[發明專利]校準OM和SEM坐標關系的方法和裝置、設備和存儲介質

有效

• 申請號: 202110607323.7
• 申請日: 2021-06-01
• 公開（公告）號: CN113379692B
• 公開（公告）日: 2022-10-21
• 發明（設計）人: 甘遠;薛磊;韓春營;俞宗強;蔣俊海
• 申請（專利權）人: 中科晶源微電子技術（北京）有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T7/62;G06T7/73;G06V10/74
• 代理公司: 北京市鼎立東審知識產權代理有限公司 11751
• 代理人: 陳佳妹;朱慧娟

1.一種校準OM和SEM坐標關系的方法，其特征在于，包括：

讀取由同一標準片中選取的同一標記點在工作臺上的位置和標記圖案；

其中，所述標記點在所述工作臺上的位置包括：OM模式下的第一位置和SEM模式下的第二位置；

所述標記圖案包括：OM模式下的OM標記圖案和SEM模式下的SEM標記圖案；

在OM模式下獲取OM圖像；其中，所述OM圖像為控制所述工作臺移動至所述第一位置處后拍照得到的圖像；

根據所述OM標記圖案和所述OM圖像得到第一標記點偏移量；

在SEM模式下獲取SEM圖像；所述SEM圖像為控制所述工作臺移動至所述第二位置處后拍照得到的圖像；

根據所述SEM標記圖案和所述SEM圖像得到第二標記點偏移量；

通過所述第一標記點偏移量和所述第二標記點偏移量得到所述OM和SEM坐標關系；

其中，在通過所述第一標記點偏移量和所述第二標記點偏移量得到所述OM和SEM坐標關系時包括：

根據所述第一標記點偏移量的X值、所述OM圖像的像素尺寸的X值和所述OM標記圖案的位置的X值得到OM橫向偏移量；

根據所述第一標記點偏移量的X值、所述SEM圖像的像素尺寸的X值和所述SEM標記圖案的位置的X值得到SEM橫向偏移量；

根據所述第一標記點偏移量的Y值、所述OM圖像的像素尺寸的Y值和所述OM標記圖案的位置的Y值得到OM縱向偏移量；

根據所述第一標記點偏移量的Y值、所述SEM圖像的像素尺寸的Y值和所述SEM標記圖案的位置的Y值得到SEM縱向偏移量；

通過所述OM橫向偏移量、所述SEM橫向偏移量、所述OM縱向偏移量和所述SEM縱向偏移量得到所述OM和SEM坐標關系。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述標記點為由所述標準片中選取的具有唯一標識性的圖案；

所述圖案為單個圖形和圖形陣列中的至少一種。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，根據所述OM標記圖案和所述OM圖像得到第一標記點偏移量包括：

將所述OM標記圖案和所述OM圖像進行圖像匹配得到第一相似度；

根據所述第一相似度得到所述第一標記點偏移量。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，根據所述SEM標記圖案和所述SEM圖像得到第二標記點偏移量包括：

將所述SEM標記圖案和所述SEM圖像進行圖像匹配得到第二相似度；

根據所述第二相似度得到所述第二標記點偏移量。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，通過所述OM橫向偏移量、所述SEM橫向偏移量、所述OM縱向偏移量和所述SEM縱向偏移量得到所述OM和SEM坐標關系包括：

所述OM橫向偏移量減去所述SEM橫向偏移量得到OM和SEM橫向坐標關系；

所述OM縱向偏移量減去所述SEM縱向偏移量得到OM和SEM縱向坐標關系；

通過所述OM和SEM橫向坐標關系和所述OM和SEM縱向坐標關系得到所述OM和SEM坐標關系。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，獲取所述OM圖像的像素尺寸和所述SEM圖像的像素尺寸時包括通過像素尺寸校準的方式對所述OM圖像的像素尺寸和所述SEM圖像的像素尺寸進行校準的步驟。