至引線框。
在一些實(shí)施例中,在將芯片堆疊件設(shè)置在引線框的第一開口中之前,加熱引線框以使引線框的第一開口的寬度增大,在將芯片堆疊件設(shè)置在引線框的第一開口中之后,冷卻引線框以使芯片堆疊件的散熱層的側(cè)壁接合至引線框。
在一些實(shí)施例中,第一芯片的側(cè)壁與散熱層的側(cè)壁對(duì)齊,第一芯片的側(cè)壁也接合至引線框。
在一些實(shí)施例中,芯片堆疊件的形成包括:在整塊的散熱層兩側(cè)分別附接整塊的第一芯片和多個(gè)隔開的第二芯片,切割整塊的散熱層和整塊的第一芯片以形成單片化的芯片堆疊件,單片化的芯片堆疊件包括一個(gè)第二芯片。
在一些實(shí)施例中,第二芯片的寬度小于第一芯片的寬度,第二芯片和引線框隔開。
在一些實(shí)施例中,第一開口形成為包括第一段和第二段,第一段的寬度大于第二段的寬度,散熱層接合第二段的內(nèi)壁。
在一些實(shí)施例中,在將芯片堆疊件設(shè)置在引線框的第一開口中后,將芯片堆疊件和引線框封裝至模制化合物中。
在一些實(shí)施例中,引線框具有位于第一開口旁的第二開口,對(duì)位于第二開口中的模制化合物進(jìn)行鉆孔,并在形成的第一開孔中形成通孔。
在一些實(shí)施例中,使用激光鉆孔的工藝進(jìn)行鉆孔。
在一些實(shí)施例中,模制化合物位于第一線路層上,將芯片堆疊件和引線框封裝至模制化合物中后,芯片堆疊件和引線框位于第一線路層上方。
本申請(qǐng)的實(shí)施例提供了一種內(nèi)埋晶片結(jié)構(gòu),包括:引線框,具有第一開口;芯片堆疊件,位于第一開口中,芯片堆疊件包括堆疊設(shè)置的第一芯片和第二芯片、以及位于第一芯片和第二芯片之間的散熱層,散熱層接觸引線框。
在一些實(shí)施例中,散熱層接觸引線框以在二者之間進(jìn)行熱傳遞。
在一些實(shí)施例中,散熱層包括中間金屬層以及分別設(shè)置在中間金屬層的下側(cè)和上側(cè)的第一焊接材料和第二焊接材料,第一焊接材料和第二焊接材料接合至引線框。
在一些實(shí)施例中,第一開口具有第一段及位于第一段上的第二段,第二段的寬度小于第一段的寬度,第一芯片的側(cè)壁和散熱層的側(cè)壁對(duì)齊,并且第一芯片和散熱層的接觸開口的第一段的內(nèi)壁,第二芯片與開口的第二段的內(nèi)壁隔開。
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H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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